光刻机被称作“现代光学工业之花”，生产制造全过程极为繁杂，一台光刻机的零配件就达到10万个。ASML光刻机也不是荷兰以一国之力造出的，ASML公司的光刻机采用了美国光源设备及技术工艺，也选用了德国卡尔...

泛曝光是在不使用掩膜的曝光过程，会对未暴露的光刻胶区域进行曝光，从而可以在后续的显影过程被溶解显影。为了使光刻胶轮廓延伸到衬底，(衬底附近)光刻胶区域也应获得足够的曝光剂量。泛曝光的剂量过大并不会影响...

电子束曝光推动再生医学跨越式发展，在生物支架构建人工血管网。梯度孔径设计模拟真实血管分叉结构，促血管内皮细胞定向生长。在3D打印兔骨缺损模型中，两周实现血管网络重建，骨愈合速度加快两倍。智能药物缓释单...

科研团队在晶圆键合的界面表征技术上不断完善，利用材料分析平台的高分辨率仪器，深入研究键合界面的微观结构与化学状态。通过 X 射线光电子能谱分析，可识别界面处的元素组成与化学键类型，为理解键合机制提...

SU-8光刻胶在近紫外光(365nm-400nm)范围内光吸收度很低，且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致，可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形；它还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性;在受...

科研人员将机器学习算法引入电子束曝光的参数优化中，提高工艺开发效率。通过采集大量曝光参数与图形质量的关联数据，训练参数预测模型，该模型可根据目标图形尺寸推荐合适的曝光剂量与加速电压，减少实验试错次数。...

光刻胶原料是光刻胶产业的重要环节，原料的品质也决定了光刻胶产品品质。光刻胶上游原材料是指光刻胶化学品一级原料，可以细分为感光剂、溶剂、成膜树脂及添加剂（助剂、单体等）。在典型的光刻胶组分中，一般溶剂含...

光刻是集成电路和半导体器件制造工艺中的关键性技术，其工艺质量直接影响器件成品率、可靠性、器件性能以及使用寿命等参数指标的稳定和提高，就目前光刻工艺而言，工艺设备的稳定性、工艺材料以及人工参与的影响等都...

二氧化硅的湿法刻蚀通常使用HF。因为1∶1的HF（H2O中49%的HF）在室温下刻蚀氧化物速度过快，所以很难用1∶1的HF控制氧化物的刻蚀。一般用水或缓冲溶剂如氟化铵（NH4F）进一步稀释HF降低氧化...

研究所将电子束曝光技术应用于 IGZO 薄膜晶体管的沟道图形制备中，探索其在新型显示器件领域的应用潜力。IGZO 材料对曝光过程中的电子束损伤较为敏感，科研团队通过控制曝光剂量与扫描方式，减少电子束与...

研究所将晶圆键合技术与微纳加工工艺相结合，探索在先进半导体器件中的创新应用。在微纳传感器的制备研究中，团队通过晶圆键合技术实现不同功能层的精确叠加，构建复杂的三维器件结构。利用微纳加工平台的精密光刻与...

科研团队在晶圆键合的界面表征技术上不断完善，利用材料分析平台的高分辨率仪器，深入研究键合界面的微观结构与化学状态。通过 X 射线光电子能谱分析，可识别界面处的元素组成与化学键类型，为理解键合机制提...