显示面板产业的快速发展,使钛靶材成为面板制造的关键材料,主要应用于薄膜晶体管(TFT)、透明导电电极(TCE)与封装层三大环节。在 TFT 制备中,钛靶材用于沉积栅极、源漏极金属层:栅极采用纯钛靶材沉积 50-100nm 厚的薄膜,其良好的导电性与稳定性可确保栅极电压控制的精细性;源漏极则采用 Ti-Al-Ti 复合靶材(中间层为铝,上下...
查看详细 >>20世纪40年代,克罗尔法(镁还原四氯化钛)的发明成为钛板发展的“里程碑事件”。1948年,卢森堡科学家威廉・克罗尔成功实现克罗尔法的工业化验证,该方法通过在氩气保护下,用金属镁还原四氯化钛生成海绵钛,成本较传统方法降低80%,且能稳定生产纯度99.5%以上的海绵钛,为钛板的规模化制备奠定了原料基础。美国率先引进该技术,1950年建成全球...
查看详细 >>钨板未来的发展离不开强大的人才与技术创新体系支撑,需从人才培养、研发投入、产学研协同三方面构建创新生态。在人才培养方面,加强高等院校、科研机构与企业的合作,设立钨材料相关专业方向(如难熔金属材料、极端环境材料),培养兼具理论基础与实践能力的专业人才(年培养专业人才1000人以上);同时,通过国际交流、校企联合培养(如与美国麻省理工学院、德...
查看详细 >>电子电容器(尤其是钽电解电容器)对镍带的纯度与尺寸精度要求极高,一丝偏差就可能导致电容器失效。纯度方面,电容器阳极骨架用镍带需控制杂质含量:铁≤5ppm、铜≤3ppm、碳≤10ppm,杂质过多会导致氧化膜击穿电压降低,因此需采用电子束熔炼工艺,通过2-3次熔炼去除杂质,确保纯度达99.99%以上。尺寸精度方面,镍带厚度公差需控制在±0.0...
查看详细 >>钽带的创新已从单一性能提升向多维度、跨领域融合发展,涵盖材料改性、工艺革新、功能集成等多个方向,为电子、航空航天、医疗等领域提供了关键材料解决方案。未来,随着极端工况需求的增加与新兴技术的涌现,钽带创新将更聚焦于“极端性能适配”(如超高温、温、强腐蚀)、“多功能集成”(如传感、自修复、一体化)、“低成本规模化”三大方向。同时,与人工智能、...
查看详细 >>20世纪70年代起,为进一步优化钨板性能,科研人员开启合金化探索。通过添加铼、钽、镍等合金元素,开发出多种钨合金板。钨-铼合金板提升了高温强度和抗蠕变性能,在航空航天发动机高温部件制造中展现出巨大潜力;钨-钽合金板则增强了耐熔融金属腐蚀能力,在核能反应堆相关部件应用中表现出色。这一时期,随着电子显微镜等先进检测技术的应用,对钨合金微观结构...
查看详细 >>中国钽坩埚产业在这一阶段实现了从跟跑到并跑的跨越,政策支持与技术突破成为驱动力。国家 “十二五”“十三五” 规划将有色金属材料列为重点发展领域,对钽坩埚研发给予专项补贴,推动企业与高校(如中南大学、北京科技大学)合作,突破关键技术。2015 年,中国企业成功开发 450mm 半导体级钽坩埚,纯度达 99.99%,尺寸公差控制在 ±0.05...
查看详细 >>传统的钼金属虽具备高熔点、良好的导热性和较低的热膨胀系数等优异特性,但在某些特定应用场景中,其性能仍显不足。为突破这一局限,科研人员积极探索多元合金体系。通过添加钛(Ti)、锆(Zr)、铼(Re)等合金元素,构建出新型钼合金。以钼 - 铼合金为例,铼的加入提升了钼的高温强度和抗蠕变性能。在航空航天发动机的高温部件应用中,钼 - 铼合金加工...
查看详细 >>未来铌板将突破单一性能局限,向“功能集成化”方向发展,通过材料设计与工艺创新,实现“承载+传感+防护+自修复”等多性能融合。例如,在航空航天领域,研发“结构承载-健康监测-高温防护”一体化铌板:以度铌合金为基体,集成微型光纤光栅传感器实时监测部件温度与应力变化,表面涂覆SiC-Y₂O₃复合涂层抵御高温腐蚀,内部嵌入低熔点金属微胶囊(如铟锡...
查看详细 >>钽带生产是一项技术密集型产业,需融合材料、机械、自动化等多领域技术,通过全流程质量管控确保产品性能。当前,钽带生产已实现标准化、智能化、绿色化,能够满足电子、航空航天、医疗等领域的需求。未来,随着下业对钽带性能要求的进一步升级,生产技术将向三个方向发展:一是超纯化,开发7N级(99.99999%)钽带生产技术,满足量子芯片需求;二是复合化...
查看详细 >>医疗领域对材料的生物相容性、耐体液腐蚀性要求极高,钛板凭借独特性能实现创新应用,主要集中在骨科植入、牙科修复与医疗设备。在骨科植入领域,纯钛板(TA2)与Ti-6Al-4V合金板通过激光切割制成骨固定板、脊柱融合器,表面经喷砂-酸蚀处理形成微米级多孔结构(孔隙率40%-60%),促进骨细胞长入实现“生物固定”,避免传统钢板的“应力遮挡效应...
查看详细 >>原料质量是决定钨坩埚性能的基础,其发展经历了从粗制钨粉到超高纯原料体系的演进。20 世纪 50 年代前,钨粉制备依赖还原法,纯度≤99.5%,杂质含量高(O≥1000ppm,C≥500ppm),导致坩埚高温性能差。20 世纪 60-80 年代,氢还原工艺优化,通过控制还原温度(800-900℃)与氢气流量,制备出纯度 99.95% 的钨粉...
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