气氛炉基本参数
  • 产地
  • 安徽合肥
  • 品牌
  • 合肥真萍电子科技有限公司
  • 型号
  • 多种型号
  • 是否定制
气氛炉企业商机

下面为大家介绍一下高温钟罩炉的内外部结构和配置。

 一、炉体配置 炉膛结构:采用多晶莫来石材料砌筑而成 有效尺寸:φ 300×320mm(D×H) 设备重量:约 1200Kg 外观颜色:挂板采用高温喷塑,颜色为江淮蓝 外形尺寸:W1300×H2200×D1510 (mm),不含(囱、指示灯)

 二、热工系统 1.额定温度 :1550℃ 2.限制温度 :1600℃ 3.加热元件: U 型硅钼棒 4.加热功率 :16kW 5.空炉保温功率 ≤8kW 6.温区个数 :1 个 7.控温点数 :1 点 8.热偶 :B 分度 9.程序**精度 :±2℃(大于 600℃,升温速率≤3℃/min) 10.控温稳定度 :±1℃(恒温平台) 11.炉膛温度均匀度: ±4℃(恒温 1500℃,2h) 气氛炉去哪找?合肥真萍科技告诉您。哪里有气氛炉生产商

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电热鼓风烤箱适用于各种产品或材料及电气、仪表、元器件、电子、电工及汽车、航空、通讯塑胶、机械、食品、化工、化学品、五金工具在恒温环境条件下作干燥和各种恒温适应性试验。下面为大家介绍一下真萍科技电热鼓风烤箱的技术参数。 产品类型:数显微电脑控制 电源电压:AC 220V±10% 50Hz±2% 温控范围:室温+10℃-250℃ 温度分辨率:0.1℃ 温度波动率:≤±0.5℃ 温度均匀度:≤±2℃ 输入功率:500W 内胆尺寸(mm):W300×D300×H270 外形尺寸(mm):W580×D480×H440 载物托架:2块 定时范围:0-9999分钟合肥气氛炉专卖气氛炉怎么选?合肥真萍科技告诉您。

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本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱,首先简单介绍一下HMDS 预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。   增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。

真空干燥箱是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它的工作原理是利用真空泵进行抽气抽湿,使工作室内形成真空状态,降低水的沸点,加快干燥的速度。真萍科技作为真空干燥箱的原产厂家,生产的真空干燥箱都是厂家直接生产销售,质量可靠,有品质保证,欢迎来电咨询。大家知道真空干燥箱有哪些特点吗?不同厂商的真空干燥箱特点自然有所不同,小编下面为大家介绍一下真萍科技真空干燥箱的特点。 1.接通电源; 2.产品送入腔体,关门; 3.打开电源; 4.工作温度设定好,启动加热,设备进入自动恒温状态; 5.真空值和时间设定好后,启动真空泵,开始进入自动抽真空阶段; 6.到达时间值后,真空泵自动关闭。合肥真萍科技简述气氛炉规范标准。

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真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜的柜体规格、配备。 1.左右双开门,3mm钢化玻璃,1mm厚不锈钢板,气密式隐藏锁把手。 2.柜体密封高吸附力磁性胶条与柜体密闭,脚垫采高承载车轮及调整高低脚垫。 3.附高载重不锈钢隔板,柜体加装高载重煞车轮。 4.上掀式气密盖,方便 FFU保养及维修。 5.回风循环设计,单向氮气循环不产生紊流。 6.背面气密开门式设计,方便洁净清理与保养。为什么大家都选择合肥真萍科技的气氛炉,原因真萍告诉您。上海气氛炉规格尺寸

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无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、、船舶、电子、通讯等科研及生产单位,主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化,模压固烤、IC(晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别)、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干,电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。下面为大家介绍一下真萍科技无氧干燥箱。一、技术指标与基本配置:1.使用温度:RT~260℃,极限温度:300℃;2.炉膛腔数:2个,上下布置;3.炉膛材料:SUS304镜面不锈钢;加热元件:不锈钢加热器;热偶:K分度4.温度和氧含量记录:无纸记录仪;二、氧含量(配氧分析仪):1.高温状态氧含量:≤10ppm+气源氧含量;低温状态氧含量:≤20ppm+气源氧含量2.控温稳定度:±1℃;2.3温度均匀度:±2%℃(260℃平台);哪里有气氛炉生产商

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