哪里有气氛炉规格尺寸

下面为大家介绍一下石墨盘**真空烤盘炉的技术指标。 1.使用温度：1450℃；比较高温度：1500℃； 2.绝热材料：石墨纤维毯、石墨纸； 3.加热元件：石墨加热棒； 4.冷却方式：气冷 + 循环风冷降温； 5.控温稳定度：±2℃，具有PID参数自整定功能； 6.炉膛温度均匀度：±5℃（恒温1500℃）； 7.气氛: 可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%； 8.极限真空: 10-3torr级； 9.抽气速率：空载下，30min达到10-2torr 10.升温功率：170kW； 11.升温速率：15℃/min（空载）； 12.降温速率：1450℃至80℃,240分钟 13.腔体尺寸：1000*1000*1000mm（宽*深*高）合肥真萍科技为您提供气氛炉的详细介绍。哪里有气氛炉规格尺寸

温湿度振动三综合试验箱，广泛应用在对电工电子、家用电器、汽摩配件、化工涂料、航天、航空、石油、化工、电子、通讯、及其它相关产品零部件及材料进行高低温、恒定、交变湿热及振动冲击综合试验，并与单一因素作用相比更能真实地反映电工电子产品在运输和实际使用过程中对温湿度及振动复合环境变化的适应性，暴露产品的缺点，是新产品研制、样机试验、产品合格鉴定试验全过程必不可少的重要试验手段。 三综合试验是指综合温度、湿度、振动三个环境应力的试验，具有极宽大的温湿度控制范围，可满足用户的各种需要采用独特的平衡调温调湿方式，可获得安全、精确的温湿度环境。同时可在三综合试验箱内将电振动应力按规定的周期施加到试品上，供用户对整机（或部件）、电器、仪器、材料等作温湿度、振动综合应力筛选试验，以便考核试品的适应性或对试品的行为作出评价。宁波气氛炉质量商家气氛炉有什么特点？合肥真萍科技告诉您。

连续炉即是连续作业炉，是指连续地或间歇地装料，工件在炉内不断移动，完成加热、保温，有时包括冷却在内全过程的热处理炉。连续作业炉可借助某些机械机构连续地或间歇地进行装料和出料，连续顺序地通过按零件处理工艺要求的不同温度区完成加热过程。使用连续作业炉可提高产品质量，提高劳动生产率和改善劳动条件。下面为大家介绍一下连续炉的技术参数。 1.送风方式：送风循环系统； 2.温度范围：RT+30℃~300℃； 3.温度精度：±1℃ 4.温度均匀性：±1℃ 5.温控装置：富士智能PID温控仪，LED数字显示，PID自动演算及定时； 6.材质：内胆不锈钢，外箱体钢板静电喷塑； 7.传送方式：链杆、链网、自动锟轮，相当强承重； 8.复合式电加热器； 9.保护装置：漏电保护、断路保护、电机过载保护、接地保护、非正常运行情况下蜂鸣报警。

电热鼓风烤箱适用于各种产品或材料及电气、仪表、元器件、电子、电工及汽车、航空、通讯塑胶、机械、食品、化工、化学品、五金工具在恒温环境条件下作干燥和各种恒温适应性试验。下面为大家介绍一下真萍科技电热鼓风烤箱的箱体结构。 1.工作室与外箱之间的保温材质是质量超细玻璃纤维保温棉，保温厚度：＞70mm，隔温效果好，国内**，高性能的绝缘结构。从内到外有内腔、外壳、超细玻璃纤维、铝制反射铝箔片、空气夹层，内胆热量损失少。内胆外箱及门胆结构独特，极大减少了内腔热量的外传。 2.门与门框之间采用高性能密封材料及独特的橡胶密封结构，密封、耐高温性、抗老化性好。 3.箱内风道采用双循环系统，不锈钢多翼式离心风轮及循环风道组成，置于箱体背部的电加热器热量通过侧面风道向前排出，经过干燥物后再被背部的离心风轮吸入，形成合理的风道，能使热气充分对流，使箱内温度相当大限度达到均匀。提高了空气流量加热的能力，大幅改善了干燥箱的温度均匀性。 4.加热器用不锈钢电加热管，升温快，寿命长。气氛炉如何选择？合肥真萍科技告诉您。

精密鼓风烘箱适用于电子元器件、橡胶、塑料、装饰材料等行业对温度均匀性要求比较严格的实验。 真萍科技精密鼓风烤箱采用进口液晶显示控制器，产品采用综合的电磁兼容设计和人性化的菜单设计，使得设备操作完全傻瓜化，控温效果较好。高亮度宽视窗液晶显示，示值清晰、直观。微电脑智能控制。设定温度和时间后，仪表自行控制加热功率，并显示加热状态，控温精确而稳定。超温报警并自动切断加热电源。 电器控制系统： 1.电气控制元器件均采用国内**品牌“正泰” 2.电气线路设计新颖，合理布线，安全可靠 3.箱体顶部为电气控制柜，方便于集中检查维修 安全保护系统： 1.超温报警 2.欠相缺相保护 3.过电流保护 4.快速熔断器 5.接地保护合肥真萍科技告诉您气氛炉的外观设计有哪些要求。哪里有气氛炉规格尺寸

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本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱，首先简单介绍一下HMDS 预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。   增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。哪里有气氛炉规格尺寸

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