RPS远程等离子源是一款基于电感耦合等离子体技术的自成一体的原子发生器，它的功能是用于半导体设备工艺腔体原子级别的清洁，使用工艺气体三氟化氮（NF3）/O2，在交变电场和磁场作用下，原材料气体会被解离，从而释放出自由基，活性离子进入工艺室与工艺室上沉积的污染材料（SIO/SIN）或者残余气体（H2O、O2、H2、N2）等物质产生化学反应，聚合为高活性气态分子经过真空泵组抽出处理腔室，提高处理腔室内部洁净度；利用原子的高活性强氧化特性，达到清洗CVD或其他腔室后生产工艺的目的，为了避免不必要的污染和工作人员的强度和高风险的湿式清洗工作，提高生产效率。RPS为了避免不必要的污染和工作人员的强度和高风险的湿式清洗工作，提高生产效率。RPS石英舟清洗
随着3D NAND堆叠层数突破500层，深孔刻蚀后的残留物清洗成为技术瓶颈。RPS远程等离子源利用其优异的自由基扩散能力，可有效清理 深宽比超过60:1结构底部的聚合物残留。通过优化远程等离子体参数，在保持刻蚀选择比大于100:1的同时，将晶圆损伤深度控制在2nm以内。某存储芯片制造商在引入RPS远程等离子源后，将深孔清洗工序的良品率从87%提升至96%，单 wafer 处理成本降低30%。RPS远程等离子源在化合物半导体工艺中的优势在GaN、SiC等宽禁带半导体制造中，RPS远程等离子源展现出独特价值。其低温处理特性（<150℃）有效避免了化合物材料的热分解风险。通过采用Cl2/BCl3混合气体的远程等离子体刻蚀，实现了GaN材料的各向异性刻蚀，侧壁垂直度达89±1°。在HEMT器件制造中，RPS远程等离子源将界面态密度控制在1010/cm²·eV量级，明显 提升了器件跨导和截止频率。上海半导体RPS客服电话在生物传感器制造中提升检测灵敏度。
东莞市晟鼎精密仪器有限公司的RPS定位技术，向智慧农业领域拓展，实现农业生产的精细管控。在大型温室大棚中，RPS可定位农业机器人、灌溉设备的实时位置，引导机器人精细完成播种、施肥、采摘等作业，定位误差控制在±5cm以内。通过RPS定位与传感器数据融合，可实现灌溉设备根据作物位置精细供水，避免水资源浪费，使灌溉效率提升30%。在畜禽养殖场景中，RPS可定位养殖设备与牲畜位置，监测牲畜活动轨迹，及时发现异常情况。RPS定位系统具备低功耗特性，适配农业户外场景的长期使用需求，且抗粉尘、抗潮湿能力突出。该RPS智慧农业方案已在多个现代化农场落地，帮助农户降低生产成本，提升农产品产量与质量，成为智慧农业发展的重要RPS技术支撑。
东莞市晟鼎精密仪器有限公司将 RPS（射频指纹定位）技术拓展至室内导航领域，解决了传统 GNSS 信号在室内环境中受限的行业痛点。RPS 依赖地面基础设施，通过 Wi-Fi 指纹、蓝牙信标等多维度定位方式，在大型商场、机场、火车站等场景中提供可靠导航服务。该 RPS 系统具备抗干扰能力强、定位精度高的特点，可精细引导用户找到目标店铺、登机口或换乘通道。在紧急救援场景中，RPS 定位技术能在 GNSS 信号受破坏的情况下，帮助救援人员快速锁定受困人员位置，提升救援效率。晟鼎精密的 RPS 室内导航方案支持多终端适配，可与智能家居系统联动，实现用户位置识别与个性化服务触发。通过持续优化算法，RPS 定位响应速度不断提升，定位误差控制在厘米级，为室内空间智能化管理提供了高效的 RPS 技术解决方案。远程等离子工作时，本身的镀膜工艺是不工作的，没有直接接触有机发光材料，就不会对有机发光材质造成损伤。
东莞市晟鼎精密仪器有限公司的 RPS 三维光学扫描设备，凭借较强的环境适应性与高精度，成功应用于航空航天零部件制造。航空航天零部件多为复杂曲面结构，尺寸精度要求极高，RPS 设备支持 3 组 9 个高分辨率镜头切换，可覆盖不同规格零部件的扫描需求。RPS 采用同步触发驱动技术，投光采集时间短，扫描效率高，单幅测量时间≤1.5 秒，能快速完成大型零部件的全尺寸扫描。在数据处理上，RPS 通过多核多线程高速算法与 GPU 加速，实现点云数据的快速重建与噪声处理，生成高精度三维模型。该 RPS 设备可承受航空航天制造车间的复杂环境，抗震动、抗干扰能力突出，测量精度稳定在 0.01mm 以内。目前，RPS 已应用于飞机结构件、发动机零部件等关键部件的制造检测，为航空航天产品的安全性提供了可靠的 RPS 技术保障。为先进封装提供TSV通孔和键合界面的精密清洗。国产RPS石英舟腔体清洗
在存储芯片制造中提升介质层可靠性。RPS石英舟清洗
三维NAND闪存堆叠层数的不断增加，对刻蚀后高深宽比结构的清洗带来了巨大挑战。其深孔或深沟槽底部的刻蚀残留物（如聚合物）若不能彻底清理 ，将严重影响后续多晶硅或钨填充的质量，导致电荷陷阱和器件性能劣化。在此RPS远程等离子源应用领域展现出其独特优势。由于等离子体在远程生成，其主要产物是电中性的自由基，这些自由基具有较好的扩散能力，能够无阻碍地深入深宽比超过60:1的结构底部，与残留物发生化学反应并将其转化为挥发性气体排出。相较于直接等离子体，RPS技术避免了因离子鞘层效应导致的清洗不均匀问题，确保了从结构顶部到底部的均匀清洁，且不会因离子轰击造成结构侧壁的物理损伤。这使得RPS远程等离子源应用领域成为3D NAND制造中实现高良率、高可靠性的主要 技术之一。RPS石英舟清洗
