杭州工业烤箱厂家

真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂层石墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。

二、设计特点

1、后门设计热风电机

2、降温时风机开启，同时两端降温封头开启，炉膛内产生如图所示的气体流向

3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换，达到快速降温的目的

三、技术指标

1、使用温度：1450℃；比较高温度：1500℃；

2、绝热材料：石墨纤维毯、石墨纸；

4、加热元件：石墨加热棒；

5、冷却方式：气冷 + 循环风冷降温；

6、控温稳定度：±2℃，具有PID参数自整定功能；

7、炉膛温度均匀度：±5℃（恒温1500℃）；

8、气氛: 可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%；

9、极限真空: 10-3torr级；

10、抽气速率：空载下，30min达到10-2torr

11、升温功率：170kW；

12、升温速率：15℃/min（空载）；

13、降温速率：1450℃至80℃,240分钟

14、腔体尺寸：1000*1000*1000mm（宽*深*高） 真萍科技为您提供定制各种尺寸工业烤箱。杭州工业烤箱厂家

下面为大家简单介绍一下真萍科技的产品之一——洁净烘箱。

本产品是参照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造，普遍应用于电子液晶显示，LCD,CMOS,IC，医药实验室等生产及科研部门。

技术指标：

1 无尘等级：Class100：（符合FED-STD 209E标准：0.3um≤300个0.5≤100个）

2温度范围：+60℃~ +250℃（极限温度350℃）

3温度均匀性：±2℃（空箱测试）

4温度精确度：±1℃（空箱测试）

5设备型号规格:

450*450*450450*600*450600*800*600600*700*600;700*900*700;700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;1000*1300*1000;1000*1400*1000;

箱体结构：

1烘箱总体由箱体部分，电气控制柜部分，电加热部分，风道部分，尘埃物过滤部分，N2 进气排气及风冷部分等组装而成，结构合理，功能实用。

2外箱材料:外箱采用SS41#中碳钢板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆可防止微尘，内胆材料：采用进口SUS304#2mm不锈钢板全周氩焊,并经碱性苏打水清洁有效的防止了机台本身灰尘的产生。

3保温材料：采用正厂**玻璃纤维公司出品的100K级高密度保温板填充，防止了热能浪费。

4电热部分：采用覆套式电热器（SHEATHED HEATER）无尘无氧化电热发生器

杭州工业烤箱厂家合肥真萍科技为您提供专业的售后服务！

HMDS 预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。

  增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

HMDS真空烤箱主要技术指标：

1. 机外壳采用冷扎钢板喷塑处理，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。

2. 箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。

3. 微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。

4. 智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。

5.HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。整个系统采用质量材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。

6 HMDS管路加热功能，使HMDS液体进入箱体的前端管路加热，使转为HMDS气态时更易。

7. 低液报警装置，采用红外液体感测器，能及时灵敏给出指令（当HMDS液过低时发出报警及及时切断工作起动功能）

8. 温度与PLC联动保护功能（当PLC没有启动程序时，加温功能启动不了，相反加温功能启动时，PLC程序不按正常走时也及时切断工作功能，发出警报）

9.整个箱体及HMDS气体管路采用SUS316不锈钢材料，整体使用无缝焊接（避免拼接导致HMDS液体腐蚀外泄对人体的伤害）

工业烤箱的运作原理是什么？

真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏，解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线，解决液晶的受潮问题，解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜。

柜体规格、配备：

1.左右双开门，3mm钢化玻璃，1mm厚不锈钢板，气密式隐藏锁把手。

2.柜体密封高吸附力磁性胶条与柜体密闭，脚垫采高承载车轮及调整高低脚垫。

3. 附高载重不锈钢隔板，柜体加装高载重煞车轮。

4.上掀式气密盖，方便 FFU保养及维修。

5.回风循环设计，单向氮气循环不产生紊流。

6.背面气密开门式设计，方便洁净清理与保养。 合肥真萍科技为您提供各种质量工业烤箱。恒温工业烤箱生产厂家

采用正厂**玻璃纤维公司出品的100K级高密度保温板填充，有效的防止了热能浪费。杭州工业烤箱厂家

石墨盘烤盘炉

一.产品介绍

真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂层石墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。

二、设计特点

1、后门设计热风电机

2、降温时风机开启，同时两端降温封头开启，炉膛内产生如图所示的气体流向

3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换，达到快速降温的目的

三、技术指标

1、使用温度：1450℃；比较高温度：1500℃；

2、绝热材料：石墨纤维毯、石墨纸；

4、加热元件：石墨加热棒；

5、冷却方式：气冷 + 循环风冷降温；

6、控温稳定度：±2℃，具有PID参数自整定功能；

7、炉膛温度均匀度：±5℃（恒温1500℃）；

8、气氛: 可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%；

9、极限真空: 10-3torr级；

10、抽气速率：空载下，30min达到10-2torr

11、升温功率：170kW；

12、升温速率：15℃/min（空载）；

13、降温速率：1450℃至80℃,240分钟

14、腔体尺寸：1000*1000*1000mm（宽*深*高） 杭州工业烤箱厂家