纳米压印应用二：面板尺寸的大面积纳米压印
EVG专有的且经过大量证明的SmartNIL技术的***进展，已使纳米图案能够在面板尺寸比较大为Gen 3（550 mm x 650 mm）的基板上实现。对于不能减小尺寸的显示器，线栅偏振器，生物技术和光子元件等应用，至关重要的是通过增加图案面积来提高基板利用率。 NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济、高 效的方法，因为它不受光学系统的限制，并且可以为**小的结构提供比较好的图案保真度。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。
HERCULES ® NIL是完全集成SmartNIL ®的 UV-NIL紫外光纳米压印系统。EVG7200LA纳米压印美元价
据外媒报道，美国威斯康星大学麦迪逊分校（UWMadison）的研究人员们，已经同合作伙伴联手实现了一种突破性的方法。不仅**简化了低成本高性能、无线灵活的金属氧化物半导体场效应晶体管（MOSFET）的制造工艺，还克服了许多使用标准技术制造设备时所遇到的操作上的问题。该技术可用于制造大卷的柔性塑料印刷线路板，并在可穿戴电子设备和弯曲传感器等领域派上大用场。研究人员称，这项突破性的纳米压印平板印刷制造工艺，可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶体管。由于出色的低电流需求和更好的高频性能，MOSFET已经迅速取代了电子电路中常见的双极晶体管。为了满足不断缩小的集成电路需求，MOSFET尺寸也在不断变小，然而这也引发了一些问题。EVG720纳米压印国内用户IQ Aligner®是EVG的可用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统。
面板厂为补偿较低的开口率，多运用在背光模块搭载较多LED的技术，但此作法的缺点是用电量较高。若运用NIL制程，可确保适当的开口率，降低用电量。利用一般曝光设备也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光设备一次可形成的图样面积较小。若要制造55吋面板，需要经过数十次的曝光制程。不仅制程时间长，经过多次曝光后，在图样间会形成细微的缝隙，无法完整显示影像。若将NIL技术应用在5代设备，可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜图样。在8代基板可制造6片55吋面板，6次的压印接触可处理完1片8代基板。南韩业者表示，在玻璃基板上形成偏光图样以提升质量的生产制程，是LCD领域中***一个创新任务。若加速NIL制程导入LCD生产的时程，偏光膜企业的营收可能减少。（来自网络。
EVG610特征：
顶部和底部对准能力
高精度对准台
自动楔形误差补偿机制
电动和程序控制的曝光间隙
支持***的UV-LED技术
**小化系统占地面积和设施要求
分步流程指导
远程技术支持
多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）
敏捷处理和光刻工艺之间的转换
台式或带防震花岗岩台的单机版
EVG610附加功能：
键对准
红外对准
纳米压印光刻
µ接触印刷
EVG610技术数据：
晶圆直径（基板尺寸）
标准光刻：比较大150毫米的碎片
柔软的UV-NIL：比较大150毫米的碎片
解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）
支持流程：柔软的UV-NIL
曝光源：汞光源或紫外线LED光源
自动分离：不支持
工作印章制作：外部
EVG的EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV纳米压印光刻系统。
纳米压印光刻（NIL） -SmartNIL ®
用于大批量生产的大面积软UV纳米压印光刻工艺
介绍：
EVG是纳米压印光刻（NIL）的市场**设备供应商。EVG开拓了这种非常规光刻技术多年，掌握了NIL并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。EVG的专有SmartNIL技术通过多年的研究，开发和现场经验进行了优化，以解决常规光刻无法满足的纳米图案要求。SmartNIL可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印结果。
如果要获得详细信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司或者访问官网。
EVG620 NT支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，以及背面对准选项。全域纳米压印出厂价
EVG的纳米压印光刻（NIL） - SmartNIL ® 是用于大批量生产的大面积软UV纳米压印光刻工艺。EVG7200LA纳米压印美元价
IQ Aligner UV-NIL特征：
用于光学元件的微成型应用
用于全场纳米压印应用
三个**控制的Z轴，可在印模和基材之间实现出色的楔形补偿
三个**控制的Z轴，用于压印抗蚀剂的总厚度变化（TTV）控制
利用柔软的印章进行柔软的UV-NIL工艺
EVG专有的全自动浮雕功能
抵抗分配站集成
粘合对准和紫外线粘合功能
IQ Aligner UV-NIL技术数据：
晶圆直径（基板尺寸）：150至300毫米
解析度：≤50 nm（分辨率取决于模板和工艺）
支持流程：柔软的UV-NIL，镜片成型
曝光源：汞光源
对准：≤±0.5微米
自动分离：支持的
前处理：涂层：水坑点胶（可选）
迷你环境和气候控制：可选的
工作印章制作：支持的
EVG7200LA纳米压印美元价
