昆山全自动双盘金相磨抛机源头厂家

金相磨抛机：在金相实验室，金相试样的制备过程中，试样的预磨、抛光研磨是多道必不可少的程序，本机的集污盘和罩采用ABS材料整体制作，是具有外形新颖美观的产品。本机是采用PLC控制的金相试样磨抛机，磨盘100-1000无级调速，触摸屏显示并控制磨盘转速，电机为直流无刷电机，电机无需更换电刷，使用时间长，具有磁性盘设计，全系列支持快速换盘系统，使用弹性佳，搭配自动研磨装置，能代替手工进行磨抛的各道工序，可定时，设定磨头转速，可提高试样的磨抛质量和制作效率，是比较理想的金相制样设备。本机可适应各种材料的试样制备。该机的抛盘直径较大。抛盘的转速操作，噪音低，操作方便，外形美观，使用安全，是金相试样设备。金相磨抛机（全自动）采用西门子变频器和日本SMC气动元件。昆山全自动双盘金相磨抛机源头厂家

金相磨抛机：机械磨光法 随着技术生产的发展，费时的手工细磨操作正在被便捷的机械细磨逐步代替。机械细磨的主要优点是效率高、同时由于在磨光过程中有水不断冷却、润滑热量及磨粒不断被带走，因此不易产生变形层，金相试样的质量容易控制。号机械细磨的主要设备是预磨机。预磨机主要由一个电动机带动一个或两个转盘及冷却部分组成，电动机的转速为600r/min。冷却水直接可接用自来水，流量可调。机械细磨要用水砂纸，其规格分档情况见表1-4机械粗磨时，可选用粒度号为50～180的水砂纸。扬州单盘自动金相磨抛机厂家金相磨抛机操作面板置于上方，避免了水渍污染和松动的试样造成的损坏，还避免意外更改转速设置。

金相磨抛机经久耐用，保护养护也极为便利，运用时只需替换磨盘或抛盘，就能完结各种试样的粗磨、细磨、干磨、湿磨及抛光等各道工序，为扩展不一样试样的制备需求，金相磨抛机的磨、抛盘直径均大于国内同类商品。金相磨抛机可习惯各种资料的试样制备。金相磨抛机的磨、抛、研盘直径均大于国内同类商品。磨、抛、研盘的转速单独操作，可无级调速，是金相试样制备设备。金相磨抛机在金相试验室，金相试样制备过程中，试样的预磨、抛光、研磨、是多道*的程序。金相磨抛机是经过多方面市场调研听取操作运用人员的意思及需求开发规划而成，该机的集污盘和罩选用玻璃钢全体制成，具有外形更新颖漂亮新商品。

金相磨抛机：试样磨光的目的是要能得到一个平整的磨面，这种磨面上还留有极细的磨痕，这将在以后的抛光过程中消除。磨光工序又可分为粗磨和细磨两步。粗磨：手工对于软材料可用锉刀锉平，一般材料都用砂轮机磨平。操作时应利用砂轮侧面，以保证试样磨平。要注意接触压力不宜过大同时要不断用水冷却，防止温度升高造成内部的组织发生变化。倒角时防止细磨时划破砂纸。但对需要观察脱碳、渗碳等表面层情况的试样不能倒角，有时还要采用电镀敷盖来防止这些试样边缘倒角。粗磨完成后，凡不作表面层金相检验的棱边都应倒成小圆弧，以免在以后的工序过程中会将砂纸或抛光物拉裂。甚至还可能会被抛光物钩住而被抛飞出外，造成事故。金相磨抛机（全自动）采用8寸触摸屏操作控制，直观的触摸屏界面，自动调压力。

金相磨抛机：一般把单相合金或纯金属的化学浸蚀主要看作是化学溶解过程。浸蚀剂首先把磨面表层很薄的变形层溶解掉，接着就对晶界起化学溶解作用。这是因为晶界上原子排列得特别紊乱，其自由能也较高，所以晶界处较容易受浸蚀而呈沟凹，见图(1-15)(b)。这时显微镜下就可看到固溶体或纯金属的多面体晶粒。若继续浸蚀则会对晶粒产生溶解作用。金属原子的溶解大都是沿原子排列密的面进行的。由于金相试样一般都是多晶体，各晶粒的取向不会一致，因此在同一磨面上各晶粒原子排列位向是不同的，所以每一颗晶粒溶解的结果不一样，都把按原子排列密的面露在表面，也即浸蚀后每个晶粒的面与原磨面各倾了一定的角度。。在垂直照明下，各晶粒的反射光方向不一致，就显示出亮度不一致的晶粒。金相磨抛机（全自动）也可以通过手动操作参数制样，方便制样多样性。扬州定档定速金相磨抛机品牌好

金相磨抛机（全自动）通过编程实现连续制样，每个工序完成自动停机，方便更换抛光组织物。昆山全自动双盘金相磨抛机源头厂家

金相磨抛机抛光时注意事项：抛光时将试样的磨面应均匀地、平正地压在旋转的抛光盘上。压力不宜过大，并从边缘到中心不断地作径向往复移动。抛光过程中要不断喷洒适量的抛光液。若抛光布上地光液太多，会使钢中夹杂物及铸铁中的石墨脱落，抛光面质量不佳；若抛光液太少，将使抛光面变得晦暗而有黑斑。后期应使试样在抛光盘上各方向转动，以防止钢中夹杂物产生拖尾现象。 尽量减少抛光面表层金属变形的可能性，整个光时间不易过长，磨痕全部消除，出现镜面后，抛光即可停止。试样用水冲洗或用酒精洗干净后就可转入浸湿或直接在显微镜下观察。昆山全自动双盘金相磨抛机源头厂家