Cascade 有两个测试用户：马里兰大学Don DeVoe教授的微流体实验室和加州大学Carl Meinhart教授的微流体实验室。德国thinXXS公司开发了另一套微流控分析设备。该设备提供了一个由微反应板装配平台、模块载片以及连接器和管道所组成的结构工具包。可单独购买模块载片。 ThinXXS还制造独有芯片，生产微流体和微光学设备和部件并提供相应的服务。将微流控技术应用于光学检测已经计划很多年了，thinXXS一直都在进行这方面的综合研究，但未提供详细资料。但是，据了解，该技术采用了先进的MEMS传感器的微纳米制造工艺，所以芯片得到了非常好的测试效果。微流控芯片的主流加工方法。浙江微流控芯片私人定做
微针电极与组织液提取芯片的创新加工技术：微针电极作为生物检测与给药的前沿器件，需兼顾机械强度与生物相容性。公司采用干湿结合刻蚀工艺，在硅或硬质塑料基板上制备直径10-100μm、高度500-1000μm的微针阵列，针尖曲率半径控制在5μm以内，确保穿刺过程的低创伤性。针对类***电生理记录需求，开发了“触凸”电极结构，在微针顶端集成纳米级金属电极（如金/铂薄膜），实现对单个细胞电信号的高灵敏度捕获。同时，微针阵列可用于组织液提取，通过中空结构设计与毛细作用，在30秒内完成微升量级体液采集，避免传统**的痛苦与***风险。该技术结合表面亲疏水修饰，解决了微针堵塞与生物污染问题，已应用于连续血糖监测芯片与药物透皮递送系统，为可穿戴医疗设备提供**组件支持。天津微流控芯片公司基于MEMS发展而来的微流控芯片技术。
深硅刻蚀工艺在高深宽比结构中的技术突破：深硅刻蚀（DRIE）是制备高深宽比微流道的主要工艺，公司通过优化Bosch工艺参数，实现了深度100-500μm、宽深比1:10至1:20的微结构加工。刻蚀过程中采用电感耦合等离子体（ICP）源，结合氟基气体（如SF6）与碳基气体（如C4F8）的交替刻蚀与钝化，确保侧壁垂直度>89°，表面粗糙度<50nm。该技术应用于地质勘探模拟芯片时，可精确复制地下岩层的微孔结构，用于油气渗流特性研究；在生化试剂反应腔中，高深宽比流道增加了反应物接触面积，使酶促反应速率提升40%。公司还开发了双面刻蚀与通孔对齐技术，实现三维立体流道网络加工，为微反应器、微换热器等复杂器件提供了关键制造能力，推动MEMS技术在能源、环境等领域的跨学科应用。
微米级尺度微流控芯片的精密加工与应用：在0.5-5μm微米级尺度微流控芯片加工领域，公司依托MEMS光刻、深硅刻蚀及纳米压印等技术，实现亚微米级精度的微流道、微孔阵列及三维结构制造。电镜下可见的精细流道网络，其宽度误差可控制在±50nm以内，适用于单分子检测、液滴生成等超高精度场景。例如，在单分子免疫检测芯片中，微米级微孔阵列可实现单个生物分子的捕获与荧光信号放大，检测灵敏度较传统方法提升10倍以上。该尺度芯片的加工难点在于材料刻蚀均匀性与表面粗糙度控制，公司通过干湿结合刻蚀工艺与表面化学修饰技术，解决了高深宽比结构（如10:1以上）的加工瓶颈，成功应用于外泌体分选、循环肿瘤细胞捕获等前沿生物医学领域，为精细医疗提供器件支撑。多样化微流控芯片加工案例覆盖数字 PCR、单分子检测、POCT 等多个领域。
美国圣母大学(University of Notre Dame)的Hsueh-Chia Chang博士与微生物学家和免疫检测professor合作研究，提高了微流控分析设备检测细胞和生物分子的速度和灵敏性。同时，Chang对交流电动电学进行了改善，因为他认为交流电（AC）可作为选择平台，驱动流体通过用于医学和研究的微流控分析仪。微流控分析仪的驱动机制是常规的直流电动电学，但是使用时容易产生气泡并引起物质在电极发生化学反应的缺点限制了直流电的应用，此外，为保证其对流量的精确控制，直流电极必须放置在储液池中，不能直接连接在电路中。支持 0.5-5μm 微米级尺度微流控芯片加工，满足单分子检测等高精需求。广西微流控芯片服务热线
深度解析微流控芯片技术。浙江微流控芯片私人定做
ThinXXS公司Thomas Stange博士认为，虽然原型设计价格高且有风险，微制造技术已不再是微流控产品商业化生产的主要障碍。对于他们公司所操纵的高价药品测试和诊断市场，校准和工艺惯性才是主要的障碍。ThinXXS于6月推出了一款新的微芯片产品QPlate，同时宣称该产品结合了MEMS硅微处理、微铸技术以及印制电路板技术。QPlate是与丹麦Sophion Bioscience公司合作开发的，是QPatch-16 system的组成部分，QPatch-16 system可平行的测量16个细胞离子通道。浙江微流控芯片私人定做
