RPS远程等离子源在超导材料制备中的应用超导器件（如SQUID或量子比特）对表面污染极为敏感。RPS远程等离子源提供了一种超洁净处理方式，去除有机残留物而不引入缺陷。其低温工艺避免了超导材料的相变或降解。在约瑟夫森结制造中，RPS远程等离子源可用于精确刻蚀，确保结区的一致性。随着量子计算的发展，RPS远程等离子源成为制备高性能超导电路的关... 【查看详情】

RPS远程等离子源在医疗器械制造中的洁净保障在手术机器人精密零件清洗中，RPS远程等离子源采用特殊气体配方，将生物相容性提升至ISO10993标准。通过O2/H2O远程等离子体处理，将不锈钢表面细菌附着率降低99.9%。在植入式医疗器械制造中，RPS远程等离子源实现的表面洁净度达到ISO14644-1Class4级别，确保器件通过EC认证... 【查看详情】

RPS远程等离子源应用领域已深度扩展至2.5D/3D先进封装技术中。在硅通孔（TSV）工艺中，深硅刻蚀后会在孔内留下氟碳聚合物侧壁钝化层，必须在导电材料填充前将其完全去除，否则会导致电阻升高或互联开路。RPS远程等离子源利用其产生的氟捕获剂或还原性自由基，能选择性地高效清理 这些残留物，同时保护暴露的硅衬底和底部金属。另一方面，在晶圆-晶... 【查看详情】

接触角测量仪主要用于测量液体对固体的接触角，即液体对固体的浸润性，该仪器能测量各种液体对各种材料的接触角。该仪器对石油、印染、医药、喷涂、选矿等行业的科研生产有非常重要的作用；通过测量接触角计算表面张力、利用接触角来判断材料亲疏水性，以便确认物体表面的处理效果或者清洗效果。科研型接触角测量仪行业应用：测量液体在各种材料表面的铺展、渗透、吸... 【查看详情】

RPS远程等离子源应用领域在生物医疗器件，特别是微流控芯片、体外诊断（IVD）设备和植入式器械的制造中，扮演着表面功能化改性的重要角色。许多高分子聚合物（如PDMS、PC、COC）因其优异的生物相容性和易加工性被广 使用，但其表面通常呈疏水性，不利于细胞粘附或液体流动。RPS远程等离子源通过氧气或空气产生的氧自由基，能够高效地在这些聚合物... 【查看详情】

等离子清洗机作为一种先进的干式清洗技术，与传统湿法清洗（如溶剂浸泡、超声波清洗）和机械清洗方法相比，具有突出优势。传统湿法清洗依赖化学溶剂如异丙醇，虽然能有效去除油脂和颗粒，但存在环境污染、健康风险和废液处理问题，且溶剂可能残留导致二次污染。机械清洗如喷砂或研磨则容易损伤精密工件表面，影响尺寸精度。相比之下，等离子清洗机采用非... 【查看详情】

光伏产业中的薄膜沉积工艺（如硅基CVD）同样面临腔室污染问题。残留膜层会干扰沉积均匀性，影响太阳能电池的转换效率。RPS远程等离子源提供了一种高效的清洁解决方案，利用氧基或氟基自由基快速分解污染物，恢复腔室洁净状态。其远程设计避免了等离子体直接暴露于敏感涂层，确保了工艺安全。此外，RPS远程等离子源的高能效特性有助于降低整体能耗，符合绿色... 【查看详情】

captive bubble 法凭借对特殊样品的适配能力，在多个专业领域发挥重要作用。在膜材料检测领域，可测量多孔陶瓷膜、高分子过滤膜的表面润湿性能，评估膜材料对不同液体的渗透能力，为膜分离工艺优化提供数据支撑；在粉末材料研究中，将粉末压制成片状样品后，通过悬泡法测量其接触角，避免座滴法中液体渗透导致的测量失效，适用于催化剂、吸附剂等粉末... 【查看详情】

RPS远程等离子源如何应对高深宽比结构的清洗挑战：在半导体制造中，高深宽比结构（如深孔或沟槽）的清洗极为困难，传统方法难以渗透。RPS远程等离子源通过其高扩散性的自由基，能够深入微观结构，均匀去除残留物。例如，在3D NAND闪存制造中，RPS远程等离子源可用于蚀刻间隔层或清理 蚀刻副产物，而不导致结构坍塌。其精确的化学控制避免了过度刻蚀... 【查看详情】

锂离子电池电极材料（正极 LiCoO₂、LiFePO₄，负极石墨、硅基材料）的结构与形貌影响电池容量、循环寿命、倍率性能，退火是优化电极材料结构与性能的关键工艺，晟鼎精密 RTP 快速退火炉在电极材料制造中应用。在正极材料 LiFePO₄合成中，退火用于实现晶化与碳包覆层形成，传统退火炉采用 700-800℃、10-20 小时长时间退火，... 【查看详情】

在科研和工业领域，对于材料表面性能的研究日益深入，特别是对大尺寸材料表面润湿性的评估，成为了一个重要的研究方向。为了满足这一需求，大尺寸接触角测量仪应运而生。这种测量仪不仅具备传统接触角测量仪的功能，而且能够应对更大尺寸的样品，为科研人员提供了更为广阔的研究空间。大尺寸接触角测量仪的意义在于其能够准确、快速地测量大尺寸材料表面的接触角，从... 【查看详情】

RPS远程等离子源采用独特的空间分离设计，将等离子体激发区与工艺处理区物理隔离。在激发腔内通过射频电源将工艺气体（如O2、CF4、N2等）电离形成高密度等离子体，而长寿命的活性自由基则通过输运系统进入反应腔室。这种设计使得RPS远程等离子源能够在不直接接触工件的情况下，实现表面清洗、刻蚀和活化等工艺。在半导体前端制造中，RPS远程等离子源... 【查看详情】