光谱共焦基本参数
  • 品牌
  • 创视智能,tronsight
  • 型号
  • TS-C
  • 用途类型
  • 光谱位移传感器
  • 工作原理
  • 光谱共焦
  • 输出信号
  • 模拟型
  • 材质
  • 金属膜
  • 位移特征
  • 点位移
  • 测量范围
  • 中位移,小位移
光谱共焦企业商机

光谱共焦技术是在共焦显微术基础上发展而来的技术 ,在测量过程中无需轴向扫描,直接由波长对应轴向距离信息,因此可以大幅提高测量速度。基于光谱共焦技术的传感器是近年来出现的一种高精度、非接触式的新型传感器,精度理论上可达到纳米级。由于光谱共焦传感器对被测表面状况要求低、允许被测表面有更大的倾斜角、测量速度快、实时性高,因此迅速成为工业测量的热门传感器,大量应用于精密定位、薄膜厚度测量、微观轮廓精密测量等领域。本文介绍了光谱共焦技术的原理,并列举了光谱共焦传感器在几何量计量测试中的典型应用。同时,对共焦技术在未来精密测量的进一步应用进行了探讨,并展望了其发展前景。光谱共焦技术的发展将有助于解决现实生产和生活中的问题。高精度光谱共焦价格

光谱共焦传感器通过使用多透镜光学系统将多色白光聚焦到目标表面上来工作。透镜的排列方式是通过控制色差(像差)将白光分散成单色光。每个波长都有一定的偏差(特定距离)进行工厂校准。只有精确聚焦在目标表面或材料上的波长才能用于测量。经过共焦孔径从目标表面反射回来的光进入光谱仪进行检测和处理。在整个传感器的测量范围内,实现了一个非常小的、恒定的光斑尺寸,通常小于10微米。微型径向和轴向共焦版本可用于测量钻孔或钻孔内壁面,以及测量窄孔、小间隙和空腔 。高精度光谱共焦价格光谱共焦位移传感器可以应用于材料科学、医学、纳米技术等多个领域;

这篇文章介绍了一种具有1毫米纵向色差的超色差摄像镜头,它具有0.4436的图像室内空间NA和0.991的线性相关系数R²,其构造达到了原始设计要求并显示出了良好的光学性能。实现线性散射需要考虑一些关键条件 ,并可以采用不同的优化方法来改进设计。首先,线性散射的实现需要确保摄像镜头的各种光谱成分具有相同的焦点位置,以减少色差。为了实现这个要求,需要采用精确的光学元件制造和装配,确保不同波长的光线汇聚到同一焦点。同时,特殊的透镜设计和涂层技术也可以减小纵向色差。在优化设计方面,可以采用非球面透镜或使用折射率不同的材料组合来提高图像质量。此外,改进透镜的曲率半径、增加光圈叶片数量和设计更复杂的光学系统也可以进一步提高性能。总的来说,这项研究强调了高线性纵向色差和高图像室内空间NA在超色差摄像镜头设计中的重要性。这种设计方案展示了光学工程的进步,表明光谱共焦位移传感器的商品化生产将朝着高线性纵向色差和高图像室内空间NA的方向发展,从而提供更加精确和高性能的成像设备,满足不同领域的需求。

由于光谱共焦传感器对于不同的反射面反射回来的单色光的波长不同,因此对于材料的厚度精密测量具有独特的优势。光学玻璃、生物薄膜、平行平板等,两个反射面都会反射不同波长的单色光,进而只需一个传感器,即可推算出厚度,测量精度可达微米量级,且不损伤被测表面。利用光谱共焦位移传感器测量透明材料厚度的应用,计算了该系统的测量误差范围大概为 0.005mm。利用光谱共焦传感器对平行平板的厚度以及光学镜头的中心厚度进行测量的方法,并针对被测物体材料的色散对厚度测量精度的影响做了理论的分析。为了探究由流体跌落方式制备的薄膜厚度与跌落模式、雷诺数、底板的倾斜角度之间的关系,采用光谱共焦传感器实时监控制备后的薄膜厚度,利用对顶安装的白光共焦传感器组 ,实现了对厚度为 10—100μm 的金属薄膜厚度及分布的精确测量,并进行了测量不确定度分析,得到系统的测量不确定度为 0.12μm 左右。光谱共焦位移传感器通常由光源、光谱仪、探测器和信号处理器等组成。

在硅片栅线的厚度测量过程中,创视智能TS-C系列光谱共焦传感器和CCS控制器被使用。TS-C系列光谱共焦位移传感器具有0.025 µm的重复精度,±0.02%的线性精度,10kHz的测量速度和±60°的测量角度。它适用于镜面、透明、半透明、膜层、金属粗糙面和多层玻璃等材料表面,支持485 、USB、以太网和模拟量数据传输接口。在测量太阳能光伏板硅片栅线厚度时,使用单探头在二维运动平台上进行扫描测量。栅线厚度可通过栅线高度与基底高度之差获得,通过将需要扫描测量的硅片标记三个区域并使用光谱共焦C1200单探头单侧测量来完成测量。由于栅线不是平整面,并且有一定的曲率,因此对于测量区域的选择具有较大的随机性影响。光谱共焦技术的精度可以达到纳米级别。自动测量内径光谱共焦生产厂家哪家好

光谱共焦技术的研究和应用将推动科学技术的进步。高精度光谱共焦价格

高精度光谱共焦位移传感器具有非常高的测量精度 。它能够实现纳米级的位移测量,对于晶圆表面微小变化的检测具有极大的优势。在半导体行业中,晶圆的表面质量对于芯片的制造具有至关重要的影响,因此需要一种能够jing'q精确测量晶圆表面位移的传感器来保证芯片的质量。其次,高精度光谱共焦位移传感器具有较高的测量速度。它能够迅速地对晶圆表面进行扫描和测量,极大地提高了生产效率。在晶圆制造过程中,时间就是金钱,因此能够准确地测量晶圆表面位移对于生产效率的提高具有重要意义。另外,高精度光谱共焦位移传感器具有较强的抗干扰能力。它能够在复杂的环境下进行稳定的测量,不受外界干扰的影响。在半导体制造厂房中,存在各种各样的干扰源,如电磁干扰、光学干扰等,而高精度光谱共焦位移传感器能够抵御这些干扰,保证测量的准确性和稳定性。高精度光谱共焦价格

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