试验箱基本参数
  • 产地
  • 安徽合肥
  • 品牌
  • 合肥真萍电子科技有限公司
  • 型号
  • 多型定制
  • 是否定制
试验箱企业商机

真萍科技洁净烘箱是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,广泛应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。下面为大家介绍一下洁净烘箱的技术指标。 1.无尘等级:Class100:(符合FED-STD 209E标准:0.3um≤300个0.5≤100个) 2.温度范围:+60℃~ +250℃(极限温度350℃) 3.温度均匀性:±2℃(空箱测试) 4.温度精确度:±1℃(空箱测试) 5.设备型号规格:450*450*450;450*600*450;600*800*600;600*700*600;700*900*700; 700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000; 1000*1300*1000;1000*1400*1000;试验箱给社会带来了什么好处?温州高低温低压试验箱

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1.储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行,所以不会氧化。2.相当短加热时间,与传统干燥烘箱比加热时间减少50%以上。真空烘箱因为是由电力提供热能,而湿的物品是会导电的,故在使用上宜小心不要有漏电的现象发生,故一般烘箱都要接地使用,以保安全。若没有地线也要确认烘箱没有漏电的现象;若有轻微的漏电现象,可试着将插座拔起后将插脚以相反方向再插入,若没有漏电现象可小心使用,若仍有漏电现象则应立即停用。高低温高压试验箱价格多少合肥真萍与您分享试验箱发挥的重要作用。

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下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的技术指标。1.使用温度:1450℃;比较高温度:1500℃;2.绝热材料:石墨纤维毯、石墨纸;3.加热元件:石墨加热棒;4.冷却方式:气冷+循环风冷降温;5.控温稳定度:±2℃,具有PID参数自整定功能;6.炉膛温度均匀度:±5℃(恒温1500℃);7.气氛:可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%;8.极限真空:10-3torr级;9.抽气速率:空载下,30min达到10-2torr10.升温功率:170kW;11.升温速率:15℃/min(空载);12.降温速率:1450℃至80℃,240分钟13.腔体尺寸:1000*1000*1000mm(宽*深*高)

真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜的柜体规格、配备。1.左右双开门,3mm钢化玻璃,1mm厚不锈钢板,气密式隐藏锁把手。2.柜体密封高吸附力磁性胶条与柜体密闭,脚垫采高承载车轮及调整高低脚垫。3.附高载重不锈钢隔板,柜体加装高载重煞车轮。4.上掀式气密盖,方便FFU保养及维修。5.回风循环设计,单向氮气循环不产生紊流。6.背面气密开门式设计,方便洁净清理与保养。试验箱的结构如何组成?

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连续炉即是连续作业炉,是指连续地或间歇地装料,工件在炉内不断移动,完成加热、保温,有时包括冷却在内全过程的热处理炉。连续作业炉可借助某些机械结构连续地或间歇地进行装料和出料,连续顺序地通过按零件处理工艺要求的不同温度区完成加热过程。使用连续作业炉可提高产品质量,提高劳动生产率和改善劳动条件。下面为大家介绍一下连续炉的技术参数。 1.送风方式:送风循环系统; 2.温度范围:RT+30℃~300℃; 3.温度精度:±1℃ 4.温度均匀性:±1℃ 5.温控装置:富士智能PID温控仪,LED数字显示,PID自动演算及定时; 6.材质:内胆不锈钢,外箱体钢板静电喷塑; 7.传送方式:链杆、链网、自动锟轮,相当强承重; 8.复合式电加热器; 9.保护装置:漏电保护、断路保护、电机过载保护、接地保护、非正常运行情况下蜂鸣报警。试验箱怎样挑选比较好?试验箱制造

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在制冷方面,压缩机是采用德国进口的压缩机。制冷系统由高温部分和低温部分组成,每一部分是一个相对的制冷系统。高温部分中制冷剂的蒸发吸收来自低温部分的制冷剂的热量而汽化;低温部分制冷剂的蒸发则从被冷却的对象(试验机内的空气)吸热以获取冷量。高温部分和低温部分之间是用一个蒸发冷凝器联系起来,它既是高温部分的冷凝器,也是低温部分的冷凝器。加热系统采用完全的镍铬合金电加热式,电阻率大、电阻温度系数小,在高温下变形小且不易脆化,自身加热温度可达1000~1500℃。温州高低温低压试验箱

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下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的用途和设计。一、产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁...

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