等离子清洗机根据等离子体产生方式和处理环境的不同,可分为多种类型,每种类型均针对特定应用场景进行优化。按等离子体产生方式划分,包括射频等离子清洗机、微波等离子清洗机、直流等离子清洗机等。射频等离子清洗机通过射频电源激发气体,适用于对处理均匀性要求较高的场景,如光学镜片清洗;微波等离子清洗机则利用微波能量产生高密度等离子体,在半导体先进封装... 【查看详情】
晟鼎RPS远程等离子体源产品特性:01.duli的原子发生器;02.电感耦合等离子体技术;03集成的电子控制及电源系统,实现了功率自适应调节;04内循环强制风冷散热+水冷散热,极大程度避免环境污染内部元器件;05.输入电检测,避免设备工作于异常交流输入电压;06.配置了模拟总线控制接口;07.先进的表面处理工艺保证了腔体长时间稳定的运行;... 【查看详情】
等离子清洗机的处理效果需通过科学检测方法进行评估,以确保满足工艺要求。常用的检测方法包括接触角测量仪、达因笔、表面能测试墨水等。接触角测量仪通过光学外观轮廓法,在固体样品表面滴定液滴,量化检测液滴接触角大小,接触角越小,说明清洗效果越好,表面亲水性越强。例如,在半导体封装中,通过接触角测量可评估晶圆表面活化效果,确保后续键合工... 【查看详情】
远程等离子体源RPS腔体结构,包括进气口,点火口,回流腔连通电离腔顶端与进气腔靠近进气口一侧顶部,气体由进气口进入经过进气腔到达电离腔,点火发生电离反应生成氩离子然后通入工艺气体,通过出气口排出至反应室内,部分电离气体经回流腔流至进气腔内,提高腔体内部电离程度,以便于维持工艺气体的电离,同时可提高原子离化率;电离腔的口径大于进气腔,气体在... 【查看详情】
在薄膜沉积工艺(如PVD、CVD)中,腔室内壁会逐渐积累残留膜层,这些沉积物可能由聚合物、金属或氧化物组成。随着工艺次数的增加,膜层厚度不断增长,容易剥落形成颗粒污染物,导致器件缺陷和良品率下降。RPS远程等离子源通过非接触式清洗方式,将高活性自由基(如氧自由基或氟基自由基)引入腔室,与残留物发生化学反应,将其转化为挥发性气体并排出。这种... 【查看详情】
远程等离子体源(Remote Plasma Source,RPS)是一种用于产生等离子体的装置,它通常被用于在真空环境中进行表面处理、材料改性、薄膜沉积等工艺。RPS 通过将气体输送到装置中,利用电场或者磁场产生等离子体,然后将等离子体传输到需要处理的表面区域。与传统等离子体源不同的是,RPS 通常不直接接触要处理的表面,而是在一定距离之... 【查看详情】
等离子清洗机在各行业的广泛应用已产生有效地经济效益和社会效益。以半导体行业为例,某有影响力的芯片制造商引入晟鼎精密的微波等离子清洗机后,晶圆清洗良率从92%提升至98%,单条生产线年节约成本超500万元。在3C行业,某智能手机厂商采用大气等离子清洗机后,摄像头模组组装不良率从3%降至,年减少退货损失超2000万元。在新能源领域... 【查看详情】
在PERC、TOPCon等高效晶硅太阳能电池的制造工艺中,表面钝化质量是决定电池转换效率的主要 因素之一。RPS远程等离子源应用领域深入到这一绿色能源产业的关键环节。在沉积氧化铝(Al2O3)或氮化硅(SiNx)钝化层之前,使用RPS对硅片表面进行精密清洗,可以去除原生氧化物和金属污染物,为高质量钝化界面的形成奠定基础。更重要的是,RPS... 【查看详情】
RPS远程等离子源在光伏行业的提质增效:在PERC太阳能电池制造中,RPS远程等离子源通过两步法优化背钝化层质量。首先采用H2/Ar远程等离子体清洗硅片表面,将界面复合速率降至50cm/s以下;随后通过N2O/SiH4远程等离子体沉积氧化硅钝化层,实现表面复合速率<10cm/s的优异性能。量产数据显示,采用RPS远程等离子源处理的PERC... 【查看详情】
选择适合的等离子清洗机需综合考虑应用需求、工件特性、预算和工厂条件。首先,明确清洗目标:如果是去除有机污染物,如油脂或树脂,可选择氧气基等离子清洗机;而对于金属氧化物清洗,氩气等离子体更有效。工件材料也至关重要:热敏感聚合物如PET需低温处理,而金属件可耐受较高功率。尺寸和形状方面,批量小工件适合滚筒式等离子清洗机,而大尺寸面... 【查看详情】