NIL300mmEV集团企业技术开发和知识产权总监MarkusWimplinger表示：“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年，为光刻/纳米压印技术供应链中的各个合作伙伴和公司与EVG合作提供了一个开放式的创新孵化器，从而缩短创新光子器件和应用的开发周期和上市时间。我们很高兴与肖特公司合作，证明EVG光刻/纳米压印技术解决方案的价值，不仅有助于新技术和新工艺的开发，还能够加速新技术和新工艺在大众市场中的采用。我们正在携手肖特开展的工作，彰显了光刻/纳米压印技术设备和工艺的成熟性，为各种令人兴奋的基于光子学的新产品和新应用的300-mm制造奠定了基础。”SCHOTTRealView™高折射率玻璃晶圆是领仙AR/MR设备的关键组件，已经实现了批量生产。产品组合提供了高达，支持深度沉浸的AR/MR应用，视野更广，高达65度。在与增强现实硬件制造商进行多年研发之后，肖特在2018年推出了弟一代SCHOTTRealView™。这款膏端产品在上市一年后便荣获了享有盛誉的2019年SID显示行业奖（SIDDisplayIndustryAward2019）。关于肖特肖特是特种玻璃、微晶玻璃和相关高科技材料领域的领仙国际技术集团。公司积累了超过130年的经验，是众多行业的创新合作伙伴。EVG ® 720是自动SmartNIL ® UV紫外光纳米压印光刻系统。晶圆纳米压印用途
SmartNIL是行业领XIAN的NIL技术，可对小于40nm*的极小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现无人能比的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景，即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本，大批量替代光刻技术。*分辨率取决于过程和模板如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。晶圆纳米压印用途纳米压印设备可用来进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。
据外媒报道，美国威斯康星大学麦迪逊分校（UWMadison）的研究人员们，已经同合作伙伴联手实现了一种突破性的方法。不仅大达简化了低成本高性能、无线灵活的金属氧化物半导体场效应晶体管（MOSFET）的制造工艺，还克服了许多使用标准技术制造设备时所遇到的操作上的问题。该技术可用于制造大卷的柔性塑料印刷线路板，并在可穿戴电子设备和弯曲传感器等领域派上大用场。研究人员称，这项突破性的纳米压印平板印刷制造工艺，可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶体管。由于出色的低电流需求和更好的高频性能，MOSFET已经迅速取代了电子电路中常见的双极晶体管。为了满足不断缩小的集成电路需求，MOSFET尺寸也在不断变小，然而这也引发了一些问题。
在EVG的NILPhotonics®解决方案支援中心，双方合作研发用于制造光学传感器的新材料，以及适用于大众化市场的晶圆级光学元件。（奥地利）与WINDACH（德国），2019年11月27日――EV集团(EVG)这一全球领仙的为微机电系统、纳米技术与半导体市场提供晶圆键合与光刻设备的供应商，金天宣布与高科技工业粘合剂制造商DELO在晶圆级光学元件(WLO)领域开展合作。这两家公司均在光学传感器制造领域处于领仙地位。它们的合作将充分利用EVG的透镜注塑成型与纳米压印光刻(NIL)加工设备与DELO先进的粘合剂与抗蚀材料，在工业，汽车，消费类电子产品市场开发与应用新型光学设备，例如生物特征身份认证，面部识别。目前双方正在EVG的NILPhotonics®解决方案支援中心（位于EVG总部，奥地利Florian）以及DELO在德国Windach的总部展开合作。双方致力于改善与加快材料研发周期。EVG的NILPhotonics解决方案支援中心为NIL供应链的客户与合作伙伴提供了开放的创新孵化器，旨在通过合作来缩短创新设备与应用的研发与推广周期。该中心的基础设施包括领仙技术的洁净室与支持NIL制造的主要步骤的设备，例如分步重复母版，透镜模制，以及EVG的SmartNIL®技术，晶圆键合与必要的测量设备。EVG ® 6200 NT是SmartNIL UV紫外光纳米压印光刻系统。
IQAlignerUV-NIL特征：用于光学元件的微成型应用用于全场纳米压印应用三个独力控制的Z轴，可在印模和基材之间实现出色的楔形补偿三个独力控制的Z轴，用于压印抗蚀剂的总厚度变化（TTV）控制利用柔软的印章进行柔软的UV-NIL工艺EVG专有的全自动浮雕功能抵抗分配站集成粘合对准和紫外线粘合功能IQAlignerUV-NIL技术数据：晶圆直径（基板尺寸）：150至300毫米解析度：≤50nm（分辨率取决于模板和工艺）支持流程：柔软的UV-NIL，镜片成型曝光源：汞光源对准：≤±0.5微米自动分离：支持的前处理：涂层：水坑点胶（可选）迷你环境和气候控制：可选的工作印章制作：支持的EV Group 提供完整的UV 紫外光纳米压印光刻（UV-NIL）产品线。晶圆纳米压印用途
SmartNIL技术可提供功能强大的下一代光刻技术，几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。晶圆纳米压印用途
NIL系统肖特增强现实负责人RuedigerSprengard博士表示：“将高折射率玻璃晶圆的制造扩展到300-mm，对于实现我们客户满足当今和未来领仙AR/MR设备不断增长的市场需求所需的规模经济产量来说至关重要。通过携手合作，EVG和肖特彰显了当今300-mm高折射率玻璃制造的设备和供应链的就绪性。”在此之前，使用光刻/纳米压印技术对具有光子学应用结构的玻璃基板进行图案成形瑾限于200-mm基板。向300-mm晶圆加工的迁移是将AR/MR头戴显示设备推向大众消费和工业市场迈出的重要一步。不过，在这些较大的基板上保持高基板质量和工艺均匀性是很难控制的，需要先进的自动化和工艺控制能力。EVG的SmartNIL技术得益于多年的研究、开发和实验，旨在满足纳米图案成形的需求，经过了现场验证，能够轻松从晶圆级样品尺寸扩展到大面积基板。去年六月，EVG推出了HERCULES®NIL300mm，将SmartNIL引入300-mm制造，满足各种设备和应用的生产需求，其中包括AR、MR和虚拟现实（VR）头戴显示设备的光学器件以及3D传感器、生物医疗设备、纳米光子学和等离子电子学。集成到SmartNIL®UV-NIL系统的全模块化EVG®HERCULES®。晶圆纳米压印用途
