接触角测量仪主要用于测量液体对固体的接触角，即液体对固体的浸润性，该仪器能测量各种液体对各种材料的接触角。该仪器对石油、印染、医药、喷涂、选矿等行业的科研生产有非常重要的作用；通过测量接触角计算表面张力、利用接触角来判断材料亲疏水性，以便确认物体表面的处理效果或者清洗效果。科研型接触角测量仪行业应用：测量液体在各种材料表面的铺展、渗透、吸... 【查看详情】

在实际测量中，液体样品在测试过程中，经过的时间不同拟合的变化。理想情况下，通过自动生成的基线绘制处观图，来获得线性关系。根据该线坡度计算接触角和入渗速率。此外，为了计算接触角，除了液体表面张力和粘度值外，还需要填充粉末的毛细管半径值。该毛细管半径值通过测量粉末的足够湿的液体并将接触角视为0°来进行实验测定。晟鼎接触角测试，是左右两边一并测... 【查看详情】

常用的计算模型包括 Owens-Wendt 模型、Van Oss-Chaudhury-Good 模型（简称 VCG 模型）：Owens-Wendt 模型适用于多数低能固体材料（如高分子材料），需测量 2 种液体（1 种极性液体，如蒸馏水；1 种非极性液体，如二碘甲烷）的接触角，通过建立二元方程组求解色散分量与极性分量，总表面自由能为两者之... 【查看详情】

快速退火炉如其名称所示，能够快速升温和冷却，且快速退火炉在加热过程中能够实现精确控制温度，特别是温度的均匀性，质量的退火炉在500℃以上均匀度能够保持±1℃之内，这样能够保证材料达到所需的热处理温度。快速退火过程的控制涉及时间、温度和冷却速率等参数，都可以通过温度控制系统实现，退火参数可以预先设定，以确保整个过程中的准确实施。快速退火炉其... 【查看详情】

高性能光学透镜、激光器和光通信器件对薄膜（如增透膜、高反膜）的附着力和长期稳定性要求极为苛刻。任何微弱的表面污染或附着力不足都可能导致薄膜在温度循环或高能激光照射下脱落。RPS远程等离子源应用领域在此发挥着关键的预处理作用。通过使用氧或氩的远程等离子体产生的自由基，能够在不引入物理损伤的前提下，彻底清洁光学元件表面，并使其表面能比较大化。... 【查看详情】

在医疗设备制造领域，等离子清洗机发挥着不可替代的作用，其应用涵盖从植入物、手术器械到体外诊断器件的清洗、灭菌和表面功能化。医疗产品对生物安全性和相容性的要求极为苛刻，任何表面的污染物，都可能引发血栓或免疫排斥反应。更重要的是，它能活化材料表面，通过引入羟基、羧基等极性基团，显著提高其表面能，从而极大地增强与生物涂层（如肝素、胶原蛋白）或药... 【查看详情】

在实际测量中，液体样品在测试过程中，经过的时间不同拟合的变化。理想情况下，通过自动生成的基线绘制处观图，来获得线性关系。根据该线坡度计算接触角和入渗速率。此外，为了计算接触角，除了液体表面张力和粘度值外，还需要填充粉末的毛细管半径值。该毛细管半径值通过测量粉末的足够湿的液体并将接触角视为0°来进行实验测定。晟鼎接触角测试，是左右两边一并测... 【查看详情】

评估等离子清洗机效果需结合多种方法，包括接触角测量、X射线光电子能谱（XPS）和扫描电子显微镜（SEM）。接触角测量表面亲水性变化，角度减小表明清洗活化成功；XPS分析表面元素组成，确认污染物去除和官能团引入；SEM观察表面形貌，检查有无损伤。行业标准如ASTME1829提供等离子清洗指南，确保结果可比性。东莞市晟鼎精密仪器有... 【查看详情】

等离子清洗机操作需遵循严格安全规程，以防范电击、气体泄漏和臭氧暴露等风险。首先，设备应接地良好，操作人员穿戴绝缘手套和护目镜，避免高压电源伤害。真空环境下，反应室门需有互锁装置，只有在真空释放后才能打开，避免意外暴露。等离子体处理可能生成臭氧或其它副产物，因此设备应配备排气系统，将有害气体导出至室外，或使用催化转化器分解。操作培训必不可少... 【查看详情】

晟鼎精密接触角测量仪具备表面自由能计算功能，通过测量两种或两种以上已知表面张力的液体（如蒸馏水、二碘甲烷、乙二醇）在固体表面的接触角，结合特定的理论模型（如 Owens-Wendt 模型、Van Oss-Chaudhury-Good 模型），计算固体表面的表面自由能及各分量（色散分量、极性分量、Lewis 酸碱分量），为材料表面性能的定量... 【查看详情】

RPS远程等离子源的维护与寿命延长效益：设备停机时间是制造业的主要成本来源之一。RPS远程等离子源通过定期清洁沉积腔室，减少颗粒污染引起的工艺漂移，从而延长维护周期。其高效的清洗能力缩短了清洁时间，提高了设备利用率。此外，RPS远程等离子源的模块化设计便于集成到现有系统中，无需大规模改造。用户报告显示，采用RPS远程等离子源后，平均维护间... 【查看详情】

RPS远程等离子源是一款基于电感耦合等离子体技术的自成一体的原子发生器，它的功能是用于半导体设备工艺腔体原子级别的清洁，使用工艺气体三氟化氮（NF3）/O2，在交变电场和磁场作用下，原材料气体会被解离，从而释放出自由基，活性离子进入工艺室与工艺室上沉积的污染材料（SIO/SIN）或者残余气体（H2O、O2、H2、N2）等物质产生化学反应，... 【查看详情】