纳米20-羟基二十烷酸求购

针对有机合成实验场景，20-羟基二十烷酸是一种性能稳定、使用便捷的实验原料。该产品各项物理化学参数准确可控，熔点86-88℃、沸点466.1±18.0℃（预测值），便于实验人员准确设定反应条件。其双官能团结构可作为明确的反应位点，支持酰化、酯化、缩合、氧化等多种基础有机反应，适用于实验室的基础研究与中间体合成。产品溶解性适配多数实验用有机溶剂，且气味清淡，实验操作环境友好。小规格包装设计便于实验用量的准确计量，存储于实验室常规冷藏设备中即可保持性能稳定，为科研机构与高校的实验研究提供可靠原料支撑。20-羟基二十烷酸作为稳定剂，延长食品货架保存期限。纳米20-羟基二十烷酸求购

作为塑料薄膜的抗静电剂原料，20-羟基二十烷酸合成的抗静电剂可有效降低塑料薄膜的表面电阻，减少静电积累，避免灰尘吸附，提升薄膜的使用性能与外观洁净度。该产品与塑料薄膜原料的相容性良好，可均匀分散于薄膜基质中，不会影响薄膜的透明度、光泽度与力学性能。产品化学性质稳定，在薄膜加工的高温环境下不易分解，能保证抗静电效果的持久发挥。存储时密封置于干燥环境中，避免产品吸潮，即可保持性能稳定。同时，其制备的抗静电剂符合食品接触材料的安全标准，可用于食品包装用塑料薄膜的生产，保障薄膜的使用安全性。化妆品级20-羟基二十烷酸求购20-羟基二十烷酸改善护发精油顺滑度，减少发丝打结。

在制药中间体合成领域，20-羟基二十烷酸可作为关键酰化原料，其羧基功能团可与药物分子中的氨基、羟基发生特异性酰化反应，构建稳定的药物分子结构。该产品纯度高，杂质干扰小，能有效提升药物中间体的合成收率与品质稳定性。产品化学活性温和，反应条件宽松，无需极端温度或压力环境，降低了生产设备的投入成本与操作风险。存储时只需密封置于阴凉干燥处，避免与强氧化剂接触即可保持性能稳定。同时，该产品符合医药原料的质量管控标准，经过严格的安全性检测，为制药企业的中间体生产环节提供稳定可靠的原料保障，助力提升药物生产效率。

在制药行业的药物制剂环节，20-羟基二十烷酸可作为药用辅料，提升药物制剂的稳定性与生物利用度。该产品化学性质温和，与药物活性成分兼容性良好，不会发生化学反应影响药物疗效。产品具备良好的成膜性能，可用于制备药物薄膜包衣材料，提升药物的稳定性、口感与服用便捷性，减少药物对胃肠道的刺激。存储时密封置于2-8℃环境中，可保持性能稳定，避免产品变质影响制剂质量。同时，该产品符合药用辅料的质量标准，经过严格的安全性与相容性检测，适用于片剂、胶囊、颗粒剂等多种药物制剂的生产，为制药企业的制剂研发与生产提供可靠支撑。20-羟基二十烷酸用于药物制剂研发，提升产品稳定性。

20-羟基二十烷酸（CAS号506-37-6）具备明确的物理化学特性，其分子量328.53，密度0.942±0.06 g/cm³（预测值），这些准确参数为其在各类应用场景中的准确使用提供了科学依据。该产品作为长链脂肪酸羟基衍生物，具备良好的生物相容性，在医药与化妆品领域的应用中更具优势。其溶解性表现为易溶于有机溶剂、难溶于水，这种特性使其可准确适配油相配方体系，避免水相体系中的溶解干扰。存储时2-8℃的冷藏条件可有效延长产品保质期，密封包装能防止产品受到外界环境的污染与潮解。适用于对原料品质与安全性要求较高的精细化工生产环节，是多元化应用场景的优良原料选择。20-羟基二十烷酸作为制药辅料，符合行业质量标准。热熔胶用20-羟基二十烷酸生产厂家

20-羟基二十烷酸作为食品增稠剂，适配果酱生产配方。纳米20-羟基二十烷酸求购

作为化妆品的乳化稳定剂原料，20-羟基二十烷酸可明显提升乳化体系的稳定性，防止化妆品在存储和使用过程中出现分层、破乳、结块等问题，延长产品保质期。该产品与各类乳化剂（如司盘类、吐温类、聚甘油酯类）协同作用，可增强乳化效果，提升产品的质地均匀度与细腻度，让产品更易涂抹吸收。产品化学性质温和，对皮肤无刺激性，符合化妆品原料的安全要求。产品易溶于油脂相成分，便于在配方中均匀分散，保障乳化体系的稳定性。存储时只需密封置于室温环境，避免阳光直射即可，能满足化妆品生产企业的仓储管理需求。适用于乳液、面霜、粉底液等多种乳化型化妆品的生产。纳米20-羟基二十烷酸求购

江苏山鼎化工科技有限公司在同行业领域中，一直处在一个不断锐意进取，不断制造创新的市场高度，多年以来致力于发展富有创新价值理念的产品标准，在江苏省等地区的化工中始终保持良好的商业口碑，成绩让我们喜悦，但不会让我们止步，残酷的市场磨炼了我们坚强不屈的意志，和谐温馨的工作环境，富有营养的公司土壤滋养着我们不断开拓创新，勇于进取的无限潜力，江苏山鼎化工科技供应携手大家一起走向共同辉煌的未来，回首过去，我们不会因为取得了一点点成绩而沾沾自喜，相反的是面对竞争越来越激烈的市场氛围，我们更要明确自己的不足，做好迎接新挑战的准备，要不畏困难，激流勇进，以一个更崭新的精神面貌迎接大家，共同走向辉煌回来！