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纳米压印基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620 NT,EVG6200 NT,EVG720,EVG7200,EVG7200
  • 是否定制
纳米压印企业商机

    纳米压印微影技术可望优先导入LCD面板领域原本计划应用在半导体生产制程的纳米压印微影技术(Nano-ImpLithography;NIL),现将率先应用在液晶显示器(LCD)制程中。NIL为次世代图样形成技术。据ETNews报导,南韩显示器面板企业LCD制程研发小组,未确认NIL设备实际图样形成能力,直接参访海外NIL设备厂。该制程研发小组透露,若引进相关设备,将可提升面板性能。并已展开具体供货协商。NIL是以刻印图样的压印机,像盖章般在玻璃基板上形成图样的制程。在基板上涂布UV感光液后,再以压印机接触施加压力,印出面板图样。之后再经过蚀刻制程形成图样。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光图样,不需再另外贴附偏光薄膜。虽然在面板制程中需增加NIL、蚀刻制程,但省落偏光膜贴附制程,可维持同样的生产成本。偏光膜会吸收部分光线降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光图样,将不会发生降低亮度的情况。通常面板分辨率越高,因配线较多,较难确保开口率(ApertureRatio)。SmartNIL技术可提供功能强大的下一代光刻技术,几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。湖北碳化硅纳米压印

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EVGROUP®|产品/纳米压印光刻解决方案

纳米压印光刻的介绍:

EV Group是纳米压印光刻(NIL)的市场**设备供应商。EVG开拓了这种非常规光刻技术多年,掌握了NIL并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。EVG的专有SmartNIL技术通过多年的研究,开发和现场经验进行了优化,以解决常规光刻无法满足的纳米图案要求。SmartNIL可提供低至40 nm的出色保形压印结果。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。


浙江纳米压印样机试用纳米压印设备可用来进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。

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SmartNIL是一项关键的启用技术,可用于显示器,生物技术和光子应用中的许多新创新。例如,SmartNIL提供了****的全区域共形压印,以便满足面板基板上线栅偏振器的**重要标准。SmartNIL还非常适合对具有复杂纳米结构的微流控芯片进行高精度图案化,以支持下一代药 物研究和医学诊断设备的生产。此外,SmartNIL的***发展为制造具有比较高功能,**小外形尺寸和大体积创新型光子结构提供了更多的自由度,这对于实现衍射光学元件(DOE)至关重要。


特征:

体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度

专有SmartNIL ®技术,多使用聚合物印模技术

经过生产验证的分辨率低至40 nm或更小

大面积全场压印

总拥有成本比较低

在地形上留下印记

对准能力

室温过程

开放式材料平台

EVG ® 520 HE热压印系统

特色:经通用生产验证的热压印系统,可满足比较高要求

EVG520 HE半自动热压印系统设计用于对热塑性基材进行高精度压印。EVG的这种经过生产验证的系统可以接受直径比较大为200 mm的基板,并且与标准的半导体制造技术兼容。热压印系统配置有通用压花腔室以及高真空和高接触力功能,并管理适用于热压印的整个聚合物范围。结合高纵横比压印和多种脱压选项,提供了许多用于高质量图案转印和纳米分辨率的工艺。


如果需要详细的信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 EVG ® 520 HE是热压印系统。

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为了优化工艺链,HERCULES NIL中包括多次使用的软印章的制造,这是大批量生产的基石,不需要额外的压印印章制造设备。作为一项特殊功能,该工具可以升级为具有ISO 3 *功能的微型环境,以确保比较低的缺 陷率和比较高质量的原版复制。

通过为大批量生产提供完整的NIL解决方案,HERCULES NIL增强了EVG在***积NIL设备解决方案中的领导地位。

*根据ISO 14644


HERCULES ® NIL特征:

批量生产**小40 nm *或更小的结构

联合预处理(清洁/涂层/烘烤/寒意)和SmartNIL ®

体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度

全自动压印和受控的低力分离,可很大程度地重复使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源,固化时间**快

优化的模块化平台可实现高吞吐量


*分辨率取决于过程和模板 EVG高达300 mm的高精度聚合物透镜成型和堆叠设备支持晶圆级光学(WLO)的制造。掩模对准纳米压印价格

步进重复纳米压印光刻可以从比较大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。湖北碳化硅纳米压印

纳米压印应用二:面板尺寸的大面积纳米压印

EVG专有的且经过大量证明的SmartNIL技术的***进展,已使纳米图案能够在面板尺寸比较大为Gen 3(550 mm x 650 mm)的基板上实现。对于不能减小尺寸的显示器,线栅偏振器,生物技术和光子元件等应用,至关重要的是通过增加图案面积来提高基板利用率。 NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济、高 效的方法,因为它不受光学系统的限制,并且可以为**小的结构提供比较好的图案保真度。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。


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纳米压印是一种用于工程与技术科学基础学科领域的工艺试验仪器,于2015年06月30日启用。
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