EVG®620NT特征：顶部和底部对准能力高精度对准台自动楔形补偿序列电动和程序控制的曝光间隙支持ZUI新的UV-LED技术ZUI小化系统占地面积和设施要求分步流程指导远程技术支持多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）敏捷处理和转换工具台式或带防震花岗岩台的单机版EVG®620NT附加功能：键对准红外对准SmartNILµ接触印刷技术数据晶圆直径（基板尺寸）标准光刻：ZUI大150毫米的碎片柔软的UV-NIL：ZUI大150毫米的碎片SmartNIL®：在100毫米范围解析度：≤40nm（分辨率取决于模板和工艺）支持流程：软UV-NIL＆SmartNIL®曝光源：汞光源或紫外线LED光源对准：软NIL：≤±0.5µmSmartNIL®：≤±3微米自动分离：柔紫外线NIL：不支持；SmartNIL®：支持工作印章制作：柔软的UV-NIL：外部：SmartNIL®：支持EVG®610和EVG®620NT / EVG®6200NT是具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统。碳化硅纳米压印
具体说来就是，MOSFET能够有效地产生电流流动，因为标准的半导体制造技术旺旺不能精确控制住掺杂的水平（硅中掺杂以带来或正或负的电荷），以确保跨各组件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一层二氧化硅（SiO2）衬底上，然后沉积一层金属或多晶硅制成的。然而这种方法可以不精确且难以完全掌控，掺杂有时会泄到别的不需要的地方，那样就创造出了所谓的“短沟道效应”区域，并导致性能下降。一个典型MOSFET不同层级的剖面图。不过威斯康星大学麦迪逊分校已经同全美多个合作伙伴携手（包括密歇根大学、德克萨斯大学、以及加州大学伯克利分校等），开发出了能够降低掺杂剂泄露以提升半导体品质的新技术。碳化硅纳米压印在纳米光学器件中，纳米压印可以用于制备纳米级的光学结构，用于改善光学器件的性能。
SmartNIL是行业领仙的NIL技术，可对小于40nm*的极小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现无人可比的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景，即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本，大批量替代光刻技术。注：*分辨率取决于过程和模板如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。
HERCULES®NIL完全模块化和集成SmartNIL®UV-NIL系统达300毫米结合EVG的SmartNIL一个完全模块化平台®技术支持AR/VR，3D传感器，光子和生物技术生产应用EVG的HERCULESNIL300mm是一个完全集成的根踪系统，将清洁，抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤与EVG专有的SmartNIL大面积纳米压印光刻（NIL）工艺结合在一个平台上，用于直径蕞大为300mm的晶圆。它是弟一个基于EVG的全模块化设备平台和可交换模块的NIL系统，可为客户提供蕞大的自由度来配置他们的系统，以蕞好地满足其生产需求，包括200mm和300mm晶圆的桥接功能。EVG的SmartNIL技术是基于紫外线曝光的全场压印技术，可提供功能强大的下一代光刻技术。
EVG®720自动SmartNIL®UV纳米压印光刻系统自动全视野的UV纳米压印溶液达150毫米，设有EVG's专有SmartNIL®技术EVG720系统利用EVG的创新SmartNIL技术和材料专业知识，能够大规模制造微米和纳米级结构。具有SmartNIL技术的EVG720系统能够在大面积上印刷小至40nm*的纳米结构，具有无人能比的吞吐量，非常适合批量生产下一代微流控和光子器件，例如衍射光学元件（DOEs）。*分辨率取决于过程和模板如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。也可以访问官网，获得更多信息。EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA是自动化的全场域纳米压印解决方案，适用于第三代基材。碳化硅纳米压印
EVG开拓了这种非常规光刻技术，拥有多年技术，掌握了NIL，并在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。碳化硅纳米压印
EVG公司技术开发和IP总监MarkusWimplinger补充说：“我们开发新技术和工艺以应对jiduan复杂的挑战，帮助我们的客户成功地将其新产品创意商业化。技术，我们创建了我们的NILPhotonics能力中心。“在具有保护客户IP的强大政策的框架内，我们为客户提供了从可行性到生产阶段的产品开发和商业化支持。这正是我们jintian与AR领域的lingxian者WaveOptics合作所要做的，为终端客户提供真正可扩展的解决方案。”EVG的NILPhotonics®能力中心框架内的协作开发工作旨在支持WaveOptics的承诺，即在工业，企业和消费者等所有主要市场领域释放AR在大众市场的应用，并遵循公司模块计划的推出。碳化硅纳米压印
