下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的用途和设计。一、产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁...
下面为大家介绍一下全自动HMDS真空烤箱的技术指标。1.HMDS管路加热功能,使HMDS液体进入箱体的前端管路加热,使转为HMDS气态时更易。2.低液报警装置,采用红外液体感测器,能及时灵敏给出指令(当HMDS液过低时发出报警及及时切断工作起动功能)3.温度与PLC联动保护功能(当PLC没有启动程序时,加温功能启动不了,相反加温功能启动时,PLC程序不按正常走时也及时切断工作功能,发出警报)4.整个箱体及HMDS气体管路采用SUS316不锈钢材料,整体使用无缝焊接(避免拼接导致HMDS液体腐蚀外泄对人体的伤害)试验箱应用再哪些地方?西安做试验箱
试验箱是一种特殊制造的受控环境,公司用来检查设备、产品的耐久性或稳定性,环境试验箱模拟产品在使用过程中可能遇到的气候条件。这些条件可能包括温度或湿度、海拔高度或地理位置的极端变化。测试人员也可能进行动态测试,将产品暴露在物理力(包括惯性或振动)下,以试图在产品在飞行中或高速率下使用之前发现故障。公司可能会将测试室用于已完成或部分完成的产品。科学家和烧杯制造商在房间大小从2立方英尺(0.05立方米)到整个房间大小的房间。试验箱非标定制试验箱给社会带来了什么好处?
1.炉膛气氛:2路空气,流量计量程为7~70L/min,每路流量可调节;2.排气系统:在炉膛顶部设置一个排气囱,用于废气排放。二、传动系统1.传动方式:升降式2.传动类型:电动推杆传动3.容积:20L三、冷却系统1.冷却结构:无2.产品降温:随炉降温四、安全保护1.升、降、停按钮:载料台的升、降、停控制2.报警指示:超温、断偶、过载、超程、偏差等声光报警3.设备安全升温速率≤5℃/min五、温度控制系统1.温度测量:采用B分度热偶测量2.控制方式:高性能移相调压+SCR晶闸管模块控制2.1当测量温度超过设定的安全值时,断加热,并报警2.2当测量温度超过目标温度达到限制偏差值时,报警3.控制仪表:采用进口智能调节仪控制。具有PID参数自整定、高温上限报警、热电偶失效指示等多项报警保护功能。
隧道炉适用于五金模具、航天航空、纳米材料、精密陶瓷、粉末治金、铁氟龙喷涂、五金、锂电池、化工、运动器材、汽车零配件、电机、化工、工业之烘烤、干燥、预热回火、退火、老化等用途。作为隧道炉的质量供应商原产厂家,小编下面就为大家介绍一下真萍科技隧道炉的产品材质的构成。1.外箱构成。外箱采用1.5mm厚Q235冷轧钢板/内箱采用1.5mm厚SUS304#不锈钢2.系统装置保护装置定时报警断电装置、超温断电、漏电保护断路器、电机过载保护。上海试验箱的发展趋势。
连续炉即是连续作业炉,是指连续地或间歇地装料,工件在炉内不断移动,完成加热、保温,有时包括冷却在内全过程的热处理炉。连续作业炉可借助某些机械结构连续地或间歇地进行装料和出料,连续顺序地通过按零件处理工艺要求的不同温度区完成加热过程。使用连续作业炉可提高产品质量,提高劳动生产率和改善劳动条件。下面为大家介绍一下连续炉的技术参数。 1.送风方式:送风循环系统; 2.温度范围:RT+30℃~300℃; 3.温度精度:±1℃ 4.温度均匀性:±1℃ 5.温控装置:富士智能PID温控仪,LED数字显示,PID自动演算及定时; 6.材质:内胆不锈钢,外箱体钢板静电喷塑; 7.传送方式:链杆、链网、自动锟轮,相当强承重; 8.复合式电加热器; 9.保护装置:漏电保护、断路保护、电机过载保护、接地保护、非正常运行情况下蜂鸣报警。上海哪家试验箱厂家值得信赖?高低温快速试验箱多少钱一台
合肥真萍向您介绍试验箱的好处。西安做试验箱
真空干燥箱是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿,使工作室内形成真空状态,降低水的沸点,加快干燥的速度。真萍科技作为真空干燥箱的优良原产厂家,生产的真空干燥箱都是厂家直接生产销售,质量可靠,有品质保证,欢迎来电咨询。大家知道真空干燥箱有哪些特点吗?不同厂商的真空干燥箱特点自然有所不同,小编下面为大家介绍一下真萍科技真空干燥箱的特点。1.接通电源;2.产品送入腔体,关门;3.打开电源;4.工作温度设定好,启动加热,设备进入自动恒温状态;5.真空值和时间设定好后,启动真空泵,开始进入自动抽真空阶段;6.到达时间值后,真空泵自动关闭。西安做试验箱
下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的用途和设计。一、产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁...
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