下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的用途和设计。一、产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁...
真空烘箱是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿,使工作室内形成真空状态,降低水的沸点,加快干燥的速度。下面为大家介绍一下真萍科技真空烘箱的特点。一、真空程序分段控制该型号机型,抽真空过程可提供程序化编程,只需根据客户要求编辑设定真空值,保压时间值。相当大可实现18段抽真空和保压编程。二、操作步骤1.接通电源;2.产品送入腔体,关门;3.打开电源;4.工作温度设定好,启动加热,设备进入自动恒温状态;5.真空值和时间设定好后,启动真空泵,开始进入自动抽真空阶段;6.到达时间值后,真空泵自动关闭。试验箱可以去哪里购买?高低温低压试验箱安装公司
中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理等阶段。下面为大家介绍一下中温气氛箱式炉的系统配置。 一、冷却系统 1.冷却结构 无 2.产品降温 随炉降温 3.安全保护 4.报警指示 超温、断偶、停水、停气等声光报警保护 5.设备安全升温速率 ≤5℃/min 二、温度控制系统 1.温度测量 采用 K 分度热偶测量 2.控制仪表 采用进口智能调节仪控制。具有 PID 参数自整定、高温 3.上限报警、热电偶失效指示等多项报警保护功能 4.控制方式 固态继电器过零控制 5.超温处理 ⑴.当测量温度超过设定的安全值时,断加热,并报警。 ⑵.当测量温度超过目标温度达到安全偏差值时,报警。试验箱报价表试验箱的发展前景如何?
隧道炉适用于五金模具、航天航空、纳米材料、精密陶瓷、粉末治金、铁氟龙喷涂、五金、锂电池、化工、运动器材、汽车零配件、电机、化工、工业之烘烤、干燥、预热回火、退火、老化等用途。下面为大家介绍一下真萍科技隧道炉的产品特性。1.采用智能型温度控制模块,PID自动演算,LED显示,配合SSR大功率可控硅输出,能精确控制温度之精细度;2.分段控制(当到达设定温度时可任意关掉其中几段发热管,降低加热功率,其达到省电效果);3.内箱采用1.5mm厚SUS304#不锈钢(清洁无尘,防生锈、耐腐蚀),外箱采用1.5mm厚Q235冷轧钢板(强度、塑性和焊接综合性能相当好);4.整机控制系统采用触摸屏加PLC程序控制,设备加热、运风、传动、自动门开关均采用智能控制,有效防止失误动作;5.当实际检测温度超过超温保护温控器设定值时,自动切断加热电源,起到双重保护功能。
连续炉即是连续作业炉,是指连续地或间歇地装料,工件在炉内不断移动,完成加热、保温,有时包括冷却在内全过程的热处理炉。连续作业炉可借助某些机械机构连续地或间歇地进行装料和出料,连续顺序地通过按零件处理工艺要求的不同温度区完成加热过程。使用连续作业炉可提高产品质量,提高劳动生产率和改善劳动条件。下面为大家介绍一下连续炉的产品材质和产品特点。 一、产品材质 1.外箱采用1.5mm厚Q235冷轧钢板/内箱采用1.5mm厚SUS304#不锈钢; 2.保护装置定时报警断电装置、超温断电、漏电保护断路器、电机过载保护。 二、产品特点 1.双边配有链条传动,解决传送过程中跑偏的现象; 2.烘箱分段式加热,单独电箱控制,方便操作,结构主要由输送机系统与烘干炉两大部分组成,多段单独; 3.PID温度控制,炉内温度均匀; 4.输送速度变频调速,调节自如,运行平稳,产能高; 5.每段单独箱体设置废气排放接口,可外接到车间外面,避免车间废气污染。你知道试验箱的特点吗?
真萍科技洁净烘箱是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,广泛应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。下面为大家介绍一下洁净烘箱的技术指标。 1.无尘等级:Class100:(符合FED-STD 209E标准:0.3um≤300个0.5≤100个) 2.温度范围:+60℃~ +250℃(极限温度350℃) 3.温度均匀性:±2℃(空箱测试) 4.温度精确度:±1℃(空箱测试) 5.设备型号规格:450*450*450;450*600*450;600*800*600;600*700*600;700*900*700; 700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000; 1000*1300*1000;1000*1400*1000;试验箱常见的用途有哪些?合肥真萍告诉您。高低温试验箱报价表
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下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的用途和设计。一、产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁处理,提高制品质量的目的。二、设计特点1.后门设计热风电机2.降温时风机开启,同时两端降温封头开启,炉膛内产生如图所示的气体流向3.通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换,达到快速降温的目的高低温低压试验箱安装公司
下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的用途和设计。一、产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁...
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