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纳米压印基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620 NT,EVG6200 NT,EVG720,EVG7200,EVG7200
  • 是否定制
纳米压印企业商机

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

®的 UV-NIL紫外光纳米压印系统。


EVG的HERCULES ® NIL产品系列

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

® UV-NIL系统达200毫米

对于大批量制造的完全集成的纳米压印光刻解决方案,具有EVG's专有SmartNIL ®印迹技术


HERCULES NIL是完全集成的UV纳米压印光刻跟 踪解决方案,适用于比较大200 mm的晶圆,是EVG的NIL产品组合的***成员。HERCULES

NIL基于模块化平台,将EVG专有的SmartNIL压印技术与清洁,抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤相结合。这将HERCULES NIL变成了“一站式服务”,将裸露的晶圆装载到工具中,然后将经过完全处理的纳米结构晶圆退回。 EVG的SmartNIL技术是基于紫外线曝光的全场压印技术,可提供功能强大的下一代光刻技术。芯片纳米压印干涉测量应用

芯片纳米压印干涉测量应用,纳米压印

EVG ® 510 HE热压印系统

应用:高度灵活的热压印系统,用于研发和小批量生产

EVG510 HE半自动热压印系统设计用于对热塑性基材进行高精度压印。该设备配置有通用压花室以及真空和接触力功能,并管理适用于热压印的全部聚合物。结合高纵横比压印和多种脱压选项,提供了许多用于高质量纳米图案转印的工艺。


EVG ® 510 HE特征:

用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印应用

自动化压花工艺

EVG专有的**对准工艺,用于光学对准的压印和压印

完全由软件控制的流程执行

闭环冷却水供应选项

外部浮雕和冷却站 晶圆片纳米压印代理价格HERCULES ® NIL是完全集成SmartNIL ®的 UV-NIL紫外光纳米压印系统。

芯片纳米压印干涉测量应用,纳米压印

    首先准备一块柔性薄膜作为弹性基底层,然后将巯基-烯预聚物旋涂在具有表面结构的母板上,弹性薄膜压印在巯基-烯层上,与材料均匀接触。巯基-烯材料可以在自然环境中固化通过“点击反应”形成交联聚合物,不受氧气和水的阻聚作用。顺利分离开母板后,弹性薄膜与固化后的巯基-烯层紧密连接在一起,获得双层结构的复合柔性模板。由于良好的材料特性,刚性巯基-烯结构层可以实现较高的分辨率。因此,利用该方法可以制备高 分辨的复合柔性模板,经过表面防粘处理后可以作为软压印模板使用。该研究利用新方法制备了以PDMS和PET为弹性基底的亚100nm线宽的光栅结构复合软压印模板。相关研究成果发表于《纳米科技与纳米技术杂志》(JournalofNanoscienceandNanotechnology)。(来自网络。

EVG ® 7200 LA大面积SmartNIL

® UV纳米压印光刻系统

用于大面积****的共形纳米压印光刻。

EVG7200大面积UV纳米压印系统使用EVG专有且经过量证明的SmartNIL技术,将纳米压印光刻(NIL)缩放为第三代(550 mm x 650 mm)面板尺寸的基板。对于不能减小尺寸的显示器,线栅偏振器,生物技术和光子元件等应用,至关重要的是通过增加图案面积来提高基板利用率。NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济有效的方法,因为它不受光学系统的限制,并且可以为**小的结构提供比较好的图案保真度。

SmartNIL利用非常强大且可控的加工工艺,提供了低至40 nm *的出色保形压印结果。凭借独特且经过验证的设备功能(包括****的易用性)以及高水平的工艺专业知识,EVG通过将纳米压印提升到一个新的水平来满足行业需求。

*分辨率取决于过程和模板 EVG ® 610也可以设计成紫外线纳米压印光刻系统。

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EVG ® 510 HE是EVG500系列的热压印系统


EV Group的一系列高精度热压印系统基于该公司市场**的晶圆键合技术。出色的压力和温度控制以及大面积的均匀性可实现高精度的压印。热压印是一种经济高

效且灵活的制造技术,对于尺寸低至50 nm的特征,其复制精度非常高。该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高纵横比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。压模与基板对准的组合可将热压纹与预处理的基板结构对准。这个系列包含的型号有:EVG®510HE,EVG®520HE。 HERCULES NIL 300 mm提供市场上**纳米压印功能,具有较低的力和保形压印,快速高功率曝光和平滑压模分离。芯片纳米压印干涉测量应用

SmartNIL是基于紫外线曝光的全域型压印技术。芯片纳米压印干涉测量应用

纳米压印应用一:镜片成型

晶圆级光学(WLO)的制造得到EVG高达300 mm的高精度聚合物透镜成型和堆叠设备的支持。使用从晶片尺寸的主印模复制来的工作印模,通过软UV压印光刻将透镜图案转移到光学聚合物材料中。EV Group提供混合和单片微透镜成型工艺,可以轻松地适应各种材料组合,以用于工作印模和微透镜材料。EVG系统是客户进行大批量晶圆级镜头复制的优先。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。


芯片纳米压印干涉测量应用

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纳米压印是一种用于工程与技术科学基础学科领域的工艺试验仪器,于2015年06月30日启用。
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