镍钴是新能源电池的 材料，主要赋存在岩浆铜镍硫化物矿床和红土型镍矿中。赢洲科技的高光谱系统能够识别镍黄铁矿、含镍磁黄铁矿等硫化物，以及红土镍矿中的含镍蛇纹石、滑石等矿物。在硫化物矿床中，系统识别镍的 矿物和类质同象矿物。对于红土型镍矿，识别风化壳中的含镍层位。钴矿常与镍共生，系统通过识别含钴的锰氧化物来间接找矿。赢洲科技的系统在识别这类矿床时，会结合地形和地质背景，建立风化壳型矿床的识别模型。地质人员利用系统成果可以快速圈定含镍钴的基性超基性岩体，评估风化程度和资源潜力。这种技术在境外红土镍矿勘查和境外项目尽职调查中发挥重要作用，为新能源产业发展提供了资源保障。成像高光谱相机应用于工业检测制造质检。可见光近红外高光谱相机
高光谱相机在矿物识别中通过获取400-2500nm（或扩展至热红外波段）的连续窄波段光谱数据，能够精细探测矿物的特征吸收峰和反射谱带，实现矿物种类的无损鉴别。例如，赤铁矿在850-900nm处的强吸收峰、绿泥石在2250-2350nm的羟基与镁铁离子振动谱带，以及方解石在2330-2350nm的CO₃²⁻振动特征，均可作为诊断性标志。结合光谱角匹配（SAM）和光谱特征拟合算法，可区分矿物亚类（如白云母与绢云母在2200nm的细微谱形差异），并量化矿物混合比例（精度达85%以上），为地质填图、矿床勘探和行星地质研究提供高效精细的光谱指纹识别技术。可见光近红外高光谱相机机载高光谱相机应用于工业检测制造质检。
高光谱相机在**与公共安全生化威胁检测中，通过捕捉400-2500nm（可扩展至太赫兹波段）的分子指纹光谱，能够实现危险生化制剂的无接触、远距离精细识别。其皮米级光谱分辨率可解析沙林毒剂在9.2μm的P-F键特征吸收、炭疽孢子在中红外区（6-10μm）的蛋白质振动谱，以及VX神经毒剂在1040cm⁻¹处的P=O键特征峰，检测灵敏度达μg/cm²级。结合主动激光诱导击穿光谱（LIBS）技术，能在100米外实时识别气溶胶中的**（基于1280nm处的多糖特征），并通过深度学习算法在复杂背景中提取微量生化信号（信噪比提升50dB），为生化袭击预警、反恐排爆及污染洗消提供秒级响应的光谱侦测方案。
铀、钍等放射性矿物对 和能源安全至关重要，但传统勘查方法人员辐射风险高。赢洲科技的高光谱系统实现了远距离、非接触的放射性矿物识别。铀矿物常与褐铁矿、硅钙铀矿等共生，系统通过识别这些共生矿物来定位铀矿化。沥青铀矿在高光谱图像上有特殊响应，系统可以捕捉这一特征。对于花岗岩型铀矿，系统识别钾长石化、赤铁矿化等蚀变带。在砂岩型铀矿勘查中，识别黄铁矿、有机质等还原性物质。赢洲科技的设备采用轻量设计，可用无人机搭载，人员无需进入高辐射区即可完成调查。系统生成的放射性矿物分布图，精确定位矿化中心，指导钻探验证。这种安全高效的勘查方式，不仅保护了地质人员的健康，也大幅降低了铀矿勘查的门槛，为核能发展提供了资源保障。同时可用于退役铀矿山的环境监测和治理效果评估。机载高光谱相机应用于教学工具。
高光谱相机在水质环境监测中通过捕捉400-1000nm（或扩展至2500nm）水体的精细光谱特征，能够定量反演关键水质参数。其高分辨率数据可识别叶绿素a在685nm处的荧光峰、悬浮物在550-700nm的散射特征以及CDOM（有色可溶性有机物）在400-500nm的强吸收带，结合偏**小二乘等算法，可实现叶绿素浓度（精度达0.5μg/L）、浊度（误差<3NTU）和蓝藻水华分布的动态监测。机载系统还能绘制大型湖泊或近海区域的水质空间异质性图谱，为富营养化预警和污染溯源提供高时效性数据支撑。机载高光谱相机应用于矿物勘查。高光谱仪遥感岩性分类
机载成像高光谱相机应用于基础设施监测。可见光近红外高光谱相机
高光谱相机在环境监测中通过获取400-2500nm范围的高分辨率光谱数据，能够实现大气、水体和土壤污染物的精细识别与定量分析。其纳米级光谱分辨率可检测水体叶绿素a浓度（685nm荧光峰）、悬浮物含量（700nm散射特征）及石油污染（1720nm烃类吸收），同步监测大气气溶胶（550nm散射特性）和温室气体（如CO₂在2000nm吸收带），并识别土壤重金属污染（如铅在500-700nm反射率异常）。结合无人机或卫星平台，可大范围绘制污染物空间分布图，实现生态环境质量的动态评估与污染溯源，为环境治理提供科学依据。可见光近红外高光谱相机
赢洲科技（上海）有限公司在同行业领域中，一直处在一个不断锐意进取，不断制造创新的市场高度，多年以来致力于发展富有创新价值理念的产品标准，在上海市等地区的仪器仪表中始终保持良好的商业口碑，成绩让我们喜悦，但不会让我们止步，残酷的市场磨炼了我们坚强不屈的意志，和谐温馨的工作环境，富有营养的公司土壤滋养着我们不断开拓创新，勇于进取的无限潜力，上海市赢洲科技供应携手大家一起走向共同辉煌的未来，回首过去，我们不会因为取得了一点点成绩而沾沾自喜，相反的是面对竞争越来越激烈的市场氛围，我们更要明确自己的不足，做好迎接新挑战的准备，要不畏困难，激流勇进，以一个更崭新的精神面貌迎接大家，共同走向辉煌回来！
