半导体制造对工艺洁净度和精度要求极高，任何微小的污染或损伤都可能导致器件失效。RPS远程等离子源通过其低损伤特性，在清洗和刻蚀步骤中发挥重要作用。例如，在先进节点芯片的制造中，RPS远程等离子源可用于去除光刻胶残留或蚀刻副产物，而不会对脆弱的晶体管结构造成影响。其均匀的等离子体分布确保了整个晶圆表面的处理一致性，从而减少参数波动和缺陷密度... 【查看详情】

传统等离子清洗技术（如直接等离子体）常因高能粒子轰击导致工件损伤，尤其不适用于精密器件。相比之下，RPS远程等离子源通过分离生成区与反应区，只 输送长寿命的自由基到处理区域，从而实现了真正的“软”清洗。这种技术不仅减少了离子轰击风险，还提高了工艺的可控性。例如，在MEMS器件制造中，RPS远程等离子源能够精确去除有机污染物而不影响微结构。... 【查看详情】

等离子清洗机(plasma cleaner)是高科技的一款表面处理设备，通过等离子体来达到表面处理的作用；获得清洗、活化、刻蚀、涂层等多方向的应用，解决各种行业的表面处理难题。1、等离子清洗机原理密闭的反应腔体（真空室、真空腔体）被真空泵不断抽气，从1个标准大气压下降到设定的压力值并维持真空度；通入氩、氢、氮气等工艺气体，启动等离子发生器... 【查看详情】

在半导体镀膜工艺中，基材表面的润湿性能直接影响镀膜层的附着力、均匀性与成膜质量，晟鼎精密接触角测量仪通过测量镀膜前后的接触角变化，评估镀膜工艺效果，指导工艺参数优化。镀膜前，需测量基材（如硅晶圆、玻璃）表面的接触角，确保表面清洁度与润湿性符合镀膜要求（如镀膜前基材水接触角需＜15°，避免污染物影响镀膜结合）；镀膜后，通过测量水或特定检测液... 【查看详情】

高性能光学透镜、激光器和光通信器件对薄膜（如增透膜、高反膜）的附着力和长期稳定性要求极为苛刻。任何微弱的表面污染或附着力不足都可能导致薄膜在温度循环或高能激光照射下脱落。RPS远程等离子源应用领域在此发挥着关键的预处理作用。通过使用氧或氩的远程等离子体产生的自由基，能够在不引入物理损伤的前提下，彻底清洁光学元件表面，并使其表面能比较大化。... 【查看详情】

校准方法分为用户日常校准与专业机构定期校准：用户日常校准可通过标准样品（如石英片、标准玻璃片）进行，每周 1 次，确保设备处于正常状态；专业机构定期校准需每年 1 次，由国家认可的计量机构（如中国计量科学研究院）对设备的光学系统（镜头分辨率、光源稳定性）、机械系统（样品台水平度、进样器精度）、软件算法（接触角计算准确性）进行多方面校准，出... 【查看详情】

captive bubble 法（悬泡法）是晟鼎精密接触角测量仪针对特殊样品（如多孔材料、粉末压片、透明薄膜）开发的测量方法，关键是将气泡捕获在浸没于液体中的固体样品表面，通过分析气泡与固体界面的接触角，间接获取固体表面的润湿性能，解决了 sessile drop 法无法测量多孔或高吸水材料的局限。其原理与 sessile drop 法相... 【查看详情】

RPS远程等离子源是一款基于电感耦合等离子体技术的自成一体的原子发生器，它的功能是用于半导体设备工艺腔体原子级别的清洁，使用工艺气体三氟化氮（NF3）/O2，在交变电场和磁场作用下，原材料气体会被解离，从而释放出自由基，活性离子进入工艺室与工艺室上沉积的污染材料（SIO/SIN）或者残余气体（H2O、O2、H2、N2）等物质产生化学反应，... 【查看详情】

半导体制造对工艺洁净度和精度要求极高，任何微小的污染或损伤都可能导致器件失效。RPS远程等离子源通过其低损伤特性，在清洗和刻蚀步骤中发挥重要作用。例如，在先进节点芯片的制造中，RPS远程等离子源可用于去除光刻胶残留或蚀刻副产物，而不会对脆弱的晶体管结构造成影响。其均匀的等离子体分布确保了整个晶圆表面的处理一致性，从而减少参数波动和缺陷密度... 【查看详情】

RPS远程等离子源是一款基于电感耦合等离子体技术的自成一体的原子发生器，它的功能是用于半导体设备工艺腔体原子级别的清洁，使用工艺气体三氟化氮（NF3）/O2，在交变电场和磁场作用下，原材料气体会被解离，从而释放出自由基，活性离子进入工艺室与工艺室上沉积的污染材料（SIO/SIN）或者残余气体（H2O、O2、H2、N2）等物质产生化学反应，... 【查看详情】

汽车储物盒在做静电植绒时，通常会在基材上胶前加上一层底涂，以使胶水与储物盒的粘接性更好。采用等离子体表面处理技术来替代上胶前的上底涂工艺，不仅可以活化表面提高粘接力，而且还能降低成本，工艺更加环保。为确保汽车车灯的长期使用寿命，必须对它们进行有效保护，防止水分进入。所以在车灯内胶条（凹槽深20mm）粘接工艺前可使用大气射流等离子进行表面活... 【查看详情】

RPS远程等离子源在汽车电子中的可靠性保障针对汽车电子功率模块的散热需求，RPS远程等离子源优化了界面处理工艺。通过N2/H2远程等离子体活化氮化铝基板，将热阻从1.2K/W降至0.8K/W。在传感器封装中，采用O2/Ar远程等离子体清洗焊盘，将焊点抗拉强度提升至45MPa，使器件通过3000次温度循环测试（-40℃至125℃）。RPS远... 【查看详情】