IQAligner®NT特征：零辅助桥接工具-双基板概念，支持200mm和300mm的生产灵活性吞吐量>200wph（手次打印）间端对准精度：顶侧对准低至250nm背面对准低至500nm宽带强度>120mW/cm²（300毫米晶圆）完整的明场掩模移动（FCMM）可实现灵活的图案定位并兼容暗场掩模对准非接触式原位掩膜到晶圆接近间隙验证超平坦和快速响应的温度控制晶片卡盘，出色的跳动补偿手动基板装载能力返工分拣晶圆管理和灵活的盒式系统远程技术支持和GEM300兼容性智能过程控制和数据分析功能[FrameworkSoftwarePlatform]用于过程和机器控制的集成分析功能设备和过程性能根踪功能并行/排队任务处理功能智能处理功能发生和警报分析智能维护管理和跟踪EVG所有掩模对准器都支持EVG专有的NIL技术。甘肃光刻机功率器件应用
IQAligner®NT曝光设定：硬接触/软接触/接近模式/柔性模式楔形补偿：全自动软件控制；非接触式IQAligner®NT曝光选项：间隔曝光/洪水曝光先进的对准功能：自动对准暗场对准功能/完整的明场掩模移动（FCMM）大间隙对准跳动控制对准IQAligner®NT系统控制：操作系统：Windows文件共享和备份解决方案/无限制程序和参数多语言用户GUI和支持：CN，DE，FR，IT，JP，KR实时远程访问，诊断和故障排除如果您需要确认准确的产品的信息，请联系我们。如果需要键合机，请看官网信息。官方光刻机研发生产EVG的大批量制造系统目的是在以蕞佳的成本效率与蕞高的技术标准相结合，为全球服务基础设施提供支持。
EVG曝光光学：专门开发的分辨率增强型光学元件（REO）可提供高出50％的强度，并显着提高/分辨率，在接近模式下可达到小于3μm的分辨率。REO的特殊设计有助于控制干涉效应以获得分辨率。EVG蕞新的曝光光学增强功能是LED灯设置。低能耗和长寿命是UV-LED光源的蕞大优势，因为不需要预热或冷却。在用户软件界面中可以轻松、实际地完成曝光光谱设置。此外，LED需要瑾在曝光期间供电，并且该技术消除了对汞灯经常需要的额外设施（废气，冷却气体）和更换灯的需要。这种理想的组合不仅可以蕞大限度地降低运行和维护成本，还可以增加操作员的安全性和环境友好性。
EVG120特征2：先进且经过现场验证的机器人具有双末端执行器功能，可确保连续的高产量；工艺技术桌越和开发服务：多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）智能过程控制和数据分析功能[FrameworkSWPlatform]用于过程和机器控制的集成分析功能设备和过程性能根踪功能；并行/排队任务处理功能；智能处理功能；发生和警报分析；智能维护管理和根踪；技术数据：可用模块；旋涂/OmniSpray®/开发；烤/冷；晶圆处理选项：单/双EE/边缘处理/晶圆翻转；弯曲/翘曲/薄晶圆处理。我们用持续的技术和市场领导地位证明了自己的实力，包括EVG在使用各种非标准抗蚀剂方面的无人可比的经验。
EVGroup企业技术总监ThomasGlinsner博士证实：“我们看到支持晶圆级光学器件的设备需求正在急剧增加。”“JIN从今年年初开始，我们就向大型WLO制造商交付了多个用于透镜成型和堆叠以及计量的系统，以进行大批量生产。此类订单进一步巩固了EVG在该领域市场LINGDAOZHE的地位，同时创造了新兴应用程序中有大量新机会。”业界LINGXIAN的设备制造商ZUI近宣布了扩大其传感领域业务目标的计划，以帮助解决客户日益激进的上市时间窗口。根据市场研究和策略咨询公司YoleDéveloppement的说法，下一代智能手机中正在设计十多种传感器。其中包括3D感测相机，指纹传感器，虹膜扫描仪，激光二极管发射器，激光测距仪和生物传感器。总体而言，光纤集线器预计将从2016年的106亿美元增长到2021年的180亿美元，复合年增长率超过11％*。EVG101是光刻胶处理，EVG105是光刻胶烘焙机，EVG120、EVG150是光刻胶处理自动化系统。甘肃光刻机功率器件应用
EVG光刻机设备，可完全集成到HERCULES光刻轨道系统中，并辅以其用于从上到下侧对准验证的计量工具。甘肃光刻机功率器件应用
EVG®610特征：晶圆/基板尺寸从小到200mm/8''顶侧和底侧对准能力高精度对准台自动楔形补偿序列电动和程序控制的曝光间隙支持ZUI新的UV-LED技术ZUI小化系统占地面积和设施要求分步流程指导远程技术支持多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）便捷处理和转换重组台式或带防震花岗岩台的单机版EVG®610附加功能：键对准红外对准纳米压印光刻（NIL）EVG®610技术数据：对准方式上侧对准：≤±0.5µm底面要求：≤±2,0µm红外校准：≤±2,0µm/具体取决于基板材料键对准：≤±2,0µmNIL对准：≤±2,0µm甘肃光刻机功率器件应用
