光谱共焦基本参数
  • 品牌
  • 创视智能,tronsight
  • 型号
  • TS-C
  • 用途类型
  • 光谱位移传感器
  • 工作原理
  • 光谱共焦
  • 输出信号
  • 模拟型
  • 材质
  • 金属膜
  • 位移特征
  • 点位移
  • 测量范围
  • 中位移,小位移
光谱共焦企业商机

随着科技的不断发展,光谱共焦技术已成为现代制造业中不可或缺的一部分。作为一种高精度、高效率的检测手段,光谱共焦技术在点胶行业中的应用越来越普遍。光谱共焦技术基于光学原理,通过将白光分解为不同波长的光波,实现对样品的精细光谱分析。在制造业中,点胶是一道重要的工序,主要用于产品的密封、固定和保护。随着制造业的不断发展,对于点胶的质量和精度要求也越来越高。光谱共焦技术在点胶行业中的应用,可以有效提高点胶的品质和效率。光谱共焦位移传感器可以实现对不同材料的位移测量,包括金属、陶瓷、塑料等;小型光谱共焦

共焦位移传感器是一种共焦位移传感器,其包括:头单元,其包括共焦光学系统;约束装置,其包括投光用光源,所述投光用光源被构造为产生具有多个波长的光;以及光纤线缆,其包括用于将从所述投光用光源出射的光传送到所述头单元的光纤。所述头单元包括光学构件,所述光学构件被构造为在经由所述光纤的端面出射的检测光中引起轴向色像差并且使所述检测光朝向测量对象会聚。所述约束装置包括:分光器,其被构造为在经由所述光学构件照射于所述测量对象的所述检测光中使通过在聚焦于所述测量对象的同时被反射而穿过所述光纤的端面的检测光光谱分散,并且产生受光信号;以及测量约束部,其被构造为基于所述受光信号计算所述测量对象的位移。所述头单元包括显示部。所述测量约束部基于以所述约束装置的至少一个操作状态、表征各波长的受光强度的受光波形和所述位移的测量值为基础的演算结果约束所述显示部的显示。工厂光谱共焦检测光谱共焦位移传感器通常由光源、光谱仪、探测器和信号处理器等组成。

光谱共焦传感器通过使用多透镜光学系统将多色白光聚焦到目标表面上来工作。透镜的排列方式是通过控制色差(像差)将白光分散成单色光。每个波长都有一定的偏差(特定距离)进行工厂校准。只有精确聚焦在目标表面或材料上的波长才能用于测量。经过共焦孔径从目标表面反射回来的光进入光谱仪进行检测和处理。在整个传感器的测量范围内,实现了一个非常小的、恒定的光斑尺寸,通常小于10微米。微型径向和轴向共焦版本可用于测量钻孔或钻孔内壁面,以及测量窄孔、小间隙和空腔。

光谱共焦测量技术是共焦原理和编码技术的结合。白色光源和光谱仪可以完成一个相对高度范围的准确测量。光谱共焦位移传感器的准确测量原理如图1所示。在光纤和超色差镜片的帮助下,产生一系列连续而不重合的可见光聚焦点。当待测物体放置在检测范围内时,只有一种光波长能够聚焦在待测物表面并反射回来,产生波峰信号。其他波长将失去对焦。使用干涉仪的校准信息可以计算待测物体的位置,并创建对应于光谱峰处波长偏移的编码。超色差镜片通过提高纵向色差,可以在径向分离出电子光学信号的不同光谱成分,因此是传感器的关键部件,其设计方案非常重要。它能够提高研究和制造的精度和效率,为科学研究和工业生产提供了有力的技术支持。

在硅片栅线的厚度测量过程中,创视智能TS-C系列光谱共焦传感器和CCS控制器被使用。TS-C系列光谱共焦位移传感器具有0.025 µm的重复精度,±0.02%的线性精度,10kHz的测量速度和±60°的测量角度。它适用于镜面、透明、半透明、膜层、金属粗糙面和多层玻璃等材料表面,支持485、USB、以太网和模拟量数据传输接口。在测量太阳能光伏板硅片栅线厚度时,使用单探头在二维运动平台上进行扫描测量。栅线厚度可通过栅线高度与基底高度之差获得,通过将需要扫描测量的硅片标记三个区域并使用光谱共焦C1200单探头单侧测量来完成测量。由于栅线不是平整面,并且有一定的曲率,因此对于测量区域的选择具有较大的随机性影响。光谱共焦技术可以对材料表面和内部进行非接触式的检测和分析。点光谱共焦主要功能与优势

光谱共焦技术具有很大的市场潜力;小型光谱共焦

光谱共焦传感器在数码相机中的应用包括相位测距,可大幅提高相机的对焦精度和成像质量,并通过检测相机的微小振动,实现图像的防抖和抗震功能。同时,光谱共焦传感器还可用于计算机硬盘的位移和振动测量,从而实现对硬盘存储数据的稳定性和可靠性的实时监控。在硬盘的生产过程中,光谱共焦传感器也可用于进行各种机械结构件的位移、振动和形变测试。在3C电子行业中,光谱共焦传感器的应用领域非常广,可用于各种管控和检测环节,在实现高精度和高可靠性的测量和检测方面发挥着重要作用。小型光谱共焦

与光谱共焦相关的文章
与光谱共焦相关的产品
与光谱共焦相关的资讯
与光谱共焦相关的**
产品推荐
相关资讯
信息来源于互联网 本站不为信息真实性负责