sessile drop 法作为晟鼎精密接触角测量仪的基础测量方法，凭借操作简便、适配性强的优势，广泛应用于多个领域的表面性能检测。在材料研发领域，可测量静态接触角判断材料的疏水 / 亲水特性，例如通过水在高分子材料表面的接触角，区分材料是否具备超疏水性能（接触角＞150°）；在涂层工艺优化中，通过测量动态接触角（液滴铺展过程中的接触角变... 【查看详情】

接触角测量仪的光学系统构成与测量精度保障：图像传感器采用 130 万 - 500 万像素的 CMOS 工业相机，帧率≥30fps，可实时采集接触角图像，且具备图像降噪功能，减少环境光干扰导致的图像噪声。此外，光学系统还包含偏振矫正模块，可消除样品表面反光对图像的影响（如金属或光滑塑料表面的镜面反射），确保接触角轮廓提取的准确性。通过光学系... 【查看详情】

接触角测量仪的光学系统构成与测量精度保障：图像传感器采用 130 万 - 500 万像素的 CMOS 工业相机，帧率≥30fps，可实时采集接触角图像，且具备图像降噪功能，减少环境光干扰导致的图像噪声。此外，光学系统还包含偏振矫正模块，可消除样品表面反光对图像的影响（如金属或光滑塑料表面的镜面反射），确保接触角轮廓提取的准确性。通过光学系... 【查看详情】

为研究液体的发泡倾向和消泡剂的效率和工作原理，动态接触角测量仪SDC-500是用于这种应用的合适设备。它以多种高度可重复的方式使样品产生泡沫，同时不断测量泡沫和液体体积。为了更深入地了解泡沫形成和衰变，液体含量和泡沫结构的测量模块为分析提供了补充信息。界面流变模块可提供完整科学的解决方案，能将起泡性、泡沫稳定性与弹性和粘性模量等物理参数联... 【查看详情】

RPS远程等离子源在量子计算器件中的前沿应用在超导量子比特制造中，RPS远程等离子源通过O2/Ar远程等离子体去除表面磁噪声源，将量子比特退相干时间延长至100μs以上。在约瑟夫森结制备中，采用H2/N2远程等离子体精确控制势垒层厚度，将结电阻均匀性控制在±2%以内。实验结果显示，经RPS远程等离子源处理的量子芯片，保真度提升至99.95... 【查看详情】

远程等离子体源RPS反应原理：氧气作为工艺气体通入等离子发生腔后，会电离成氧离子，氧离子会与腔室里面的水分子、氧分子、氢分子、氮分子发生碰撞和产生化学反应。物理碰撞会让这些腔室原有的分子，电离成离子态，电离后氧离子和氢离子，氧离子和氮离子，氧离子和氧离子都会由于碰撞或者发生化学反应生成新的物质或者功能基团。新形成的物质或者功能基团，会更容... 【查看详情】

光伏产业中的薄膜沉积工艺（如硅基CVD）同样面临腔室污染问题。残留膜层会干扰沉积均匀性，影响太阳能电池的转换效率。RPS远程等离子源提供了一种高效的清洁解决方案，利用氧基或氟基自由基快速分解污染物，恢复腔室洁净状态。其远程设计避免了等离子体直接暴露于敏感涂层，确保了工艺安全。此外，RPS远程等离子源的高能效特性有助于降低整体能耗，符合绿色... 【查看详情】

表面自由能计算功能作为接触角测量仪的重要扩展功能，在材料研发、工艺优化、质量控制等环节具有重要应用价值。在材料成分分析中，通过表面自由能各分量的占比，可判断材料表面的化学组成与基团分布：若极性分量占比高（如＞30%），说明材料表面富含羟基（-OH）、羧基（-COOH）等极性基团；若色散分量占比高（如＞70%），则表明材料表面以烷基、芳香基... 【查看详情】

在材料科学的基础研究和新材料开发中，获得一个清洁、无污染的原始表面对于准确分析其本征物理化学性质至关重要。无论是进行XPS、AFM还是SIMS等表面分析技术，微量的表面吸附物都会严重干扰测试结果。RPS远程等离子源应用领域为此提供的解决方案。其能够在高真空或超高真空环境下，通过产生纯净的氢或氩自由基，对样品表面进行原位（in-situ）清... 【查看详情】

在PECVD、LPCVD等薄膜沉积设备中，腔室内壁积累的非晶硅、氮化硅等沉积物会降低热传导效率，导致工艺漂移。RPS远程等离子源通过定制化的气体配方（如NF3/O2混合气体），在200-400℃温度范围内实现高效腔室清洗。其中氟基自由基与硅基沉积物反应生成挥发性SiF4，清洗速率可达5-10μm/min。实际应用数据显示，采用RPS远程等... 【查看详情】

在实际测量中，液体样品在测试过程中，经过的时间不同拟合的变化。理想情况下，通过自动生成的基线绘制处观图，来获得线性关系。根据该线坡度计算接触角和入渗速率。此外，为了计算接触角，除了液体表面张力和粘度值外，还需要填充粉末的毛细管半径值。该毛细管半径值通过测量粉末的足够湿的液体并将接触角视为0°来进行实验测定。晟鼎接触角测试，是左右两边一并测... 【查看详情】

在PERC、TOPCon等高效晶硅太阳能电池的制造工艺中，表面钝化质量是决定电池转换效率的主要 因素之一。RPS远程等离子源应用领域深入到这一绿色能源产业的关键环节。在沉积氧化铝（Al2O3）或氮化硅（SiNx）钝化层之前，使用RPS对硅片表面进行精密清洗，可以去除原生氧化物和金属污染物，为高质量钝化界面的形成奠定基础。更重要的是，RPS... 【查看详情】