二十余年风雨兼程，点石安达®始终坚守“技术创新、品质至上、客户为本、绿色发展”初心，拒绝同质化研发，坚持每一款去膜剂产品都经过严格的配方调试、性能测试与场景适配，确保产品品质稳定、效果出众、使用安全、环保合规。从原料采购到生产加工，从品质检测到售后保障，点石安达®建立了全流程标准化体系，坚守品质底线，致力于为客户提供更具性价比、更贴合需求的去膜解决方案，助力企业降低生产成本、提升生产效率、践行环保责任，实现经济效益与社会效益的双重提升。加速型去膜剂，提升处理效率，缩短制程作业时间。珠海线路板去膜剂高效适配多场景
对于含锡半导体元件，点石安达®护锡去膜剂能够实现护锡同步去膜，保护锡层不被氧化、损伤，维持锡层的焊接性能；锡面保护剂能够在去膜后对半导体锡面进行防护，确保半导体元件的性能稳定，延长产品使用寿命。此外，点石安达®去膜剂产品的低残留、环保合规特性，能够满足半导体生产的高洁净度与环保要求，避免去膜残留对半导体性能造成影响，同时契合绿色安全的场景需求，为半导体生产提供安全、高效、环保的去膜解决方案。深圳工业去膜剂长期合作降本增效制程良率提升方案，去膜稳定，减少制程异常发生。
点石安达®选择性干膜去除剂针对性适配干膜去除场景，主打选择性剥离、温和无损，特征如下：
1.选择性剥离，精细去膜：采用选择性配方，能够精细识别干膜与其他膜层、基材，只去除干膜，不影响其他膜层与基材的性能，避免因去膜不当导致的基材损伤与产品不良，提升制程良率提优效果。
2.干膜温和剥离，无残留：配方温和，能够温和剥离干膜，避免干膜残留、脱落不彻底等问题，去膜后基材表面洁净、干爽，无任何残留，为后续表面处理、电镀等工序提供保障。
3.适配多类干膜，通用性强：能够适配不同类型的干膜，包括常规干膜、厚干膜等，适配PCB线路板、软板、半导体等多种精密基材，满足电子行业的精细去膜需求。
点石安达®铝保护剂主打铝基保护、防腐蚀，能够有效保护铝基材质，避免铝基氧化、发黑、腐蚀，同时可配合铝基板去膜剂使用，提升去膜后的铝基保护效果，特征如下：
1. 铝基保护，防氧化防腐蚀：采用保护配方，能够在铝基表面形成一层致密的保护膜，有效隔绝空气、水分等腐蚀介质，避免铝基氧化、发黑、腐蚀，维持铝基的原有色泽与导电性能。
2. 适配铝基材质，针对性强：专门适配铝基材质，包括铝基板、铝制电子元件、铝制金属零件等，能够为各类铝基产品提供的保护，延长产品使用寿命。
3. 温和无刺激，护材性好：配方温和，无强烈腐蚀性，不会对铝基材质造成损伤，能够保护铝基的原有性能，避免因保护剂使用不当导致的基材损坏，提升产品品质。 PCB线路板去膜快，点石安达®去膜剂来助力！
点石安达®公司凭借20年的精研去膜经验和博士团队的智慧结晶，打造了一系列高性能的去膜剂产品。这些产品具有高效去膜、绿色安全、基材无损、选性干膜去除等优势，广泛应用于金面去膜、铝基处理、MSAP制程、线路板脱膜、半导体用去膜等多个行业和场景。通过实际客户案例的应用验证，点石安达®去膜剂产品能够为企业提升生产效率、降低成本、保障产品质量，增强市场竞争力。
展望未来，点石安达®公司将继续坚持创新驱动发展战略，不断加大研发投入，持续优化产品性能，推出更多满足市场需求的***去膜剂产品。同时，公司将进一步加强与客户的合作与交流，深入了解客户需求，为客户提供更加个性化、专业化的解决方案。相信在点石安达®公司的努力下，去膜剂领域将迎来更加美好的明天，为工业制造的发展做出更大的贡献。 MSAP制程去膜快，点石安达®去膜剂来加速！河北精密加工去膜剂精细功能化学品
无重金属去膜配方，符合 RoHS，适配出口型产品制程。珠海线路板去膜剂高效适配多场景
点石安达®去膜剂全系列产品品类丰富，涵盖选择性干膜去除剂、去膜剂、护锡去膜剂、铝保护剂、铝基板去膜剂、去膜加速剂、锡面保护剂等，能够***覆盖金面去膜、铝基去膜、护锡同步、MSAP制程、干膜温和剥离、加速高效、锡面防护、精密加工、金属洁净脱膜、线路板脱膜、半导体用去膜、软板去膜、PCB线路板等多种场景，适配电子、金属、矿冶、环保等多个行业，无论是常规去膜场景，还是复杂、严苛的去膜工况，都能找到适配的产品。珠海线路板去膜剂高效适配多场景
深圳市点石源水处理技术有限公司是一家有着先进的发展理念，先进的管理经验，在发展过程中不断完善自己，要求自己，不断创新，时刻准备着迎接更多挑战的活力公司，在广东省等地区的精细化学品中汇聚了大量的人脉以及**，在业界也收获了很多良好的评价，这些都源自于自身的努力和大家共同进步的结果，这些评价对我们而言是比较好的前进动力，也促使我们在以后的道路上保持奋发图强、一往无前的进取创新精神，努力把公司发展战略推向一个新高度，在全体员工共同努力之下，全力拼搏将共同深圳市点石源水处理供应和您一起携手走向更好的未来，创造更有价值的产品，我们将以更好的状态，更认真的态度，更饱满的精力去创造，去拼搏，去努力，让我们一起更好更快的成长！
