企业商机
剥离液基本参数
  • 品牌
  • 博洋化学
  • 纯度级别
  • 超纯/高纯
  • 类型
  • 醇,醚
  • 产品性状
  • 液态
剥离液企业商机

能够增强亲水性,使得剥离液亲水性良好,能快速高效地剥离溶解光刻胶。润湿剂含有羟基,为聚乙二醇、甘油中的任意一种。下面通过具体实施例对本申请作进一步详细说明。以下实施例对本申请进行进一步说明,不应理解为对本申请的限制。表一:两种不同组分的剥离液配方一和配方二所采用的基础组分基本相同,不同的是配方二中加入有润湿剂,上述所描述的润湿剂是用于增强亲水性的,滴液与产品表面间的夹角为接触角,接触角可用来衡量润湿程度,水滴角测试仪可测量接触角,从润湿角度考虑,接触角<90°,且接触角越小润湿效果越好加入润湿剂后的配方二所制得的剥离液,在滴落在高世代面板后,通过水滴角测试仪测接触角,检测图如图1所示,三次测试的接触角如下表二:上述两种不同组分的剥离液作接触角测试接触角配方一配方二测试一,加入润湿剂后的配方二所制得的剥离液,其滴落在高世代面板后,其接触角比未加入润湿剂的配方一的剥离液润湿效果更好;请参阅图2所示,将配方一所制得的剥离液以及配方二所制得的剥离液进行光刻胶剥离,图2中的阴影圆点为浸泡时间t1后光刻胶残留,明显地,可以看出配方二中t1时间后光刻胶残留量小,而配方一中产品边缘处光刻胶的残留量大。天马微电子用的哪家的剥离液?配方剥离液溶剂

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本发明**技术公开了一种印刷品胶面印刷剥离复合装置,包括主支撑架、横向支架、伺服变频电机、电机减速箱、印刷品放置箱、表面印刷结构、胶面剥离结构,所述主支撑架上方设置有所述横向支架,所述横向支架上方设置有所述伺服变频电机,所述卷边辊一侧安装有胶面收卷辊,所述胶面剥离结构一侧安装有电加热箱,所述电加热箱下方安装有热风喷头,所述热风喷头下方安装有干燥度感应器,所述干燥度感应器下方安装有电气控制箱,所述电气控制箱上方安装有液晶操作面板。有益效果在于:采用黏合方式对印刷品胶面印刷进行剥离,同时能够对印刷品胶面进行回收,节约了大量材料,降低了生产成本。AprintedpeelingcompounddeviceforprintingsurfaceprintingTheinventiondisclosesaprintedpeelingstrippingcompounddevice,whichincludesamainsupportframe,alateralbracket,aservomotor,amotordecelerationbox,aprintingbox,【技术实现步骤摘要】一种印刷品胶面印刷剥离复合装置本**技术涉及印刷品加工设备领域,本**技术涉及一种印刷品胶面印刷剥离复合装置。技术介绍胶面印又称胶上印。邮票图案误印在涂有背胶的一面。在邮票印刷过程中,不慎将邮票**涂胶纸放反而造成。邮票胶面印后。上海银蚀刻液剥离液推荐厂家苏州性价比高的剥离液。

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本发明提供的光刻胶剥离去除方法第二实施例,用于半导体制造工艺中,可应用于包括但不限于mos、finfet等所有现有技术中涉及光刻胶剥离去除的生产步骤,主要包括以下步骤:s1,在半导体衬底上淀积一层二氧化硅薄膜作为介质层;s2,旋涂光刻胶并曝光显影,形成光刻图形阻挡层;s3,执行离子注入,离子注入剂量范围为1×1013cm-2~1×1016cm-2。s4,采用氮氢混合气体执行等离子刻蚀,对光刻胶进行干法剥离,氢氮混合比例范围为4:96~30:70。s5,对衬底表面进行清洗,清洗液采用氧化硫磺混合物溶液和过氧化氨混合物溶液。本发明提供的光刻胶剥离去除方法第三实施例,用于半导体制造工艺中,可应用于包括但不限于mos、finfet等所有现有技术中涉及光刻胶剥离去除的生产步骤,主要包括以下步骤:s1,在半导体衬底上淀积一层二氧化硅薄膜作为介质层;s2,旋涂光刻胶并曝光显影,形成光刻图形阻挡层;s3,执行离子注入,离子注入剂量范围为1×1013cm-2~1×1016cm-2。s4,采用氮氢混合气体执行等离子刻蚀,对光刻胶进行干法剥离,氢氮混合比例范围为4:96~30:70。s5,对硅片执行单片排序清洗,清洗液采用h2so4:h2o2配比范围为6:1~4:1且温度范围为110℃~140℃的过氧化硫磺混合物溶液。

所述功能切换口外部并联有高纯水输入管线和沉淀剂输入管线,所述二级过滤罐的底部设有废液出口,所述一级过滤罐和二级过滤罐内部均悬设有拦截固体成分的过滤筒。上述的光刻胶废剥离液回收装置,所述一级过滤罐和二级过滤罐的结构相同,均由外壳、悬设于外壳内的过滤筒、扣装于过滤筒顶部的压盖组成,所述压盖中心设有对应进料管路的通孔,所述过滤筒由均匀布设多孔的支撑筒体、设于支撑筒体内表面的金属滤网、设于金属滤网表面的纤维滤布组成,所述支撑筒体的上沿伸出外壳顶部并利用水平翻边支撑于外壳上表面,所述金属滤网的上沿设有与支撑筒体的水平翻边扣合的定位翻边,所述支撑筒体的底面为向筒体内侧凹陷的锥面。上述的光刻胶废剥离液回收装置,所述搅拌釜设有ph计,用于检测溶液ph值。本实用新型的有益效果是:使用时,先将高纯水与光刻胶废剥离液在搅拌釜内搅拌均匀,形成固液混合物,打开一级过滤罐进料管路上的电磁阀,固液混合物进入一级过滤罐的过滤筒中,先由一级过滤罐的过滤筒过滤得到一级线性酚醛树脂,滤液由提升泵送往搅拌釜的循环料口,往复设定次数后,一级线性酚醛树脂回收完成,关闭一级过滤罐进料管路上的电磁阀。剥离液的价格哪家比较优惠?

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其包含含有钾盐的第1液、和含有溶纤剂的第2液。再者,本发明涉及印刷布线板、半导体基板、平板显示器或引线框的制造方法,其特征在于,在包括从施加有抗蚀剂的基材除去抗蚀剂的工序的印刷布线板、半导体基板、平板显示器或引线框的制造方法中,使用上述抗蚀剂的剥离液进行抗蚀剂的除去。发明效果本发明的抗蚀剂的剥离液即使是微细的布线间的抗蚀剂也能细小地粉碎。因此,本发明的抗蚀剂的剥离液适合于包括从施加有抗蚀剂的基材除去抗蚀剂的工序的印刷布线板、半导体基板、平板显示器或引线框的制造方法。具体实施方式本发明的抗蚀剂的剥离液(以下,称为“本发明剥离液”)含有氢氧化钾和溶纤剂。本发明剥离液中的钾盐没有特别限定,例如,可以举出氢氧化钾、碳酸钾等。需要说明的是,钾盐中不含相当于后述的硅酸盐的硅酸钾。这些之中推荐氢氧化钾。另外,本发明剥离液中的钾盐的含量没有特别限定,例如,推荐,更推荐,特别推荐。本发明剥离液中使用的溶纤剂是指乙二醇的醚类,例如,可以举出异丙基溶纤剂、丁基溶纤剂、二甲基溶纤剂、苯基丁基溶纤剂、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、苯基溶纤剂、苄基溶纤剂、卡必醇溶纤剂、二乙基溶纤剂等。这些之中推荐异丙基溶纤剂。另外。剥离液的组成成分是什么;广州BOE蚀刻液剥离液报价

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按照组成成分和应用工艺不同,湿电子化学品可分为通用性和功能性湿电子化学品。通用湿电子化学品以超净高纯试剂为主,一般为单组份、单功能、被大量使用的液体化学品,按照性质划分可分为:酸类、碱类、有机溶剂类和其他类。酸类包括氢氟酸、硝酸、盐酸、硫酸、磷酸等;碱类包括氨水、氢氧化钠、氢氧化钾等;有机溶剂类包括甲醇、乙醇、异丙醇、**、乙酸乙酯等;其他类包括双氧水等。功能湿电子化学品指通过复配手段达到特殊功能、满足制造中特殊工艺需求的复配类化学品,即在单一的超净高纯试剂(或多种超净高纯试剂的配合)基础上,加入水、有机溶剂、螯合剂、表面活性剂混合而成的化学品。例如剥离液、显影液、蚀刻液、清洗液等。由于多数功能湿电子化学品是复配的化学品,是混合物,它的理化指标很难通过普通仪器定量检测,只能通过应用手段来评价其有效性。配方剥离液溶剂

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