晶圆键合解决聚变堆包层材料在线监测难题。钨/碳化硅复合材料中集成光纤传感阵列，耐辐照键合层在1400K下光损耗＜0.1dB/m。EAST装置实测：中子通量监测误差＜0.5%，氚滞留量实时反演精度＞97%。自修复光子晶体结构延长使用寿命至10年，保障中国聚变工程实验堆安全运行。晶圆键合赋能体外心脏器官芯片。弹性光电极阵列跨尺度键合心肌组织支架，电信号同步精度±0.2ms。强心药物测试中复现QT间期延长效应，临床相关性较动物实验提升90%。微生理泵系统模拟心输出量波动，缩短新药研发周期18个月，每年节约研发费用$46亿。晶圆键合助力拓扑量子材料异质结构建与性能优化。佛山等离子体晶圆键合外协
科研团队在晶圆键合技术的低温化研究方面取得一定进展。考虑到部分半导体材料对高温的敏感性，团队探索在较低温度下实现有效键合的工艺路径，通过优化表面等离子体处理参数，增强晶圆表面的活性，减少键合所需的温度条件。在实验中，利用材料外延平台的真空环境设备，可有效控制键合过程中的气体残留，提升界面的结合效果。目前，低温键合工艺在特定材料组合的晶圆上已展现出应用潜力，键合强度虽略低于高温键合，但能更好地保护材料的固有特性。该研究为热敏性半导体材料的键合提供了新的思路，相关成果已在行业交流中得到关注。辽宁晶圆级晶圆键合加工厂商晶圆键合革新高效海水淡化膜的纳米选择性通道构建工艺。
科研团队在晶圆键合的对准技术上进行改进，针对大尺寸晶圆键合中对准精度不足的问题，开发了一套基于图像识别的对准系统。该系统能实时捕捉晶圆边缘的标记点，通过算法调整晶圆的相对位置，使对准误差控制在较小范围内。在 6 英寸晶圆的键合实验中，该系统的对准精度较传统方法有明显提升，键合后的界面错位现象明显减少。这项技术改进不仅提升了晶圆键合的工艺水平，也为其他需要高精度对准的半导体工艺提供了参考，体现了研究所的技术创新能力。
研究所将晶圆键合技术与深紫外发光二极管（UV-LED）的研发相结合，探索提升器件性能的新途径。深紫外 LED 在消毒、医疗等领域有重要应用，但其芯片散热问题一直影响着器件的稳定性和寿命。科研团队尝试通过晶圆键合技术，将 UV-LED 芯片与高导热衬底结合，改善散热路径。利用器件测试平台，对比键合前后器件的温度分布和光输出功率变化，发现优化后的键合工艺能使器件工作温度有所降低，光衰速率得到一定控制。同时，团队研究不同键合层厚度对紫外光透过率的影响，在保证散热效果的同时减少对光输出的影响。这些研究为深紫外 LED 器件的性能提升提供了切实可行的技术方案，也拓展了晶圆键合技术在特殊光电子器件中的应用。科研团队尝试将晶圆键合技术融入半导体器件封装的中试流程体系。
针对晶圆键合过程中的表面预处理环节，科研团队进行了系统研究，分析不同清洁方法对键合效果的影响。通过对比等离子体清洗、化学腐蚀等方式，观察晶圆表面的粗糙度与污染物残留情况，发现适当的表面活化处理能明显提升键合界面的结合强度。在实验中，利用原子力显微镜可精确测量处理后的表面形貌，为优化预处理参数提供量化依据。研究还发现，表面预处理的均匀性对大面积晶圆键合尤为重要，团队据此改进了预处理设备的参数分布，使 6 英寸晶圆表面的活化程度更趋一致。这些细节上的优化，为提升晶圆键合的整体质量奠定了基础。晶圆键合推动高通量DNA合成芯片的微腔精确密封与功能集成。甘肃热压晶圆键合加工厂
晶圆键合推动自发光量子点显示的色彩转换层高效集成。佛山等离子体晶圆键合外协
在异质材料晶圆键合的研究中，该研究所关注宽禁带半导体与其他材料的界面特性。针对氮化镓与硅材料的键合，团队通过设计过渡层结构，缓解两种材料热膨胀系数差异带来的界面应力。利用材料外延平台的表征设备，可观察过渡层在键合过程中的微观变化，分析其对界面结合强度的影响。科研人员发现，合理的过渡层设计能在一定程度上提升键合的稳定性，减少后期器件使用过程中的界面失效风险。目前，相关研究已应用于部分中试器件的制备，为异质集成器件的开发提供了技术支持，也为拓宽晶圆键合的材料适用范围积累了经验。佛山等离子体晶圆键合外协
