白光干涉在零光程差处，出现零级干涉条纹（在零级处，各波长光的干涉亮条纹都重合，因而零级条纹呈白色），随着光程差的增加，光源谱宽范围内的每条谱线各自形成的干涉条纹之间互有偏移，叠加的整体效果使条纹对比度下降。测量精度高，可以实现测量,采用白光干涉原理的测量系统的抗干扰能力强，动态范围大，具有快速检测和结构紧凑等优点。普通的激光干涉与白光干涉之间虽然有差别，但也有很多的共同之处。可以说，白光干涉实际上就是将白光看作一系列理想的单色光在时域上的相干叠加，在频域上观察到的就是不同波长对应的干涉光强变化曲线。Michelson干涉仪的光路长度支配了精度。国内膜厚仪详情
可以使用光谱分析方法来确定靶丸折射率和厚度。极值法和包络法、全光谱拟合法是通过分析膜的反射或透射光谱曲线来计算膜厚度和折射率的方法。极值法测量膜厚度是根据薄膜反射或透射光谱曲线上的波峰的位置来计算的。对于弱色散介质，折射率为恒定值，通过极大值点的位置可求得膜的光学厚度，若已知膜折射率即可求解膜的厚度；对于强色散介质，首先利用极值点求出膜厚度的初始值，然后利用色散模型计算折射率与入射波长的对应关系，通过拟合得到色散模型的系数，即可解出任意入射波长下的折射率。常用的色散模型有cauchy模型、Selimeier模型、Lorenz模型等。国产膜厚仪制作厂家白光干涉膜厚测量技术的精度可以达到纳米级别。
对同一靶丸的相同位置进行白光垂直扫描干涉实验，如图4-3所示。通过控制光学轮廓仪的运动机构带动干涉物镜在垂直方向上移动，测量光线穿过靶丸后反射到参考镜与到达基底后直接反射回参考镜的光线之间的光程差。显然，越偏离靶丸中心的光线测得的有效壁厚越大，其光程差也越大，但这并不表示靶丸壳层的厚度。只有当垂直穿过靶丸中心的光线测得的光程差才对应于靶丸的上、下壳层的厚度。因此，在进行白光垂直扫描干涉实验时，需要选择穿过靶丸中心的光线位置进行测量，这样才能准确地测量靶丸壳层的厚度。此外，通过控制干涉物镜在垂直方向上移动，可以测量出不同位置的厚度值，从而得到靶丸壳层厚度的空间分布情况。
膜厚仪是一种可以用于精确测量光学薄膜厚度的仪器，是光学薄膜制备和表征中不可或缺的工具。在光学薄膜领域，薄膜的厚度直接影响到薄膜的光学性能和应用效果。因此，准确测量薄膜厚度对于研究和生产具有重要意义。膜厚仪测量光学薄膜的具体方法通常包括以下几个步骤：样品准备：首先需要准备待测薄膜样品，通常是将薄膜沉积在基片上，确保样品表面平整干净，无杂质和损伤。仪器校准：在进行测量之前，需要对膜厚仪进行校准，确保仪器的准确性和稳定性。校准过程通常包括使用标准样品进行比对，调整仪器参数。测量操作：将样品放置在膜厚仪的测量台上，调节仪器参数，如波长、入射角等，然后启动测量程序。膜厚仪会通过光学干涉原理测量样品表面反射的光线，从而得到薄膜的厚度信息。数据分析：膜厚仪通常会输出一系列的数据，包括薄膜的厚度、折射率等信息。对于这些数据，需要进行进一步的分析和处理，以确保测量结果的准确性和可靠性。膜厚仪测量光学薄膜的具体方法需要注意的一些关键点包括：样品表面的处理对测量结果有重要影响，因此在进行测量之前需要确保样品表面的平整和清洁该仪器的使用需要一定的专业技能和经验，操作前需要进行充分的培训和实践。
针对微米级工业薄膜厚度测量，开发了一种基于宽光谱干涉的反射式法测量方法，并研制了适用于工业应用的小型薄膜厚度测量系统，考虑了成本、稳定性、体积等因素要求。该系统结合了薄膜干涉和光谱共聚焦原理，采用波长分辨下的薄膜反射干涉光谱模型，利用经典模态分解和非均匀傅里叶变换的思想，提出了一种基于相位功率谱分析的膜厚解算算法。该算法能够有效利用全光谱数据准确提取相位变化，抗干扰能力强，能够排除环境噪声等假频干扰。经过对PVC标准厚度片、PCB板芯片膜层及锗基SiO2膜层的测量实验验证，结果表明该测厚系统具有1~75微米厚度的测量量程和微米级的测量不确定度，而且无需对焦，可以在10ms内完成单次测量，满足工业级测量需要的高效便捷的应用要求。白光干涉膜厚仪需要校准，标准样品的选择和使用至关重要。原装膜厚仪经销批发
白光干涉膜厚仪需要进行校准和选择合适的标准样品，以保证测量结果的准确性。国内膜厚仪详情
白光干涉在零光程差处，出现零级干涉条纹，随着光程差的增加，光源谱宽范围内的每条谱线各自形成的干涉条纹之间互有偏移，叠加的整体效果使条纹对比度下降。测量精度高，可以实现测量,采用白光干涉原理的测量系统的抗干扰能力强，动态范围大，具有快速检测和结构紧凑等优点。普通的激光干涉与白光干涉之间虽然有差别，但也有许多相似之处。可以说，白光干涉实际上就是将白光看作一系列理想的单色光在时域上的相干叠加，在频域上观察到的就是不同波长对应的干涉光强变化曲线。国内膜厚仪详情
