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厂房设计基本参数
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  • 厂房设计
厂房设计企业商机

洁净室内墙壁和顶棚的装修应符合下列要求:1.洁净室内墙壁和顶棚的表面应平整、光滑、不起尘、避免眩光、便于除尘,并应减少凹凸面。2.踢脚不应突出墙面。3.洁净室不宜采用砌筑墙抹灰墙面,当必须采用时宜干燥作业,抹灰应采用高级抹灰标准。墙面抹灰后应刷涂料面层,并应选用难燃、不开裂、耐清洗、表面光滑、不易吸水变质发霉的涂料。洁净室地面设计应符合下列要求:1.洁净室地面应满足生产工艺要求。2.洁净室地面应平整,耐磨、易清洗,不易积聚静电,避免眩光,不开裂等。3.地面垫层宜配筋,潮湿地区垫层应做防潮构造。4.洁净厂房技术夹层的墙壁和顶棚表面应平整、光滑,位于地下的技术夹层应采取防水或防潮、防霉措施。洁净实验室设计联系成都博一医药设计有限公司。四川原料药车间设计

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洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间温度不宜超过25度,湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时,冷却水管壁上会结露,如果发生在精密装置或电路中,就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以。相对湿度越高,粘附的越难去掉,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产比较好湿度范围为35—45%。重庆提取洁净工程设计细胞设计认准成都博一医药设计有限公司。

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人流路线应避免往复交叉。人员净化用室和生活用室的布置,宜按下页图的人员净化程序进行布置。根据不同的空气洁净度等级和工作人员数量,洁净厂房内人员净化用室和生活用室的建筑面积应合理确定。一般宜按洁净区设计人数平均每人2~4平方米计算。洁净工作服更衣室的空气洁净度等级宜按低于相邻洁净区空气洁净度等级1~2级设置。洁净工作服洗涤室的空气洁净度等级不宜低于8级。洁净室内设备和物料出入口,应根据设备和物料的性质、形状等特征设置物料净化用室及其设施。物料净化用室的布置,应防止净化后物料在传递过程中被污染。

空气过滤器的选用、布置和安装方式应符合下列要求:1.空气净化处理应根据空气洁净度等级合理选用空气过滤器。2.空气过滤器的处理风量应小于或等于额定风量。3.中效(高中效)空气过滤器宜集中设置在空调系统的正压段。4.亚高效和高效过滤器作为末端过滤器时宜设置在净化空调系统的末端;超高效过滤器必须设置在净化空调系统的末端。5.设置在同一洁净区内的高效(亚高效、超高效)空气过滤器的阻力、效率宜相近。6.高效(亚高效、超高效)空气过滤器安装前应进行检漏,安装应严密,安装方式应简便、可靠,易于检漏和更换。7.对较大型的洁净厂房的净化空调系统的新风宜集中进行空气净化处理。8.净化空调系统设计应合理利用回风。9.净化空调系统的风机宜采取变频措施。10.净化空调系统的电加热器、电加湿器应采取安全保护措施。寒冷地区的新风系统应设置防冻保护措施。厂房设计欢迎联系成都博一医药设计有限公司。

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多个冷库连接在一起并与建筑物隔墙分隔的问题经常会出现。通常情况下,设计师会将建筑砖墙一个一个地绘制出来,将其理解为一个冷库一个建筑块区。然而,在设计中,建筑隔墙可以直接全空出来,不需要用砖墙再分隔成一间一间的小区块。这样做只会增加冷库保温材料的面积和建筑成本,并且减小现场施工作业面。可以直接使用冷库保温板来分隔多个冷库,这样还可以减少一道隔墙板(两个冷库可以共用一个隔墙板,不同温区的库可以共用较厚的保温板)。这样一来,也不会影响以后增加消防设施。希望在未来的医药公司建设中,更多的设计方能够注意到这一点。定制厂房设计就找成都博一医药设计有限公司。四川原料药车间设计

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产生或使用相同易燃易爆物质的厂房,应尽量集中在一个区域;对性质不同的危险物质的生产或使用,尤其是两者相遇会产生物质的生产区域应分开设置。防爆区域内有良好的通、排风系统及电气报警系统并与其它区域用防爆墙隔离。有空气洁净度级别要求的精烘包区域与其他生产区域要有效隔离,并置于厂区上风位置,以保证生产环境的洁净要求。高毒(如药物)、高致敏性(如青霉素)和类药物的生产应有单独的厂房,且其空气净化系统的排风口不得位于其他厂房吸风口的附近。四川原料药车间设计

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