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膜厚仪相关图片

膜厚仪基本参数

产地
美国
品牌
Frontier Semiconductor (FSM)
型号
FSM 413EC, FSM 413MOT，FSM 413SA DP FSM 413C2C, FSM
是否定制
是

膜厚仪企业商机

电介质成千上万的电解质薄膜被用于光学，半导体，以及其它数十个行业, 而Filmetrics的仪器几乎可以测量所有的薄膜。常见的电介质有:二氧化硅 – **简单的材料之一, 主要是因为它在大部分光谱上的无吸收性 (k=0)，而且非常接近化学计量 (就是说，硅：氧非常接近 1:2)。受热生长的二氧化硅对光谱反应规范，通常被用来做厚度和折射率标准。 Filmetrics能测量3nm到1mm的二氧化硅厚度。氮化硅 – 对此薄膜的测量比很多电介质困难，因为硅：氮比率通常不是3：4, 而且折射率一般要与薄膜厚度同时测量。更麻烦的是，氧常常渗入薄膜，生成一定程度的氮氧化硅，增大测量难度。但是幸运的是，我们的系统能在几秒钟内 “一键” 测量氮化硅薄膜完整特征!FSM413SP半自动机台人工取放芯片。多层膜膜厚仪价格怎么样

F54自动化薄膜测绘Filmetrics F54 系列的产品能以一个电动R-Theta 平台自动移动到选定的测量点以每秒测绘两个点的速度快速的测绘薄膜厚度, 样品直径达450毫米

可选择数十种内建之同心圆,矩形,或线性图案模式,或自行建立无数量限制之测量点.*需具备基本电脑技能的任何人可在数分钟内自行建立配方

F54 自动化薄膜测绘只需联结设备到您运行Windows™系统计算机的USB端口, 可在几分钟轻松设置

不同的型号主要是由厚度和波长范围作为区别。通常较薄的膜需要较短波长作测量(如F54-UV) 用来测量较薄的膜,而较长的波长可以用来测量更厚，更粗糙，或更不透明的薄膜官方授权经销商膜厚仪质保期多久F3-sX 系列测厚范围：10µm - 3mm；波长：960-1580nm。

更可加装至三个探头，同时测量三个样品，具紫外线区或标准波长可供选择。F40:這型號安裝在任何顯微鏡外，可提供*小5um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。F50:這型號配備全自動XY工作台，由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通过快速扫瞄功能，可取得整片样品厚度分布情况(mapping)。F70:*通过在F20基本平台上增加镜头，使用Filmetrics*新的颜色编码厚度测量法（CTM），把设备的测量范围极大的拓展至。F10-RT：在F20实现反射率跟穿透率的同时测量，特殊光源设计特别适用于透明基底样品的测量。PARTS：在垂直入射光源基础上增加70º光源，特别适用于超薄膜层厚度和n、k值测量。**膜厚测量仪系统F20使用F20**分光计系统可以简便快速的测量厚度和光学参数（n和k）。您可以在几秒钟内通过薄膜上下面的反射比的频谱分析得到厚度、折射率和消光系数。任何具备基本电脑技术的人都能在几分钟内将整个桌面系统组装起来。F20包括所有测量需要的部件：分光计、光源、光纤导线、镜头**和Windows下运行的软件。您需要的只是接上您的电脑。膜层实例几乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能测。包括：sio2（二氧化硅）sinx（氮化硅）dlc（类金刚石碳）photoresist。

生物医疗设备涂层应用生物医疗器械应用中的涂层生物医疗器械的制造和准备方面会用到许多类型的涂层。有些涂层是为了保护设备免受腐蚀，而其他的则是为了预防组织损伤、***或者是排异反应。药物传输涂层也变得日益普通。其它生物医学器械，如血管成型球囊，具有**的隔膜，必须具有均匀和固定的厚度才能正常工作。

这些涂层厚度的测量方法各不相同，但有一件事是确定的。使用普通方法 (例如，在涂层前后称某一部分的重量)，无法检测到会导致器械故障的涂层不完全覆盖或涂层的不均匀性。

采用Michaelson干涉方法，红外波段的激光能更好的穿透被测物体，准确得到测试结果。

Total Thickness Variation (TTV) 应用

规格:

测量方式:

红外干涉(非接触式)

样本尺寸:

50、75、100、200、300 mm，也可以订做客户需要的产品尺寸

测量厚度:

15 — 780 μm (单探头)

3 mm (双探头总厚度测量)