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金相磨抛机：手工磨光主要使用干砂纸，机械磨光要求使用水砂纸。这两种砂纸的主要区别在纸基和粘结剂上。水砂纸自然要求纸基＝粘结剂都能防水。它们的磨料基本相同，主要有人造刚玉、碳化硅及氧化铝。按照磨料颗粒粗细尺寸砂纸分为各种规格，分别编号。磨料尺寸一般用“粒度”单位。对用筛选法获得的磨粒来说，粒度号是用1英寸长度上有多少个孔眼的筛网来确定的。例如10号粒度是指1英寸长度上有10个孔眼的筛网；如果磨粒的粒度以它的实际尺寸来表示，就用“W”单位，这种磨粒也称为微粉。如28微米的微粉其粒度号为W28。金相磨抛机操作面板单独安装，拆卸方便、操作、维护方便。昆山中心加压金相磨抛机经济实用

金相磨抛机所使用镶样树脂的耐磨性应该与试样的耐磨性一致。研磨盘和试样夹持盘的转速均设定为 150 r/min（当使用较低速度时，磨盘和试样夹持盘的速度会同时降低）。使用同向旋转。(磨盘和夹持盘都是逆时针旋转)。使用较小的力度。调整试样夹持盘的位置使得试样不会通过制备盘中心。按下启动键启动制备进程，左上边会显示制备过程总时间计时，参数显示区显示单个步骤时间计时。当单个步骤完成之后运行会自动暂停。等待更换新的磨料耗材或者选择另一个空闲的磨盘继续制样。当所有的步骤预设时间都结束后设备会自动停止制备进程。在整个操作过程中也可以按停止，状态会保持暂停状态，再次启动即可。 武汉金相磨抛机厂家批发金相磨抛机可适应各种材料的制样制备。

金相磨抛机：一般把单相合金或纯金属的化学浸蚀主要看作是化学溶解过程。浸蚀剂首先把磨面表层很薄的变形层溶解掉，接着就对晶界起化学溶解作用。这是因为晶界上原子排列得特别紊乱，其自由能也较高，所以晶界处较容易受浸蚀而呈沟凹，见图(1-15)(b)。这时显微镜下就可看到固溶体或纯金属的多面体晶粒。若继续浸蚀则会对晶粒产生溶解作用。金属原子的溶解大都是沿原子排列密的面进行的。由于金相试样一般都是多晶体，各晶粒的取向不会一致，因此在同一磨面上各晶粒原子排列位向是不同的，所以每一颗晶粒溶解的结果不一样，都把按原子排列密的面露在表面，也即浸蚀后每个晶粒的面与原磨面各倾了一定的角度。。在垂直照明下，各晶粒的反射光方向不一致，就显示出亮度不一致的晶粒。

金相磨抛机常配用耗材：金相砂纸：240、600、1000、1500#(其他规格400、2000#等）适用于常规金属类样件的研磨。金刚石磨盘：240、600、1000、1500#(其他规格400、2000#等）适用于超硬材料样件的研磨。金刚石砂纸：粒度：45-0.3um(适合超硬材料的精密研磨及粗抛，如陶瓷、晶体等材料）。抛光布料：呢料、丝绒、羊毛等（对特殊材料也需要采用粗抛、精抛等多道抛光工艺）。金刚石抛光剂：粒度：40-0.5um（抛光辅料，适合各类材料的抛光）。金刚石悬浮液：粒度：40-0.5um（比较常用的抛光辅料，更适合自动磨抛机使用）。氧化铝抛光粉：粒度：30-0.5um （适合碳钢类样件的抛光）。磁性磨盘：更便于更换砂纸及抛光布料。 金相磨抛机更重要的是尽可能减少表层损伤，达到理想的磨抛效果。

金相磨抛机：金相工作者的经验是：在金相试样磨光过程中要多下功夫，因为抛光的作用能去除表层很薄一层金属，所以抛光结果在很大程度上取决于前几道工序的质量。有时抛光之前磨面上留有少量几条较深的磨痕，即使增加抛光时间也难以除去，一般必须重新磨光。故抛光之前应仔细检查磨面，是否留有单一方向均匀的细磨痕否则应重新磨光，以免白费时间。这是提高金相试样制备效率的重要环节。抛光后的表面在放大200倍的显微镜下观察应基本上无磨痕和磨坑，抛光方法有机械抛光、电解抛光及化学抛光等。金相磨抛机底盘转动平稳，噪音低，支持快速转换盘系统。昆山中心加压金相磨抛机经济实用

金相磨抛机进水管：Φ8mm长2m，排水管：内径Φ40。昆山中心加压金相磨抛机经济实用

金相磨抛机（双盘单控PC-20）手动台式机，左盘用于研磨，右盘用于抛光，可以两人同时操作使用，本机是集金相预磨、研磨和抛光等多功能于一体，转动平稳、安全可靠、噪音低、操作简单，适用于对金相试样进行粗磨、精磨、粗抛至精抛的设备。外壳采用新型环保工程塑料材料一体成型，表面光滑美观、免喷漆，表面划痕修复简单。锥度磨盘系统，更换清理更容易。大口径的排水管道，不容易堵塞。底盘转动平稳，噪音小，支持快速转换盘系统。无极调速和三档定速能无极调速和快速定位常用转速。可快速切换到预磨和抛光模式。水流量可调。昆山中心加压金相磨抛机经济实用