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光刻机基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620NT,EVG®6200NT,IQ Aligner,HERCULES
  • 是否定制
光刻机企业商机

EVG ® 610曝光源:

汞光源/紫外线LED光源

楔形补偿

全自动软件控制

晶圆直径(基板尺寸)

高达100/150/200毫米


曝光设定:

真空接触/硬接触/软接触/接近模式

曝光选项:

间隔曝光/洪水曝光/扇区曝光

先进的对准功能:

手动对准/原位对准验证

手动交叉校正

大间隙对准


EVG ® 610光刻机系统控制:

操作系统:Windows

文件共享和备份解决方案/无限制程序和参数

多语言用户GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR

实时远程访问,诊断和故障排除

使用的纳米压印光刻技术为“无紫外线” HERCULES的桥接工具系统可对多种尺寸的晶圆进行易碎,薄或翘曲的晶圆处理。四川三星光刻机

四川三星光刻机,光刻机

我们可以根据您的需求提供进行优化的多用途系统。

我们的掩模对准系统设计用于从掩模对准到键合对准的快速简便转换。此外,可以使用用于压印光刻的可选工具集,例如UV-纳米压印光刻,热压印或微接触印刷。所有系统均支持原位对准验证软件,以提高手动操作系统的对准精度和可重复性。EVG620 NT / EVG6200 NT可从手动到自动基片处理,实现现场升级。此外,所有掩模对准器都支持EVG专有的NIL技术。如果您需要纳米压印设备,请访问我们的官网,或者直接联系我们。 四川三星光刻机EVG的掩模对准目标是适用于高达300 mm的不同的厚度,尺寸,形状的晶圆和基片。

四川三星光刻机,光刻机

EVG101光刻胶处理系统的技术数据:

可用模块:旋涂/ OmniSpray ® /开发

分配选项:

各种光刻胶分配泵,可覆盖高达52000 cP的粘度;

液体底漆/预湿/洗盘;

去除边缘珠(EBR)/背面冲洗(BSR);

恒压分配系统/注射器分配系统。


智能过程控制和数据分析功能(框架软件平台)

用于过程和机器控制的集成分析功能

并行任务/排队任务处理功能,提高效率

设备和过程性能跟/踪功能:智能处理功能;事/故和警报分析/智能维护管理和跟/踪


晶圆直径(基板尺寸):高达300毫米


EVG620 NT技术数据:

曝光源:

汞光源/紫外线LED光源

先进的对准功能:

手动对准/原位对准验证

自动对准

动态对准/自动边缘对准

对准偏移校正算法


EVG620 NT产量:

全自动:第/一批生产量:每小时180片

全自动:吞吐量对准:每小时140片晶圆

晶圆直径(基板尺寸):高达150毫米

对准方式:

上侧对准:≤±0.5 µm

底侧对准:≤±1,0 µm

红外校准:≤±2,0 µm /具体取决于基材

键对准:≤±2,0 µm

NIL对准:≤±3.0 µm


曝光设定:真空接触/硬接触/软接触/接近模式/弯曲模式

楔形补偿:全自动软件控制

曝光选项:间隔曝光/洪水曝光/扇区曝光

系统控制:

操作系统:Windows

文件共享和备份解决方案/无限制 程序和参数

多语言用户GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR

实时远程访问,诊断和故障排除

工业自动化功能:

盒式磁带/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,弯曲,翘曲,边缘晶圆处理

纳米压印光刻技术:SmartNIL ® HERCULES对准精度:上侧对准:≤±0.5 µm;底侧对准:≤±1,0 µm;红外校准:≤±2,0 µm /具体取决于基材。

四川三星光刻机,光刻机

EVG曝光光学:专门开发的分辨率增强型光学元件(REO)可提供高出50%的强度,并显着提高/分辨率,在接近模式下可达到小于3μm的分辨率。REO的特殊设计有助于控制干涉效应以获得分辨率。EVG最/新的曝光光学增强功能是LED灯设置。低能耗和长寿命是UV-LED光源的最/大优势,因为不需要预热或冷却。在用户软件界面中可以轻松、实际地完成曝光光谱设置。此外,LED需要*在曝光期间供电,并且该技术消除了对汞灯经常需要的额外设施(废气,冷却气体)和更换灯的需要。这种理想的组合不仅可以最/大限度地降低运行和维护成本,还可以增加操作员的安全性和环境友好性。了解客户需求和有效的全球支持,这是我们提供优先解决方案的重要基础。四川三星光刻机

EVG在1985年发明了世界上第/一个底部对准系统,对准晶圆键合和纳米压印光刻技术方面开创并建立了行业标准。四川三星光刻机

仪器仪表行业已经连续多年保持了经济高位运行的态势。即使当全球受金融风暴的影响,各个行业经济东圃有所放缓,但从全景发展情况看来,仪表行业的增长速度并没有放缓。进一步提升我国仪器仪表技术和水平,其他有限责任公司企业要顺应产业发展潮流,在稳固常规品种的同时,进一步发展智能仪器仪表,提升产业数字化、智能化、集成化水平。半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪产业是国民经济的基础性、战略性产业,是信息化和工业化深度融合的源头,对促进工业转型升级、发展战略性新兴产业、推动现代**建设、保证和提高大家生活水平具有重要作用。我们必须承认,在科学仪器上,我们跟其他地区相比,还有很大的差距。这个差距,就是我们提升的空间。合相关部门、大学和企业之力,中国的贸易型必将在不远的将来,在相关领域的基础研究和重点光学部件研发上取得突破,产品进入世界中**水平,企业得到台阶式上升,迎头赶上,与全球出名企业并驾齐驱。四川三星光刻机

岱美仪器技术服务(上海)有限公司总部位于金高路2216弄35号6幢306-308室,是一家磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理(拍卖除外)及其相关配套服务,国际贸易、转口贸易,商务信息咨询服务 的公司。岱美中国作为磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理(拍卖除外)及其相关配套服务,国际贸易、转口贸易,商务信息咨询服务 的企业之一,为客户提供良好的半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪。岱美中国致力于把技术上的创新展现成对用户产品上的贴心,为用户带来良好体验。岱美中国创始人陈玲玲,始终关注客户,创新科技,竭诚为客户提供良好的服务。

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