下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的用途和设计。一、产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁...
无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、***、船舶、电子、通讯等科研及生产单位,主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化,模压固烤、IC(晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别)、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干,电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。下面为大家介绍一下真萍科技无氧干燥箱。 一、技术指标与基本配置: 1.使用温度:RT~260℃,极限温度:300℃; 2.炉膛腔数:2个,上下布置; 3.炉膛材料:SUS304镜面不锈钢;加热元件:不锈钢加热器;热偶:K分度 4.温度和氧含量记录:无纸记录仪; 二、氧含量(配氧分析仪): 1.高温状态氧含量:≤ 10ppm +气源氧含量;低温状态氧含量:≤ 20ppm +气源氧含量 2.控温稳定度:±1℃; 2.3温度均匀度:±2%℃(260℃平台);试验箱制作原理是什么呢?合肥真萍科技为您专业解答。嘉兴小型试验箱
冷热冲击试验箱具有模拟大气环境中温度变化规律。主要针对于电工,电子产品,以及其元器件及其它材料在高温,低温综合环境下运输,使用时的适应性试验。用于产品设计,改进,鉴定及检验等环节。真萍科技作为冷热冲击试验箱设备制造厂商,在冷热冲击试验箱设备制造领域的专业性是不用多说的。下面让真萍科技从温度方面,带您了解冷热冲击试验箱。 一、温度波动度 这个指标也有叫温度稳定度,控制温度稳定后,在给定任意时间间隔内,工作空间内任一点的较高和较低温度之差。这里有个小小的区别“工作空间”并不是“工作室”,是大约工作室去掉离箱壁各自边长的1/10的一个空间。这个指标考核产品的控制技术。 二、温度范围 指产品工作室能耐受和(或)能达到的极限温度。通常含有能控制恒定的概念,应该是可以相对长时间稳定运行的极值。一般温度范围包括极限高温和极限低温。一般标准要求指标为≤1℃或±0.5℃。高低温恒定湿热试验箱生产商合肥真萍科技试验箱值得推荐。
中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理,下面为大家介绍一下中温气氛箱式炉的系统配置。 一、冷却系统 1.冷却结构 无 2.产品降温 随炉降温 3.安全保护 4.报警指示 超温、断偶、停水、停气等声光报警保护 5.设备安全升温速率 ≤5℃/min 二、温度控制系统 1.温度测量 采用 K 分度热偶测量 2.控制仪表 采用进口智能调节仪控制。具有 PID 参数自整定、高温 3.上限报警、热电偶失效指示等多项报警保护功能 4.控制方式 固态继电器过零控制 5.超温处理 ⑴.当测量温度超过设定的安全值时,断加热,并报警。 ⑵.当测量温度超过目标温度达到安全偏差值时,报警。
下面为大家介绍一下石墨盘**真空烤盘炉的技术指标。 1.使用温度:1450℃;比较高温度:1500℃; 2.绝热材料:石墨纤维毯、石墨纸; 3.加热元件:石墨加热棒; 4.冷却方式:气冷 + 循环风冷降温; 5.控温稳定度:±2℃,具有PID参数自整定功能; 6.炉膛温度均匀度:±5℃(恒温1500℃); 7.气氛: 可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%; 8.极限真空: 10-3torr级; 9.抽气速率:空载下,30min达到10-2torr 10.升温功率:170kW; 11.升温速率:15℃/min(空载); 12.降温速率:1450℃至80℃,240分钟 13.腔体尺寸:1000*1000*1000mm(宽*深*高)试验箱的品牌哪个好?合肥真萍科技告诉您。
隧道炉适用于五金模具、航天航空、纳米材料、精密陶瓷、粉末治金、铁氟龙喷涂、五金、锂电池、化工、运动器材、汽车零配件、电机、化工、工业之烘烤、干燥、预热回火、退火、老化等用途。下面为大家介绍一下真萍科技隧道炉的产品特点。 1.双边配有链条传动,解决传送过程中跑偏的现象; 2.烘箱分段式加热,**电箱控制,方便操作。结构主要由输送机系统与烘干炉两大部分组成,多段**; 3.PID温度控制,炉内温度均匀; 4.输送速度变频调速,调节自如,运行平稳,产能高; 5.每段**箱体设置废气排放接口,可外接到车间外面,避免车间废气污染。试验箱的生产厂家名录。高低温恒定湿热试验箱生产商
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超高真空烘箱广泛应用于航空、航天、电子、通讯等科研及生产单位。确定仪器仪表、电工产品、材料、零部件、设备等在低气压、高温单项或同时作用下的环境适应性与可靠性试验。下面为大家介绍一下超高真空烘箱的主要技术指标。 1.工作室温度范围:常温~ +300℃ 用户使用温度260℃ 2.温度波动度:±1.0℃(空载); 3.温度偏差:常压温度试验:常温~200℃时±2℃ 200~300℃时±5.0℃ 低气压高温综合试验:≤100℃时±2.0℃, 100℃~200℃时±5.0℃ 200℃~300℃时±7.0℃嘉兴小型试验箱
下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的用途和设计。一、产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁...
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