白光扫描干涉法可以避免色光相移干涉法测量的局限性。该方法利用白光作为光源，由于白光是一种宽光谱的光源，相干长度相对较短，因此发生干涉的位置范围很小。在白光干涉时，存在一个确定的零位置，当测量光和参考光的光程相等时，所有波长的光均会发生相长干涉，此时可以观察到一个明亮的零级条纹，同时干涉信号也达到最大值。通过分析这个干涉信号，可以得到被测物体的几何形貌。白光扫描干涉术是通过测量干涉条纹来完成的，而干涉条纹的清晰度直接影响测试精度。因此，为了提高精度，需要更为复杂的光学系统，这使得条纹的测量变得费力费时。它可以用不同的软件进行数据处理和分析，比如建立数据库、统计数据等。苏州膜厚仪应用
自1986年E.Wolf证明了相关诱导光谱的变化以来，人们开始在理论和实验上进行探讨和研究。结果表明，动态的光谱位移可以产生新的滤波器，可应用于光学信号处理和加密领域。本文提出的基于白光干涉光谱单峰值波长移动的解调方案，可应用于当两光程差非常小导致干涉光谱只有一个干涉峰的信号解调，实现纳米薄膜厚度测量。在频域干涉中，当干涉光程差超过光源相干长度时，仍然可以观察到干涉条纹。这种现象是因为白光光源的光谱可以看成是许多单色光的叠加，每一列单色光的相干长度都是无限的。当使用光谱仪接收干涉光谱时，由于光谱仪光栅的分光作用，宽光谱的白光变成了窄带光谱，导致相干长度发生变化。膜厚仪选择白光干涉膜厚仪是一种用来测量透明和平行表面薄膜厚度的仪器。
白光干涉光谱分析是目前白光干涉测量的一个重要方向。此项技术通过使用光谱仪将对条纹的测量转变为对不同波长光谱的测量，分析被测物体的光谱特性，得到相应的长度信息和形貌信息。与白光扫描干涉术相比，它不需要大量的扫描过程，因此提高了测量效率，并减小了环境对其影响。此项技术能够测量距离、位移、块状材料的群折射率以及多层薄膜厚度等。白光干涉光谱分析基于频域干涉的理论，采用白光作为宽波段光源，经过分光棱镜折射为两束光。这两束光分别经由参考面和被测物体入射，反射后再次汇聚合成，并由色散元件分光至探测器，记录频域干涉信号。这个光谱信号包含了被测表面信息，如果此时被测物体是薄膜，则薄膜的厚度也包含在光谱信号当中。白光干涉光谱分析将白光干涉和光谱测量的速度结合起来，形成了一种精度高且速度快的测量方法。
为了分析白光反射光谱的测量范围，进行了不同壁厚的靶丸壳层白光反射光谱测量实验。实验结果显示，对于壳层厚度为30μm的靶丸，其白光反射光谱各谱峰非常密集，干涉级次数值大；此外，由于靶丸壳层的吸收，壁厚较大的靶丸信号强度相对较弱。随着靶丸壳层厚度的进一步增加，其白光反射光谱各谱峰将更加密集，难以实现对各干涉谱峰波长的测量。为实现较大厚度靶丸壳层厚度的白光反射光谱测量，需采用红外宽谱光源和光谱探测器。对于壳层厚度为μm的靶丸，测量的波峰相对较少，容易实现壳层白光反射光谱谱峰波长的准确测量；随着靶丸壳层厚度的进一步减小，两干涉信号之间的光程差差异非常小，以至于光谱信号中只有一个干涉波峰，难以使用峰值探测的白光反射光谱方法测量其厚度。为了实现较小厚度靶丸壳层厚度的白光反射光谱测量，可采用紫外宽谱光源和光谱探测器提升其探测厚度下限。随着技术的不断进步和应用领域的拓展，其性能和功能会得到提高和扩展。
常用白光垂直扫描干涉系统的原理：入射的白光光束通过半反半透镜进入到显微干涉物镜后，被分光镜分成两部分，一个部分入射到固定参考镜，一部分入射到样品表面，当参考镜表面和样品表面的反射光通过分光镜后，再次汇聚发生干涉，干涉光通过透镜后，利用电荷耦合器(CCD)可探测整个视场内双白光光束的干涉图像。利用Z向精密位移台带动干涉镜头或样品台Z向扫描，可获得一系列干涉图像。根据干涉图像序列中对应点的光强随光程差变化曲线，可得该点的Z向相对位移；然后，由CCD图像中每个像素点光强最大值对应的Z向位置获得被测样品表面的三维形貌。白光干涉膜厚仪广泛应用于半导体、光学、电子、化学等领域，为研究和开发提供了有力的手段。高精度膜厚仪市场价格
这种膜厚仪可以测量大气压下，1 nm到1mm范围内的薄膜厚度。苏州膜厚仪应用
在纳米量级薄膜的各项相关参数中，薄膜材料的厚度是薄膜设计和制备过程中的重要参数，是决定薄膜性质和性能的基本参量之一，它对于薄膜的力学、光学和电磁性能等都有重要的影响[3]。但是由于纳米量级薄膜的极小尺寸及其突出的表面效应，使得对其厚度的准确测量变得困难。经过众多科研技术人员的探索和研究，新的薄膜厚度测量理论和测量技术不断涌现，测量方法实现了从手动到自动，有损到无损测量。由于待测薄膜材料的性质不同，其适用的厚度测量方案也不尽相同。对于厚度在纳米量级的薄膜，利用光学原理的测量技术应用。相比于其他方法，光学测量方法因为具有精度高，速度快，无损测量等优势而成为主要的检测手段。其中具有代表性的测量方法有干涉法，光谱法，椭圆偏振法，棱镜耦合法等。苏州膜厚仪应用
