所述液位计连接有液相气相温度传感器和压力传感器。在其中一个实施例中,所述分离器的侧壁上设有多个视镜。在其中一个实施例中,所述液位计安装于所述分离器的外表面。在其中一个实施例中,所述液位开关为控制阀,设置于所述滤液出口处。在其中一个实施例中,所述加热器为盘管式加热器。在其中一个实施例中,所述分离器底部为锥体形状。上述,利用加热器对含铜蚀刻液进行加热,使其达到闪蒸要求的温度,将加热好的含铜蚀刻液输送至分离器,经过减压阀及真空泵减压,含铜蚀刻液在分离器内发生闪蒸,产生大量蒸汽,蒸汽中携带着大小不等的液滴,通过除雾组件和除沫组件可以防止大液滴从蒸汽出口飞出,减小产品损失。附图说明图1是本实施例的结构示意图;图2是本实施例的外观示意图。图中:1、液体入口;2、滤液出口;3、除雾组件;4、除沫组件;5、蒸汽出口;6、液相气相温度传感器;7、液位计;8、压力传感器;9、液位开关;10、视镜;11、加热器;12、减压阀;13、真空泵。具体实施方式在一个实施例中,如图1所示,一种含铜蚀刻液气液分离装置,包括分离器及加热器11,所述分离器设有液体入口1、蒸汽出口5及滤液出口2,所述液体入口1用于将加热器11产生的液体输入至分离器中。BOE蚀刻液的生产厂家。深圳铜钛蚀刻液蚀刻液厂家现货

经除雾组件3除雾后的气体会夹带着泡沫,泡沫中还是含有铜元素,为进一步提高回收效率,需对气体和泡沫进行分离,泡沫与丝网碰撞时会吸附在丝网的细丝表面,细丝表面上泡沫不断累积和泡沫的重力沉降,使泡沫形成较大的液滴沿细丝流至两根丝的交点,当液滴累积至其自身产生的重力超过气体的上升力和液体表面张力合力时,液滴就从细丝上分离下落,气体在通过丝网除沫后,基本上不含泡沫。在一个实施例中,如图1所示,所述分离器设有液位计7、液位开关9、液相气相温度传感器6和压力传感器8。蒸汽从加热器11到分离器会因分离器内压力小而发生闪蒸,产生二次蒸汽,使气液分离的效率更高,所以要维持分离器内的压力不变,通过观察液位计7来使用液位开关9控制分离器内压力稳定,保证分离器的工作状态在设计的状态下。在一个实施例中,如图1所示,所述液位计7连接有液相气相温度传感器6和压力传感器8。液相气相温度传感器6和压力传感器8将分离器内的工作情况反映到液位计7,工作人员可以通过观察液位计7知道分离器内的工作情况。液相气相温度传感器6采用漂浮式传感器,在分离器内液面处工作,压力传感器8安装在分离器底部,有效测量分离器内液压。在一个实施例中,如图1所示。深圳铜钛蚀刻液蚀刻液厂家现货苏州口碑好的蚀刻液公司。

本发明涉及一种用来在铜的存在下选择性地蚀刻钛的蚀刻液及使用该蚀刻液的蚀刻方法。背景技术:以往,在蚀刻钛时一直使用含有氢氟酸或过氧化氢的蚀刻液。例如专利文献1中提出了一种钛的蚀刻液,该钛的蚀刻液是用来在铜或铝的存在下蚀刻钛,并且该蚀刻液的特征在于:利用由10重量%至40重量%的过氧化氢、%至5重量%的磷酸、%至%的膦酸系化合物及氨所构成的水溶液将pH值调整为7至9。但是,含有氢氟酸的蚀刻液存在毒性高的问题,含有过氧化氢的蚀刻液存在缺乏保存稳定性的问题。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特许第4471094号说明书。技术实现要素:发明所要解决的问题本发明是鉴于所述实际情况而成,其目的在于提供一种蚀刻液及使用该蚀刻液的蚀刻方法,所述蚀刻液可在铜的存在下选择性地蚀刻钛,而且毒性低,保存稳定性优异。解决问题的技术手段本发明的蚀刻液是为了在铜的存在下选择性地蚀刻钛而使用,并且含有:选自由硫酸、盐酸及三氯乙酸所组成的群组中的至少一种酸;以及选自由硫酮系化合物及硫醚系化合物所组成的群组中的至少一种有机硫化合物。所述硫酮系化合物推荐为选自由硫脲、二乙基硫脲及三甲基硫脲所组成的群组中的至少一种。
12、伸缩杆;13、圆环块;14、连接杆;15、回流管;16、增压泵;17、一号排液管;18、一号电磁阀;19、抽气泵;20、排气管;21、集气箱;22、二号排液管;23、二号电磁阀;24、倾斜板;25、活动板;26、蓄水箱;27、进水管;28、抽水管;29、三号电磁阀;30、控制面板。具体实施方式下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。请参阅图1-5,本发明提供一种技术方案:一种废铜蚀刻液的回收处理装置,包括装置主体1,装置主体1内部中间位置固定安装有分隔板2,分隔板2左端表面靠近中间位置固定安装有承载板3,承载板3上端表面放置有电解池4,电解池4内部中间位置设置有隔膜5,装置主体1上端表面靠近右侧安装有进液漏斗6,进液漏斗6上设置有过滤网7,装置主体1内部靠近顶端设置有进液管8,进液管8左端连接有伸缩管9,伸缩管9下端安装有喷头10,装置主体1上端表面靠近左侧固定安装有液压缸11,液压缸11下端安装有伸缩杆12。什么样的蚀刻液可以蚀刻铝同时保护铜?

并利用水滴的表面张力现象防止水滴由该复数个宣泄孔121落下造成该基板20的蚀刻不均等异常现象,确实达到保有原始挡液板的挡液效果,以及增加透气性以破除真空以减少因真空吸板而导致该基板20刮伤或破片风险等主要优势。该蚀刻设备1可进一步设置有一喷洒装置50,该喷洒装置50设置于该挡液板结构10的一端部,且该基板20设置于该挡液板结构10的下方约8毫米至15毫米之间,其中该喷洒装置50用以喷洒一药液51至该基板20上,以对该基板20进行一湿式蚀刻制程;由上述的说明,挡液板结构10的设置即是为了避免喷洒装置50的药液51继续对已经完成蚀刻步骤的基板20再进行蚀刻制程,故仍旧会有少量的药液51喷洒在挡液板结构10上而留下该药液51的水滴,而该药液51的水滴亦不能落入该基板20上,以避免该基板20的蚀刻不均的现象产生。该输送装置30设置于该基板20的下方,该输送装置30包括有至少一滚轮31,其中该滚轮31与该基板20接触以运行该基板20;在本实用新型其一较佳实施例中,该输送装置30用以承载并运送至少一该基板20于该湿式蚀刻机内运行,并接受湿式蚀刻的喷洒装置50的制程运作,故该输送装置30具有一驱动机构(图式未标示)以驱动该滚轮31转动,例如:顺时针旋转。天马微电子用的哪家的蚀刻液?四川铝钼铝蚀刻液蚀刻液溶剂
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该宣泄孔121的上孔径a1与下孔径a2亦不相等,且该上孔径a1小于该下孔径a2,或该宣泄孔121由该第二挡板12的下表面122朝向上表面123的方向渐缩,以维持毛细现象而避免该药液51滴入该基板20上而造成蚀刻不均的问题。当该风刀装置40的***风刀41与该第二风刀42为了减少该基板(本图式未标示)上所残留的药液51而吹出该气体43时,该气体43碰到该挡液板结构10后部分会往该复数个宣泄孔121流动,并朝向该第二挡板12的该上表面123宣泄而出(如图10与图11所示),除了保有原有挡液板的防止该药液51喷溅而造成的显影不均现象,亦可达到避免该气体43在该基板20附近形成涡流而造成真空吸引问题;为了必须避免由该喷洒装置50喷洒而出的药液51滴入该基板20上而造成蚀刻不均的问题,故该复数个宣泄孔121的孔径a0必须要足够小,例如:孔径a0小于3mm,即可因毛细现象的作用,亦即该水滴于该宣泄孔121孔洞内的夹角θ等于该水滴与该第二挡板12的该上表面123所夹的接触角θ4,而达到防止位于该第二挡板12上表面的药液51水滴经由该复数个宣泄孔121滴下至该基板20上(如图12所示)。另请参阅图13所示,为本实用新型蚀刻设备的蚀刻方法的步骤流程图,其中本实用新型蚀刻设备的蚀刻方法主要包括有下列步骤。深圳铜钛蚀刻液蚀刻液厂家现货