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纳米压印基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620 NT,EVG6200 NT,EVG720,EVG7200,EVG7200
  • 是否定制
纳米压印企业商机

    该公司的高科技粘合剂以功能与可靠性闻名于世。根据客户的专门需求,公司对这些聚合物作出调整,使其具备其它特征。它们极其适合工业环境,在较短的生产周期时间内粘合各种微小的元件。此外,DELO紫外线LED固化设备与点胶阀的可靠度十分杰出。关于德路德路(DELO)是世界前列的工业粘合剂制造商,总部位于德国慕尼黑附近的Windach。在美国、中国、新加坡及日本均设有子公司。2019财政年,公司的780名员工创造了。该公司产品在全球范围内广泛应用于汽车、消费类电子产品与工业电子产品。几乎每一部智能手机与超过一半的汽车上都使用该公司产品。DELO的客户包括博世、戴姆勒、华为、欧司朗、西门子以及索尼等。关于EVGroup(EVG)EV集团(EVG)是为生产半导体、微机电系统(MEMS)、化合物半导体、功率器件以及纳米技术器件制造提供设备与工艺解决方案的**供应商。该公司主要产品包括晶圆键合、薄晶圆处理、光刻/纳米压印光刻技术(NIL)与计量设备,,以及涂胶机、清洗机与检测系统。EV集团创办于1980年,可为遍及全球的众多客户与合作伙伴提供各类服务与支持。EVG的热压印是一种经济高 效且灵活的制造技术,具有非常高的复制精度,可用于**小50 nm的特征尺寸。图像传感器纳米压印服务为先

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SmartNIL是一项关键的启用技术,可用于显示器,生物技术和光子应用中的许多新创新。例如,SmartNIL提供了****的全区域共形压印,以便满足面板基板上线栅偏振器的**重要标准。SmartNIL还非常适合对具有复杂纳米结构的微流控芯片进行高精度图案化,以支持下一代药 物研究和医学诊断设备的生产。此外,SmartNIL的***发展为制造具有比较高功能,**小外形尺寸和大体积创新型光子结构提供了更多的自由度,这对于实现衍射光学元件(DOE)至关重要。


特征:

体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度

专有SmartNIL ®技术,多使用聚合物印模技术

经过生产验证的分辨率低至40 nm或更小

大面积全场压印

总拥有成本比较低

在地形上留下印记

对准能力

室温过程

开放式材料平台 官方授权经销纳米压印要多少钱SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能,因此还可以实现****的吞吐量。

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IQ Aligner®:用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统

■用于光学元件的微成型应用

■用于全场纳米压印应用

■三个**控制的Z轴,用于控制压印光刻胶的总厚度变化(TTV),并在压模和基材之间实现出色的楔形补偿

■粘合对准和紫外线粘合功能


紫外线压印_紫外线固化


印章

防紫外线基材

附加印记压印纳米结构分离印记

用紫外线可固化的光刻胶旋涂或滴涂基材。随后,将压模压入光刻胶并在仍然接触的情况下通过UV光交联。

µ-接触印刷

软印章

基板上的材料

领取物料,物料转移,删除印章


HERCULES ® NIL特征:

全自动UV-NIL压印和低力剥离

**多300毫米的基材

完全模块化的平台,具有多达八个可交换过程模块(压印和预处理)

200毫米/ 300毫米桥接工具能力

全区域烙印覆盖

批量生产**小40 nm或更小的结构

支持各种结构尺寸和形状,包括3D

适用于高地形(粗糙)表面

*分辨率取决于过程和模板


HERCULES ® NIL技术数据:

晶圆直径(基板尺寸):100至200毫米/ 200和300毫米

解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率LED(i线)> 400 mW /cm²

对准:≤±3微米

自动分离:支持的

前处理:提供所有预处理模块

迷你环境和气候控制:可选的

工作印章制作:支持的


SmartNIL的主要技术是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印结果。

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EVG ® 6200 NT特征:

顶部和底部对准能力

高精度对准台

自动楔形补偿序列

电动和程序控制的曝光间隙

支持***的UV-LED技术

**小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)

敏捷处理和转换工具

台式或带防震花岗岩台的单机版


EVG ® 6200 NT附加功能:

键对准

红外对准

智能NIL ®

µ接触印刷技术数据

晶圆直径(基板尺寸)

标准光刻:75至200 mm

柔软的UV-NIL:75至200毫米

SmartNIL ®:**多至150mm

解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:软UV-NIL&SmartNIL

®


曝光源:汞光源或紫外线LED光源

对准:软NIL:≤±0.5 µm;SmartNIL ®:≤±3微米

自动分离:柔紫外线NIL:不支持;SmartNIL

®:支持


工作印章制作:柔软的UV-NIL:外部;SmartNIL ®:支持


EVG的纳米压印光刻(NIL) - SmartNIL ® 是用于大批量生产的大面积软UV纳米压印光刻工艺。四川纳米压印美元报价

EV Group提供混合和单片微透镜成型工艺,能够轻松地适应各种材料组合,以用于工作印模和微透镜材料。图像传感器纳米压印服务为先

HERCULES®NIL:完全集成的纳米压印光刻解决方案,可实现300 mm的大批量生产

■批量生产低至40 nm的结构或更小尺寸(分辨率取决于过程和模板)

■结合了预处理(清洁/涂布/烘烤/冷却)和SmartNIL®技术

■全自动压印和受控的低力分离,可很大程度地重复使用工作印章

■具备工作印章制造能力


EVG®770:连续重复的纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作

■用于晶圆级光学器件的微透镜的高 效母模制造,直至SmartNIL®的纳米结构

■不同类型的母版的简单实现

■可变的光刻胶分配模式

■分配,压印和脱模过程中的实时图像

■用于压印和脱模的原位力控制


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岱美仪器技术服务(上海)有限公司专注技术创新和产品研发,发展规模团队不断壮大。公司目前拥有较多的高技术人才,以不断增强企业重点竞争力,加快企业技术创新,实现稳健生产经营。岱美仪器技术服务(上海)有限公司主营业务涵盖半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪,坚持“质量保证、良好服务、顾客满意”的质量方针,赢得广大客户的支持和信赖。一直以来公司坚持以客户为中心、半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪市场为导向,重信誉,保质量,想客户之所想,急用户之所急,全力以赴满足客户的一切需要。

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