RPS基本参数
  • 品牌
  • 晟鼎精密
  • 型号
  • SPR-08
  • 用途
  • 工业用
  • 清洗方式
  • 远程等离子
  • 外形尺寸
  • 467*241*270
  • 产地
  • 广东
  • 厂家
  • 晟鼎
  • 制程气体
  • NF3、O₂、CF4
  • 点火气体/流量/压力
  • 氩气(Ar)/1-6AR sIm/1-8 torr
  • 制程气体流量
  • 8NF3sLm
  • 工作气压
  • 1-10torr
  • 离化率
  • ≥95%
  • 进水温度
  • 30℃
RPS企业商机

RPS远程等离子源在热电材料制备中的创新应用在碲化铋热电材料图案化中,RPS远程等离子源通过Cl2/Ar远程等离子体实现各向异性刻蚀,将侧壁角度控制在88±1°。通过优化工艺参数,将材料ZT值提升至1.8,转换效率达12%。在器件集成中,RPS远程等离子源实现的界面热阻<10mm²·K/W,使温差发电功率密度达到1.2W/cm²。RPS远程等离子源在超表面制造中的精密加工在光学超表面制造中,RPS远程等离子源通过SF6/C4F8远程等离子体刻蚀氮化硅纳米柱,将尺寸偏差控制在±2nm以内。通过优化刻蚀选择比,将深宽比提升至20:1,使超表面工作效率达到80%。实验结果显示,经RPS远程等离子源加工的超透镜,数值孔径达0.9,衍射极限分辨率优于200nm。为量子计算超导电路提供无损伤表面清洁。北京晟鼎RPS哪家好

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随着3D NAND堆叠层数突破500层,深孔刻蚀后的残留物清洗成为技术瓶颈。RPS远程等离子源利用其优异的自由基扩散能力,可有效清理 深宽比超过60:1结构底部的聚合物残留。通过优化远程等离子体参数,在保持刻蚀选择比大于100:1的同时,将晶圆损伤深度控制在2nm以内。某存储芯片制造商在引入RPS远程等离子源后,将深孔清洗工序的良品率从87%提升至96%,单 wafer 处理成本降低30%。RPS远程等离子源在化合物半导体工艺中的优势在GaN、SiC等宽禁带半导体制造中,RPS远程等离子源展现出独特价值。其低温处理特性(<150℃)有效避免了化合物材料的热分解风险。通过采用Cl2/BCl3混合气体的远程等离子体刻蚀,实现了GaN材料的各向异性刻蚀,侧壁垂直度达89±1°。在HEMT器件制造中,RPS远程等离子源将界面态密度控制在1010/cm²·eV量级,明显 提升了器件跨导和截止频率。河北国内RPS哪家好为半导体设备腔室提供高效在线清洁解决方案。

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晟鼎远程等离子体电源RPS的应用类型:1.CVD腔室清洁①清洁HDP-CVD腔(使用F原子)②清洁PECVD腔(使用F原子)③清洁Low-kCVD腔(使用O原子、F原子)④清洁WCVD腔(使用F原子)2.表面处理、反应性刻蚀和等离子体辅助沉积①通过反应替代 (biao面氧化)进行表面改性②辅助PECVD③使用预活化氧气和氮气辅助低压反应性溅射沉积④使用预活化氧气和氮气进行反应性蒸发沉积⑤等离子体增强原子层沉积(PEALD)3.刻蚀:①灰化(除去表面上的碳类化合物);②使用反应性含氧气体粒子处理光刻胶。

RPS远程等离子源与智能制造的集成:在工业4.0背景下,RPS远程等离子源可与传感器和控制系统集成,实现实时工艺监控和调整。通过收集数据 on 清洗效率或自由基浓度,系统能够自动优化参数,确保比较好性能。这种智能集成减少了人为错误,提高了生产线的自动化水平。例如,在智能工厂中,RPS远程等离子源可以预测维护需求,提前调度清洁周期,避免意外停机。其兼容性使制造商能够构建更高效、更灵活的制造环境。光学元件(如透镜或反射镜)的涂层质量直接影响光学性能。沉积过程中的污染会导致散射或吸收损失。RPS远程等离子源可用于预处理基板,去除表面污染物,提升涂层附着力。在涂层后清洗中,它能有效清洁腔室,确保后续沉积的均匀性。其低损伤特性保护了精密光学表面,避免了微划痕或化学降解。因此,RPS远程等离子源在高精度光学制造中成为不可或缺的工具。用于太空电子器件的抗辐射处理。

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对于GaN、SiC等化合物半导体和MEMS传感器等精密器件,传统的等离子体工艺因其高能离子轰击和热效应容易造成器件性能的不可逆损伤。RPS远程等离子源应用领域在此提供了低损伤、高精度的解决方案。在GaN HEMT器件的制造中,RPS可用于栅极凹槽的刻蚀预处理或刻蚀后残留物的清理 ,其低离子能量特性确保了AlGaN势垒层和二维电子气(2DEG)不受损伤,从而维持了器件的高跨导和频率特性。在MEMS制造中,关键的步骤是层的释放,以形成可活动的微结构。RPS远程等离子源能够使用氟基或氧基自由基,温和且均匀地刻蚀掉结构下方的氧化硅或聚合物层,避免了因“粘附效应”(Stiction)导致的结构坍塌,极大地提升了MEMS陀螺仪、加速度计和麦克风的良品率和可靠性。在传感器制造中实现敏感薄膜的均匀沉积。海南半导体RPS远程等离子体源

在声学器件制造中提升谐振性能。北京晟鼎RPS哪家好

RPS远程等离子源在医疗器械制造中的洁净保障在手术机器人精密零件清洗中,RPS远程等离子源采用特殊气体配方,将生物相容性提升至ISO10993标准。通过O2/H2O远程等离子体处理,将不锈钢表面细菌附着率降低99.9%。在植入式医疗器械制造中,RPS远程等离子源实现的表面洁净度达到ISO14644-1Class4级别,确保器件通过EC认证要求。RPS远程等离子源在新能源电池制造中的创新工艺在固态电池制造中,RPS远程等离子源通过Li/Ar远程等离子体活化电解质界面,将界面阻抗从1000Ω·cm²降至50Ω·cm²。在锂箔处理中,采用CF4/O2远程等离子体生成人工SEI膜,将循环寿命提升至1000次以上。量产数据显示,采用RPS远程等离子源处理的固态电池,能量密度达500Wh/kg,倍率性能提升3倍。北京晟鼎RPS哪家好

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