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纳米压印基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620 NT,EVG6200 NT,EVG720,EVG7200,EVG7200
  • 是否定制
纳米压印企业商机

      **的衍射波导设计商和制造商WaveOptics***宣布与EV Group(EVG)进行合作,EV Group是晶圆键合和纳米压印光刻设备的**供应商,以带来高性能增强现实( AR)波导以当今业界*低的成本进入大众市场。波导是可穿戴AR的关键光学组件。

      WaveOptics首席执行官David Hayes评论:“这一合作伙伴关系标志着增强现实行业的转折点,是大规模生产高质量增强现实解决方案的关键步骤,这是迄今为止尚无法实现的能力。” EVG的专业知识与我们可扩展的通用技术的结合将使到明年年底,AR终端用户产品的市场价格将低于600美元。“这项合作是释放AR可穿戴设备发展的关键;我们共同处于有利位置,可以在AR中引入大众市场创新,以比以往更低的成本开辟了可扩展性的新途径。” EV Group的一系列高精度热压花系统是基于该公司市场**的晶圆键合技术。EVG520 HE纳米压印有谁在用

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SmartNIL是行业**的NIL技术,可对小于40 nm *的极小特征进行图案化,并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合,可实现****的吞吐量,并具有显着的拥有成本优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景,即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本,大批量替代光刻技术。

注:*分辨率取决于过程和模板


如果需要详细的信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 青海纳米压印推荐产品HERCULES®NIL是完全集成的纳米压印光刻解决方案,可实现300 mm的大批量生产。

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    ”EV集团的技术研发与IP主管MarkusWimplinger说,“通过与供应链的关键企业的合作,例如DELO,我们能够进一步提高效率,作为与工艺和设备**们一同研究并建立关键的新生产线制造步骤的中心。”“EVG和DELO分别是晶圆级光学仪器与NIL设备与光学材料的技术与市场**企业。双方在将技术与工艺流程应用于大规模生产方面有可靠的经验,”DELO的董事总经理RobertSaller说道。“通过合作,我们将提供自己独特的技术,将晶圆级工艺技术应用于光学器件和光电器件制造中,EVG也成为我们***产品开发的理想合作伙伴。这种合作还将使我们以应用**和前列合作伙伴的身份为客户服务。"晶圆级光学元件的应用解决方案EVG的晶圆级光学器件解决方案为移动式消费电子产品提供多种新型的光学传感设备。主要的例子是:3D感应,飞行时间,结构光,生物特征身份认证,面部识别,虹膜扫描,光学指纹,频谱检测,环境感应与红外线成像。其它应用领域包括汽车照明,光地毯,平视显示器,车内感应,激光雷达,内窥镜照相机医学成像,眼科设备与手术机器人。EVG的晶圆级光学仪器解决方案得到公司的NILPhotonics解决方案支援中心的支持。DELO创新的多功能材料几乎可以在世界上每部手机上找到。

纳米压印设备哪个好?预墨印章用于将材料以明显的图案转移到基材上。该技术用于表面化学的局部修饰或捕获分子在生物传感器制造中的精确放置。

纳米压印设备可以进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。


将聚合物片或旋涂聚合物加热到其玻璃化转变温度以上,从而将材料转变为粘性状态。然后以足够的力将压模压入聚合物中。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。


纳米压印设备可用来进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。

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EVG ® 510 HE特征:

用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印应用

自动化压花工艺

EVG专有的**对准工艺,用于光学对准的压印和压印

完全由软件控制的流程执行

闭环冷却水供应选项

外部浮雕和冷却站


EVG ® 510 HE技术数据:

加热器尺寸:150毫米 ,200毫米

比较大基板尺寸:150毫米,200毫米

**小基板尺寸:单芯片,100毫米

比较大接触力:10、20、60 kN

比较高温度:标准:350°C;可选:550°C

夹盘系统/对准系统

150毫米加热器:EVG ® 610,EVG ® 620,EVG ® 6200

200毫米加热器:EVG ® 6200,MBA300,的Smart View ® NT

真空:

标准:0.1毫巴


可选:0.00001 mbar


EVG620 NT支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,以及背面对准选项。进口纳米压印代理价格

EVG®770可用于连续重复的纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作。EVG520 HE纳米压印有谁在用

纳米压印光刻设备-处理结果:

新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案,并在显示器,生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。HRI SmartNIL®压印上的单个像素的1.AFM图像压印全息结构的AFM图像

资料来源:EVG与SwissLitho

AG合作(欧盟项目SNM)

2.通过热压花在PMMA中复制微流控芯片

资料来源:EVG

3.高纵横比(7:1)的10 µm柱阵列

由加拿大国家研究委 员会提供

4.L / S光栅具有优化的残留层,厚度约为10 nm

资料来源:EVG

5.紫外线成型镜片300 µm

资料来源:EVG

6.光子晶体用于LED的光提取

多晶硅的蜂窝织构化(mc-Si)

由Fraunhofer ISE提供

7.金字塔形结构50 µm

资料来源:EVG

8.**小尺寸的光模块晶圆级封装

资料来源:EVG

9.光子带隙传感器光栅

资料来源:EVG(欧盟Saphely项目)

10.在强光照射下对HRISmartNIL®烙印进行完整的晶圆照相

资料来源:EVG EVG520 HE纳米压印有谁在用

岱美仪器技术服务(上海)有限公司拥有磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理(拍卖除外)及其相关配套服务,国际贸易、转口贸易,商务信息咨询服务 等多项业务,主营业务涵盖半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪。一批专业的技术团队,是实现企业战略目标的基础,是企业持续发展的动力。公司以诚信为本,业务领域涵盖半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪,我们本着对客户负责,对员工负责,更是对公司发展负责的态度,争取做到让每位客户满意。公司凭着雄厚的技术力量、饱满的工作态度、扎实的工作作风、良好的职业道德,树立了良好的半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪形象,赢得了社会各界的信任和认可。

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