轮廓仪的培训
一、 培训承诺
系统建成后，我公司将为业主提供为期1天的**培训和技术资询；培训地点可以在我公司，亦或在工程现场；
系统操作及管理人员的培训人数为10人，由业主指定，我公司将确保相关人员正确使用该系统；
1.1. 培训对象
系统操作及管理人员（培训对象须具有专业技术的技术人员或实际值班操作人员）；
其他业主指定的相关人员。
1.2. 培训内容
系统操作使用说明书。
培训课程的主要内容是系统的操作、系统的相关参数设定和修改和系统的维修与保养与简单升级等，具体内容如下：
* 系统文档解读；
* 系统的技术特点、安装维护和系统管理方式；
* 系统一般故障排除。
菜单式系统设置，一键式操作，自动数据存储。高灵敏度的实验设备轮廓仪服务为先
NanoX-8000轮廓仪的自动化系统主要配置 ：
▪ XY比较大行程650*650mm
➢ 支持415*510mm/510*610mm两种尺寸
▪ XY光栅分辨率 0.1um，定位精度 5um，重复精度
1um
▪ XY 平台比较大移动速度：200mm/s
▪ Z 轴聚焦：100mm行程自动聚焦，0.1um移动步进
▪ 隔振系统：集成气浮隔振 + 大理石基石
▪ 配置真空台面
▪ 配置Barcode 扫描板边二维码，可自动识别产品信息
▪ 主设备尺寸：1290(W)x1390(D)x2190(H) mm
如果想要了解更加详细的产品信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 轮廓测量仪轮廓仪研发可以用吗视场范围：560×750um（10×物镜） 具体视场范围取决于所配物镜及 CCD 相机 。
NanoX-系列产品PCB测量应用测试案例
测量种类
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基板A Sold Mask 3D形貌、尺寸
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基板A Sold Mask粗糙度
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基板A 绿油区域3D 形貌
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基板A 绿油区域 Pad 粗糙度
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基板A 绿油区域粗糙度
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基板A 绿油区域 pad宽度
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基板A Trace 3D形貌和尺寸
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基板B 背面 Pad
NanoX-8000 系统主要性能
▪ 菜单式系统设置，一键式操作，自动数据存储
▪ 一键式系统校准
▪ 支持连接MES系统，数据可导入SPC
▪ 具备异常报警，急停等功能，报警信息可储存
▪ MTBF ≥ 1500 hrs
▪ 产能 : 45s/点 （移动 + 聚焦 + 测量）（扫描范围 50um）
➢ 具备 Global alignment & Unit alignment
➢ 自动聚焦范围 ： ± 0.3mm
➢ XY运动速度 **快
NanoX-2000/3000
系列 3D 光学干涉轮廓仪建立在移相干涉测量（PSI）、白光垂直扫描干涉测量（VSI）和单色光
垂直扫描干涉测量（CSI）等技术的基础上，以其纳米级测量准确度和重复性（稳定性）定量地反映出被测件的表面粗
糙度、表面轮廓、台阶高度、关键部位的尺寸及其形貌特征等。广泛应用于集成电路制造、MEMS、航空航天、精密加
工、表面工程技术、材料、太阳能电池技术等领域。
使用范围广: 兼容多种测量和观察需求
保护性: 非接触式光学轮廓仪
耐用性更强， 使用无损
可操作性:一键式操作，操作更简单，更方便
每个共焦图像是通过样品的形貌的水平切片，在不同的焦点高度捕获图像产生这样的图像的堆叠。
满足您需求的轮廓仪
使用范围广: 兼容多种测量和观察需求
保护性: 非接触式光学轮廓仪
耐用性更强， 使用无损
可操作性:一键式操作，操作更简单，更方便
智能性:特殊形状能够只能计算特征参数
个性化: 定制化客户报告模式
更好用户体验： 迅捷的售后服务，个性化应用软件支持
1.精度高,寿命长---采用超高精度气浮导轨作为直线测量基准，具有稳定性好、承载大、**磨损等优点，达到国内同类产品较高精度。 2.高精度光栅尺及进口采集卡---保证数据采样分辨率，准确度高，稳定性好。（网络） 物镜是轮廓仪****的部件， 物镜的选择根据功能和检测的精度提出需求。轮廓测量仪轮廓仪研发可以用吗
NanoX-8000主设备尺寸：1290(W)x1390(D)x2190(H) mm。高灵敏度的实验设备轮廓仪服务为先
轮廓仪的物镜知多少?
白光干涉轮廓仪是基于白光干涉原理，以三维非接触时方法测量分析样片表面形貌的关键参数和尺寸，典型结果包括：
表面形貌（粗糙度，平面度，平行度，台阶高度，锥角等）
几何特征（关键孔径尺寸，曲率半径，特征区域的面积和集体，特征图形的位置和数量等）
白光干涉系统基于无限远显微镜系统，通过干涉物镜产生干涉条纹，使基本的光学显微镜系统变为白光干涉仪。
因此物镜是轮廓仪****的部件，
物镜的选择根据功能和检测的精度提出需求，为了满足各种精度的需求，需要提供各种物镜，例如标配的10×， 还有2.5×，5×，20×，50×，100×，可选。
不同的镜头价格有很大的差别，因此需要量力根据需求选配对应的镜头哦。
轮廓仪在晶圆的IC封装中的应用：
晶圆的IC制造过程可简单看作是将光罩上的电路图通过UV刻蚀到镀膜和感光层后的硅晶圆上这一过程，其中由于光罩中电路结构尺寸极小，任何微小的黏附异物和下次均会导致制造的晶圆IC表面存在缺 陷，因此必须对光罩和晶圆的表面轮廓进行检测，检测相应的轮廓尺寸。 高灵敏度的实验设备轮廓仪服务为先
