去离子水在制备过程中几乎去除了所有的矿物质离子,如钙、镁、钾、钠等。这些矿物质对人体健康是非常重要的。例如,钙是维持骨骼和牙齿健康的关键成分,人体约 99% 的钙存在于骨骼和牙齿中,它还在神经传导、肌肉收缩等生理过程中发挥重要作用;镁参与人体内多种酶的反应,对能量代谢、蛋白质合成等过程不可或缺。长期...
化学氧化 - 滴定法 原理:通过化学氧化剂(如重铬酸钾、高锰酸钾等)将水中的有机碳氧化为二氧化碳。然后可以采用滴定的方法来测定生成的二氧化碳或者剩余的氧化剂的量,从而间接计算 TOC。例如,用过量的重铬酸钾氧化水样中的有机碳后,用硫酸亚铁铵标准溶液滴定剩余的重铬酸钾,根据消耗的重铬酸钾的量来计算 TOC。 操作要点:化学氧化过程中,要准确控制氧化剂的用量、反应时间和温度等条件。滴定操作要严格按照化学分析的标准程序进行,确保滴定终点的准确判断,以获得可靠的测量结果。 TOC 的来源与控制 来源:纯水系统中的 TOC 来源。原水本身可能含有天然有机物,如腐殖酸、富营养化水体中的藻类分泌物等。在纯水的制备过程中,管道系统、储存容器等也可能会引入有机碳。例如,一些塑料管道可能会渗出有机添加剂,储存容器的密封材料可能会释放有机物。 控制方法:对于原水的处理,可以采用活性炭吸附、超滤等方法去除水中的天然有机物。在纯水系统的设计和建设中,尽量选择低有机物渗出的管道材料(如聚偏氟乙烯,PVDF)和储存容器。定期对纯水系统进行维护和清洗,例如清洗管道、更换老化的密封材料等,也有助于控制 TOC 的含量。去离子水在材料科学的金属材料热处理中,可避免氧化变色。去离子水制造业

去离子水和蒸馏水主要有以下区别,蒸馏水是通过蒸馏的方法制备的。将水加热至沸点,使其汽化,然后将水蒸气冷却凝结成液态水。这个过程主要是利用水和杂质的沸点差异来分离它们。例如,水中的一些不挥发性杂质(如大多数盐类,因为它们的沸点远高于水的沸点)会留在原来的容器中,而水蒸气中基本只含有水这种挥发性物质。 简单的蒸馏装置通常包括一个加热源(如酒精灯或电热套)、一个蒸馏烧瓶、一个冷凝器和一个接收容器。在蒸馏烧瓶中加热水,水蒸气进入冷凝器,通过冷却介质(如冷水)的冷却作用,水蒸气重新变成液态水,收集在接收容器中。去离子水是通过离子交换树脂去除水中的离子杂质而得到的。离子交换树脂是一种带有可交换离子的高分子材料。 通常包含阳离子交换树脂和阴离子交换树脂。当水通过阳离子交换树脂时,水中的阳离子(如 Ca²⁺、Mg²⁺、Na⁺等)会与树脂上的氢离子(H⁺)进行交换;接着,水再通过阴离子交换树脂,水中的阴离子(如 Cl⁻、SO₄²⁻等)会与树脂上的氢氧根离子(OH⁻)进行交换。经过这一系列交换过程,水中的离子杂质被去除,从而得到去离子水。山西过滤去离子水去离子水在食品加工的腌制食品生产中,可防止变质变色。

动态浊度法 原理:内素与鲎试剂反应会一系列酶反应,会导致反应体系中产生凝固蛋白,使溶液的浊度增加。浊度的增加与内素的浓度在一定范围内呈线性关系,通过检测溶液浊度随时间的变化,可以定量地测定内素的含量。 操作步骤:复溶鲎试剂后,将处理后的纯水样品和复溶后的鲎试剂加入到动态浊度法检测仪的反应池中。仪器在恒温 37℃条件下自动检测反应体系的浊度变化,并根据预先设定的标准曲线来计算内素的含量。如果检测结果显示内素含量低于设定的安全标准(如制药行业注射用水要求内素含量低于 0.25 EU/mL),则可以认为热源物质已被有效去除。
去离子水和蒸馏水主要有以下区别,用途方面。蒸馏水 在医疗领域,蒸馏水可用于一些医疗器械的清洗,如一些简单的手术器械的初步冲洗,因为它可以去除大部分的杂质,减少对器械的污染。 在化学实验中,对于一些对离子含量要求不是特别高,但需要无固体杂质的实验,蒸馏水也可以作为溶剂使用。例如,在一些定性的化学实验中,蒸馏水可以用来溶解一些固体试剂进行反应观察。 去离子水 在电子工业中,如半导体制造、电路板的清洗等,去离子水是必不可少的。因为电子元件对水中的离子杂质非常敏感,哪怕是微量的离子都可能导致元件性能下降或损坏。 在制药行业,对于一些高精度的药品生产,如注射剂的配制,去离子水的使用可以确保药品的质量和安全性,防止因水中离子引起的药物不良反应。离子交换树脂的老化会导致去离子水质量下降,需及时更换。

制药行业 在制药行业,对于注射用水和纯化水,TOC 含量要求极为严格。因为有机碳杂质可能会影响药品质量和安全性。例如,在注射剂的生产中,水中过高的 TOC 含量可能会与药物成分发生反应,或者作为微生物生长的营养源,引发药品污染。所以,制药行业通常要求注射用水的 TOC 含量不超过 500μg/L,纯化水的 TOC 含量不超过 5mg/L。这些严格的标准是为了确保药品的纯度和稳定性,符合药品生产质量管理规范(GMP)的要求。 电子工业(半导体制造等) 半导体制造过程对纯度要求极高,水是半导体制造过程中清洗和蚀刻等步骤的关键材料。即使微量的有机碳杂质也可能导致芯片缺陷。例如,在光刻过程中,水中的有机碳可能会吸附在硅片表面,影响光刻精度。因此,电子工业中使用的超纯水要求 TOC 含量一般低于 1 - 10μg/L,以满足高精度芯片制造的需要。在生物技术的基因芯片实验中,去离子水可保障实验准确性。黑龙江去离子水电话
去离子水在化学合成的药物中间体合成中,可提升产品质量。去离子水制造业
《中国国家实验室用水规格 GB6682-92》:规定了实验室用水的级别、技术要求、试验方法等,将实验室用水分为三个级别,其中一级水的电阻率、TOC 等指标与质谱仪使用的纯水标准较为接近,是国内实验室制备和使用纯水的重要参考标准之一2.《中国国家电子级超纯水规格 GB/T11446-1997》:针对电子行业对超纯水的高要求制定的标准,该标准对超纯水的电阻率、颗粒物质、有机物、微生物等多项指标做出了严格规定,其电阻率要求与质谱仪使用的高纯度纯水相当,对电子行业中使用质谱仪进行痕量分析等应用具有重要的指导意义。《钢研纳克 PlasmaMS 300 电感耦合等离子体质谱仪操作手册》:在仪器的使用说明中,通常会提及对使用纯水的要求,如电阻率应在 18.2MΩ/cm 左右等,帮助用户正确选择和使用符合要求的纯水,以确保仪器的正常运行和分析结果的准确性。去离子水制造业
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