光谱共焦传感器是一种新型高精度传感器，其测量精度可达到0.02%。相比于光栅尺、容栅、电感式变压器偏移传感器等传感器，它在偏移测量方面具有更加明显的优势。由于它的高精度特性，光谱共焦传感器在几何量高精度测量方面得到了广泛应用，如漫反射光和平面反射面的偏移测量、平整度测量、塑料薄膜和透明材料薄厚测量、外表粗糙度测量等。在偏移测量方面，光谱共焦传感器的主要功能就是测量偏移。研究人员对光谱共焦传感器的散射目镜进行了分析，并制定了相应的构造来提高其各项特性；也有研究人员利用光谱共焦传感器对飞机发动机电机转子叶片空隙进行了高精度和高效率的测量。在平整度测量方面，研究人员分析了光谱共焦传感器的检测误差，并对平面图检测误差展开了科学研究。通过利用光谱共焦传感器对圆平晶的平整度展开测量，他们获得了平面图检测误差的数值。光谱共焦厚度检测系统可以实现厚度的非接触式测量；线阵光谱共焦测厚度
高精度光谱共焦位移传感器具有非常高的测量精度。它能够实现纳米级的位移测量，对于晶圆表面微小变化的检测具有极大的优势。在半导体行业中，晶圆的表面质量对于芯片的制造具有至关重要的影响，因此需要一种能够jing'q精确测量晶圆表面位移的传感器来保证芯片的质量。其次，高精度光谱共焦位移传感器具有较高的测量速度。它能够迅速地对晶圆表面进行扫描和测量，极大地提高了生产效率。在晶圆制造过程中，时间就是金钱，因此能够准确地测量晶圆表面位移对于生产效率的提高具有重要意义。另外，高精度光谱共焦位移传感器具有较强的抗干扰能力。它能够在复杂的环境下进行稳定的测量，不受外界干扰的影响。在半导体制造厂房中，存在各种各样的干扰源，如电磁干扰、光学干扰等，而高精度光谱共焦位移传感器能够抵御这些干扰，保证测量的准确性和稳定性。原装光谱共焦供应商光谱共焦三维形貌仪用超大色散线性物镜组设计是一项重要的研究内容；
本文通过对比测试方法，考核了基于白光共焦光谱技术的靶丸外表面轮廓测量精度。图5(a)比较了原子力显微镜轮廓仪和白光共焦光谱轮廓仪测量曲线，二者低阶轮廓整体相似性高，但在靶丸赤道附近的高频段轮廓测量上存在一定的偏差。此外，白光共焦光谱的信噪比也相对较低，只适合测量靶丸表面低阶的轮廓误差。图5(b)比较了原子力显微镜轮廓仪测量数据和白光共焦光谱轮廓仪测量数据的功率谱曲线，发现两种方法在模数低于100的功率谱范围内测量结果一致性较好，但当模数大于100时，白光共焦光谱的测量数据大于原子力显微镜的测量数据，这反映了白光共焦光谱仪在高频段测量数据信噪比相对较差的特点。由于共焦光谱检测数据受多种因素影响，高频随机噪声可达100nm左右。
在点胶工艺中，生成的胶水小球目前只能通过视觉系统进行检验。然而，在生产中需要保证点胶路线是连续和稳定的，为此，可以利用色散共焦测量传感器系统控制许多质检标准中的很多参数。胶水小球必须放置在其他结构的正中间，异常的材料聚集以及连续性断裂都可以通过该系统检测。在3C领域，对于精密点胶的要求越来越高，需要实时检测胶水高度来实现闭环控制。传统激光传感器无法准确测量复杂胶水轮廓的高度，但是色散共焦测量传感器具有可适用于各种胶水轮廓高度测量的测量角度，特别是在圆孔胶高检测方面具有优势。因此目前业界通用做法是采用超大角度光谱共焦传感器，白光是复合光，总会有光线可以反射回来，加大了光线反射夹角(45°)，可以完美测量白色透明点胶的轮廓。光谱共焦位移传感器广泛应用于制造领域，如半导体制造、精密机械制造等；
高像素传感器设计方案取决于的光对焦水平，要求严格图象室内空间NA的眼镜片。另一方面，光谱共焦位移传感器的屏幕分辨率通常采用光谱抗压强度的全半宽来精确测量。高NA能够降低半宽，提高分辨率。因而，在设计超色差摄像镜头时，NA应尽可能高的。高图象室内空间NA能提高传感器系统的灯源使用率，使待测表层轮廊以比较大视角或一定方向歪斜。可是，NA的提高也会导致球差扩大，并产生电子光学设计优化难度。传感器检测范围主要是由超色差镜片的纵向色差确定。因为光谱仪在各个波长的像素一致，假如纵向色差与波长之间存在离散系统，这类离散系统也会导致感应器在各个波长的像素或敏感度存在较大差别，危害传感器特性。纵向色差与波长的线性相关选用线形相关系数来精确测量，必须接近1。一般有两种方法能够形成充足强的色差：运用玻璃的当然散射;应用衍射光学元器件。除开生产制造难度高、成本相对高外，当能见光根据时，透射耗损也非常高。高精度光谱共焦位移传感器是一种基于共焦原理实现的位移测量技术。原装光谱共焦传感器品牌
该传感器基于光谱共焦原理，能够实现对微小物体表面的位移变化进行高精度的非接触式测量。线阵光谱共焦测厚度
位移是在光轴方向上从预定的基准位置到测量对象的距离。通过计算位移能够测量表面上的凹凸的深度或高度、透明体的厚度等。在一些共焦位移传感器中，包括共焦光学系统的头单元以及包括投光用光源和分光器的约束装置由单独的装置构成。投光用光源的光经由包括光纤的线缆传送到头单元。在该类型的位移计中，头单元通常设置在测量对象附近并且远离约束装置。在以上说明的传统共焦位移传感器中，难以在设置头单元期间辨识头单元是否被适当地设置。即使在约束装置侧设置了显示部，操作者也难以进行设置作业以从头单元的设置位置附近的位置确认约束装置的显示。因此，为了确认显示，操作者必须移动到约束装置的设置位置。如果头单元的设置状态不合适，则操作者必须反复作业，以移动到头单元的设置位置并调整头单元的位置和姿势，之后再次移动到约束装置的设置位置并确认显示在传统的共焦位移传感器中,还难以在头单元的设置位置附近辨识约束装置是否正常操作。线阵光谱共焦测厚度
