企业商机
蚀刻液基本参数
  • 品牌
  • 博洋化学
  • 产品名称
  • 钼铝钼蚀刻液
  • 纯度级别
  • 超纯/高纯
  • 类别
  • 无机酸
  • 产品性状
  • 液态
蚀刻液企业商机

    注入量精确调配装置通过嵌入引流口2接入盐酸装罐7进行原料注入,工作人员通过负压引流器21将盐酸硝酸引向注入量控制容器18内,通过观察注入量控制容器18内的注入量观察刻度线19对注入量进行精确控制,当到达设定的注入量时将限流销20插入进行限流即可,很好的对注入量进行精确控制,提高了该装置的制备纯度。工作原理:首先,通过设置热水流入漏斗9,工作人员可沿着热水流入漏斗9将热水缓缓倒入盐酸内,从而很好的减小了发生反应的剧烈程度,很好的起到了保护作用。然后,通过设置加固支架10,加固支架10为连接在两侧底座支柱的三角结构,利用三角结构稳定原理对装置底座5起到了很好的加固效果。接着,通过设置防烫隔膜11,防烫隔膜11为很好的隔热塑胶材料,能够很好的防止工作人员被烫伤,很好的体现了该装置的防烫性。紧接着,通过设置高效搅拌装置2,该装置通过运转电机组13驱动旋转摇匀转盘12,使旋转摇匀转盘12带动高效搅拌装置2进行旋转摇匀,同时设置的震荡弹簧件14可通过驱动对高效搅拌装置2进行震荡摇匀,高效搅拌装置2内部的蚀刻液通过内置的致密防腐杆16,致密防腐杆16内部的搅动孔17能够使蚀刻液不断细化均匀化,从而很好的防止了蚀刻液的腐蚀,且成本低廉。苏州性价比较好的蚀刻液的公司联系电话。南京江化微的蚀刻液蚀刻液私人定做

南京江化微的蚀刻液蚀刻液私人定做,蚀刻液

    本发明涉及铜蚀刻液技术领域,具体涉及一种酸性铜蚀刻液的生产工艺。背景技术:高精细芯片和显示集成电路主要采用铜制程,其光刻工艺中形成铜膜层结构所需用的铜刻蚀液中主要的为过氧化氢系铜刻蚀液。过氧化氢系铜蚀刻液较其他铜刻蚀液体系(如三氯化铁体系,过硫酸铵体系)具有不引人其他金属离子在铜层表面或线路体系中,产物亲和、友好、环境污染少,刻蚀效率高且使用寿命较长的特点。大部分过氧化氢系铜刻蚀液包括参与氧化的过氧化氢组分、参与溶解的无机酸/有机酸组分,以及部分铜缓蚀剂等各类添加三个部分。由于铜蚀刻液中各物质的反应为放热反应,体系中又含有过氧化氢在制备铜蚀刻液的生产过程中需要保证生产安全。技术实现要素:本发明的目的在于,克服现有技术中存在的缺陷,提供一种铜蚀刻液大规模量产的生产工艺,该生产工艺温控严格,生产过程中安全性高。为实现上述目的,本发明的技术方案是设计一种酸性铜蚀刻液的生产工艺,所述工艺包括以下步骤:第一步:将纯水进行低温处理,使纯水温度≤10℃在纯水罐中备用;第二步:配制和准备原料,将亚氨基二乙酸、氢氟酸和乙醇酸分别投入对应的原料罐中,经过过滤器循环过滤,备用。无锡格林达蚀刻液批量定制上海和辉光电用的哪家的蚀刻液?

南京江化微的蚀刻液蚀刻液私人定做,蚀刻液

    图7:本实用新型蚀刻设备其一较佳实施例的挡液板结构运作局部放大图。图8:本实用新型蚀刻设备其一较佳实施例的挡液板结构结合风刀装置示意图。图9:本实用新型蚀刻设备其一较佳实施例的宣泄孔的表面张力局部放大图。图10:本实用新型蚀刻设备其二较佳实施例的挡液板结构结合风刀装置示意图。图11:本实用新型蚀刻设备其三较佳实施例的挡液板结构结合风刀装置示意图。图12:本实用新型挡液板结构其二较佳实施例的宣泄孔的表面张力局部放大图。图13:本实用新型蚀刻方法的步骤流程图。图号说明:传统挡液板结构a挡液板结构b风刀c气体本实用新型1蚀刻设备10挡液板结构11***挡板12第二挡板121宣泄孔1211***壁面1212第二壁面122下表面123上表面13第三挡板20基板30输送装置31滚轮40风刀装置41***风刀42第二风刀43气体50喷洒装置51药液s1步骤一s2步骤二s3步骤三s4步骤四h长度θ夹角θ1***夹角θ2第二夹角θ3第三夹角θ4接触角a0孔径a1上孔径a2下孔径w、w1、w2距离。具体实施方式首先,请参阅图2与图3所示,为本实用新型挡液板结构其一较佳实施例的整体结构示意图,以及宣泄孔排列示意图,其中本实用新型的挡液板结构10适用于一湿式蚀刻机(图式未标示)。

    以带动该基板20由该喷洒装置50下端部朝向该风刀装置40的该***风刀41下端部的方向移动。该风刀装置40设置于该挡液板结构10的一端部,该风刀装置40包括有一设置于该基板20上方的***风刀41,以及一设置于该基板20下方的第二风刀42,其中该***风刀41与该第二风刀42分别吹出一气体43至该基板20,以将该基板20上的一药液51带往与相反于该基板20的行进方向,以使该基板20上该药液51减少,其中该气体43远离该***风刀41与该第二风刀42的方向分别与该基板20的法线方向夹设有一第三夹角θ3,且该第三夹角θ3介于20度至35度之间。此外,请一并参阅图8与图9所示,为本实用新型蚀刻设备其一较佳实施例的挡液板结构结合风刀装置示意图,以及宣泄孔的表面张力局部放大图,其中该宣泄孔121为直通孔的态样,当该风刀装置40的***风刀41与该第二风刀42为了减少该基板(本图式未标示)上所残留的药液51而吹出该气体43时,该气体43碰到该挡液板结构10后部分会往该复数个宣泄孔121流动,并朝向该第二挡板12的该上表面123宣泄而出(如图8所示),除了保有原有挡液板的防止该药液51喷溅而造成的蚀刻不均现象,亦可达到以破真空的原理避免该气体43在该基板20附近形成涡流而造成真空吸引问题;此外。哪家的蚀刻液比较好用点?

南京江化微的蚀刻液蚀刻液私人定做,蚀刻液

    所述有机硫化合物具有作为还原剂及络合剂(chelate)的效果。作为所述硫酮系化合物,例如可举出硫脲、N-烷基硫脲、N,N-二烷基硫脲、N,N'-二烷基硫脲、N,N,N'-三烷基硫脲、N,N,N',N'-四烷基硫脲、N-苯基硫脲、N,N-二苯基硫脲、N,N'-二苯基硫脲及亚乙基硫脲等。烷基硫脲的烷基并无特别限制,推荐为碳数1至4的烷基。这些硫酮系化合物中,推荐使用选自由作为还原剂或络合剂的效果及水溶性优异的硫脲、二乙基硫脲及三甲基硫脲所组成的群组中的至少一种。作为所述硫醚系化合物,例如可举出甲硫氨酸、甲硫氨酸烷基酯盐酸盐、乙硫氨酸、2-羟基-4-(烷硫基)丁酸及3-(烷硫基)丙酸等。烷基的碳数并无特别限制,推荐为碳数1至4。另外,这些化合物的一部分也可经取代为氢原子、羟基或氨基等其他基。这些硫醚系化合物中,推荐为使用选自由作为还原剂或络合剂的效果优异的甲硫氨酸、乙硫氨酸及3-(甲硫基)丙酸所组成的群组中的至少一种。有机硫化合物的浓度并无特别限制,推荐为%至10重量%,更推荐为%至5重量%。在有机硫化合物的浓度小于%的情况下,无法获得充分的还原性及络合效果,有钛的蚀刻速度变得不充分的倾向,若超过10重量%则有达到溶解极限的倾向。苏州口碑好的蚀刻液公司。无锡格林达蚀刻液批量定制

铝蚀刻液的配方是什么?南京江化微的蚀刻液蚀刻液私人定做

    从蚀刻速度及安全性的观点来看,推荐为40℃至70℃,更推荐为45℃至55℃。处理时间视对象物的表面状态及形状等而变化,通常为30秒至120秒左右。实施例然后,对本发明的实施例与比较例一起进行说明。此外,本发明并非限定于下述实施例而解释。制备表1及表2所示的组成的各蚀刻液,在下述条件下进行蚀刻试验及蚀刻液的稳定性试验。此外,表1及表2所示的组成的各蚀刻液中,剩余部分为离子交换水。另外,表1及表2所示的盐酸的浓度为以氯化氢计的浓度。(蚀刻试验)通过溅镀法在树脂上形成50nm的钛膜,然后成膜200nm的铜膜,进而通过电镀铜在该铜膜上形成图案,将所得的基板用作试样。使用铜的蚀刻液,将试样的溅镀铜膜溶解而使钛膜露出。然后,将试样浸渍在实施例1至实施例12及比较例1至比较例3的蚀刻液中进行蚀刻实验。将实验结果示于表1。[表1]像表1所示那样,本发明的蚀刻液可在不蚀刻铜的情况下选择性地蚀刻钛。(蚀刻液的稳定性试验)将实施例1、实施例7、实施例12及比较例4的蚀刻液在室温下放置2天后,进行所述蚀刻试验,比较放置前后的蚀刻速度。将比较结果示于表2。[表2]像表2所示那样,本发明的蚀刻液的保存稳定性优异,即便在长期保存的情况下也可稳定地选择性地蚀刻钛。南京江化微的蚀刻液蚀刻液私人定做

苏州博洋化学股份有限公司办公设施齐全,办公环境优越,为员工打造良好的办公环境。致力于创造***的产品与服务,以诚信、敬业、进取为宗旨,以建博洋化学产品为目标,努力打造成为同行业中具有影响力的企业。公司坚持以客户为中心、危险化学品生产(按《安全生产许可证》所列范围明细生产);化学品销售(涉及危险化学品的按《危险化学品经营许可》核定许可范围经营);自营和代理各类商品及技术的进出口业务(国家限定企业经营或禁止进出口的商品和技术除外)。用于传染病防治的消毒产品生产(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)市场为导向,重信誉,保质量,想客户之所想,急用户之所急,全力以赴满足客户的一切需要。博洋化学始终以质量为发展,把顾客的满意作为公司发展的动力,致力于为顾客带来***的高纯双氧水,高纯异丙醇,蚀刻液,剥离液。

蚀刻液产品展示
  • 南京江化微的蚀刻液蚀刻液私人定做,蚀刻液
  • 南京江化微的蚀刻液蚀刻液私人定做,蚀刻液
  • 南京江化微的蚀刻液蚀刻液私人定做,蚀刻液
与蚀刻液相关的**
信息来源于互联网 本站不为信息真实性负责