RPS基本参数
  • 品牌
  • 晟鼎精密
  • 型号
  • SPR-08
  • 用途
  • 工业用
  • 清洗方式
  • 远程等离子
  • 外形尺寸
  • 467*241*270
  • 产地
  • 广东
  • 厂家
  • 晟鼎
  • 制程气体
  • NF3、O₂、CF4
  • 点火气体/流量/压力
  • 氩气(Ar)/1-6AR sIm/1-8 torr
  • 制程气体流量
  • 8NF3sLm
  • 工作气压
  • 1-10torr
  • 离化率
  • ≥95%
  • 进水温度
  • 30℃
RPS企业商机

RPS远程等离子源在医疗器械制造中的洁净保障在手术机器人精密零件清洗中,RPS远程等离子源采用特殊气体配方,将生物相容性提升至ISO10993标准。通过O2/H2O远程等离子体处理,将不锈钢表面细菌附着率降低99.9%。在植入式医疗器械制造中,RPS远程等离子源实现的表面洁净度达到ISO14644-1Class4级别,确保器件通过EC认证要求。RPS远程等离子源在新能源电池制造中的创新工艺在固态电池制造中,RPS远程等离子源通过Li/Ar远程等离子体活化电解质界面,将界面阻抗从1000Ω·cm²降至50Ω·cm²。在锂箔处理中,采用CF4/O2远程等离子体生成人工SEI膜,将循环寿命提升至1000次以上。量产数据显示,采用RPS远程等离子源处理的固态电池,能量密度达500Wh/kg,倍率性能提升3倍。远程等离子体源RPS腔体结构,包括进气口,点火口。国内RPS远程等离子体源

国内RPS远程等离子体源,RPS

远程等离子源,是一种基于变压器电感耦合等离子体技术的duli式自由基发生器(RPS),可以有效的解离输入气体。产生清洗或蚀刻所需的自由基(氟、氧原子等),这些自由基通过腔室压差传输,远程等离子体内的电场保持在较低的水平,避免电荷可能损坏敏感的晶圆结构,利用自由基的强氧化特性,达到腔室清洗(Chamber Clean)或制程(On-Wafer PROCESS)的目的。该产品设计具有先进的HA或PEO涂层plasma block,先进的功率自适应模式,满足多种镀膜和刻蚀工艺需求,小体积的同时最大功率可达10kw。海南推荐RPS哪家强RPS远程等离子气体解离率高,效果可媲美进口设备。

国内RPS远程等离子体源,RPS

RPS远程等离子源的维护与寿命延长效益:设备停机时间是制造业的主要成本来源之一。RPS远程等离子源通过定期清洁沉积腔室,减少颗粒污染引起的工艺漂移,从而延长维护周期。其高效的清洗能力缩短了清洁时间,提高了设备利用率。此外,RPS远程等离子源的模块化设计便于集成到现有系统中,无需大规模改造。用户报告显示,采用RPS远程等离子源后,平均维护间隔延长了30%以上,整体拥有成本明显 降低。这对于高产量生产线来说,意味着更高的投资回报率。

RPS远程等离子源在半导体设备维护中的经济效益统计数据显示,采用RPS远程等离子源进行预防性维护,可将PECVD设备平均无故障时间延长至2000小时,维护成本降低40%。在刻蚀设备中,RPS远程等离子源将清洁周期从50批次延长至200批次,备件更换频率降低60%。某晶圆厂年度报告显示,各方面 采用RPS远程等离子源后,设备综合效率提升15%,年均节约维护费用超500万元。RPS远程等离子源在科研领域的多功能平台RPS远程等离子源模块化设计支持快速更换反应腔室,可适配从基础研究到中试生产的各种需求。通过配置多种气体入口和功率调节系统,功率调节范围覆盖100-5000W,适用基底尺寸从2英寸到300mm。在材料科学研究中,RPS远程等离子源实现了石墨烯无损转移、碳纳米管定向排列等前沿应用,助力发表SCI论文200余篇。用于气体传感器敏感薄膜的沉积后处理。

国内RPS远程等离子体源,RPS

远程等离子体源(RPS)是一种用于产生等离子体的装置,它通常被用于在真空环境中进行表面处理、材料改性、薄膜沉积等工艺。如在CVD等薄膜设备中,RPS与设备腔体连接,进行分子级的清洗。在晶圆制造过程中,即使微米级的灰尘也会造成晶体管污染,导致晶圆废片,因此RPS的清洁性能尤为重要。RPS不仅避免了传统等离子体源直接接触处理表面可能带来的热和化学损伤,还因其高度的集成性和灵活性,成为现代真空处理系统中不可或缺的一部分。RPS远程等离子源是一款基于电感耦合等离子体技术的自成一体的原子发生器。海南推荐RPS哪家强

用于医疗器械制造中生物相容性表面的活化处理。国内RPS远程等离子体源

远程等离子体源RPS腔体结构,包括进气口,点火口,回流腔连通电离腔顶端与进气腔靠近进气口一侧顶部,气体由进气口进入经过进气腔到达电离腔,点火发生电离反应生成氩离子然后通入工艺气体,通过出气口排出至反应室内,部分电离气体经回流腔流至进气腔内,提高腔体内部电离程度,以便于维持工艺气体的电离,同时可提高原子离化率;电离腔的口径大于进气腔,气体在进入电离腔内部时降低了压力,降低了F/O原子碰撞导致的原子淬灭问题,保证电离率,提高清洁效率。国内RPS远程等离子体源

与RPS相关的**
信息来源于互联网 本站不为信息真实性负责