不管您参与对显示器的基础研究还是制造，Filmetrics 都能够提供您所需要的...测量液晶层- 聚酰亚胺、硬涂层、液晶、间隙测量有机发光二极管层- 发光、电注入、缓冲垫、封装对于空白样品，我们建议使用 F20 系列仪器。 对于图案片，Filmetrics的F40用于测量薄膜厚度已经找到了显示器应用***使用。
测量范例此案例中，我们成功地测量了蓝宝石和硼硅玻璃基底上铟锡氧化物薄膜厚度。与Filmetrics专有的ITO扩散模型结合的F10-RTA-EXR仪器，可以很容易地在380纳米到1700纳米内同时测量透射率和反射率以确定厚度，折射率，消光系数。由于ITO薄膜在各种基底上不同寻常的的扩散，这个扩展的波长范围是必要的。 成功测量光刻胶要面对一些独特的挑战， 而 Filmetrics 自动测量系统成功地解决这些问题。导电膜膜厚仪**测试样品
自动厚度测量系统几乎任何形状的样品厚度和折射率的自动测绘。人工加载或机器人加载均可。
在线厚度测量系统监测控制生产过程中移动薄膜厚度。高达100 Hz的采样率可以在多个测量位置得到。
附件Filmetrics 提供各种附件以满足您的应用需要。
F20 系列世界上****的台式薄膜厚度测量系统只需按下一个按钮，您在不到一秒钟的同时测量厚度和折射率。设置同样简单, 只需插上设备到您运行Windows™系统计算机的USB端口, 并连接样品平台 , F20已在世界各地有成千上万的应用被使用. 事实上，我们每天从我们的客户学习更多的应用.
选择您的F20主要取决於您需要测量的薄膜的厚度（确定所需的波长范围）
薄膜厚度测量仪膜厚仪可以免税吗采用Michaelson干涉方法，红外波段的激光能更好的穿透被测物体，准确得到测试结果。
光纤紫外线、可见光谱和近红外备用光纤。接触探头是相当坚固的，但是光纤不能经常被抽屉碰撞或者被椅子压过。该套件包括指令，以及简单的维修工具，新的和旧风格的探头。FO-PAT-SMA-SMA-200-22米长，直径200um的光纤，两端配备SMA接头。米长，分叉反射探头。
通用附件携带箱等。手提电脑手提电脑预装FILMeasure软件、XP和Microsoft办公软件。
电脑提箱用于携带F10、F20、F30和F40系统的提箱。ConflatFeedthrough真空穿通，"conflat、双出入孔SMA，并通过泄漏测试。LensPaper-CenterHole**开孔镜头纸，用于保护面朝下的样品，5本各100张。
F10-RT同时测量反射和透射以真空镀膜为设计目标，F10-RT 只要单击鼠标即可获得反射和透射光谱。 只需传统价格的一小部分，用户就能进行比较低/比较高 分析、确定 FWHM 并进行颜色分析。
可选的厚度和折射率模块让您能够充分利用 Filmetrics F10 的分析能力。测量结果能被快速地导出和打印。
包含的内容：集成光谱仪/光源装置FILMeasure 8 软件BK7 参考材料Al2O3 参考材料Si 参考材料防反光板镜头纸
额外的好处：每台系统內建超过130种材料库, 随着不同应用更超过数百种应用工程师可立刻提供帮助（周一 - 周五）网上的 “手把手” 支持 (需要连接互联网)硬件升级计划 FSM拉曼的应用：局部应力； 局部化学成分；局部损伤。
Total Thickness Variation (TTV) 应用
规格:
测量方式:
红外干涉(非接触式)
样本尺寸:
50、75、100、200、300 mm， 也可以订做客户需要的产品尺寸
测量厚度:
15 — 780 μm (单探头)
3 mm (双探头总厚度测量)
扫瞄方式:
半自动及全自动型号,
另2D/3D扫瞄(Mapping)可选
衬底厚度测量: TTV、平均值、*小值、*大值、公差...
可选粗糙度: 20 — 1000Å (RMS)
重复性:
0.1 μm (1 sigma)单探头*
0.8 μm
(1 sigma)双探头*
分辨率:
10 nm
请访问我们的中文官网了解更多关于本产品的信息。
系统测试应力的精度小于15mpa (0.03cm-1) ，全自动的200mm和300mm硅片检查，自动检验和聚焦的能力。导电膜膜厚仪**测试样品可选的厚度和折射率模块让您能够充分利用 Filmetrics F10 的分析能力。导电膜膜厚仪**测试样品
电介质成千上万的电解质薄膜被用于光学，半导体，以及其它数十个行业, 而Filmetrics的仪器几乎可以测量所有的薄膜。常见的电介质有:二氧化硅 – **简单的材料之一, 主要是因为它在大部分光谱上的无吸收性 (k=0)， 而且非常接近化学计量 (就是说，硅：氧非常接近 1:2)。 受热生长的二氧化硅对光谱反应规范，通常被用来做厚度和折射率标准。 Filmetrics能测量3nm到1mm的二氧化硅厚度。氮化硅 – 对此薄膜的测量比很多电介质困难，因为硅：氮比率通常不是3：4, 而且折射率一般要与薄膜厚度同时测量。 更麻烦的是，氧常常渗入薄膜，生成一定程度的氮氧化硅，增大测量难度。 但是幸运的是，我们的系统能在几秒钟内 “一键” 测量氮化硅薄膜完整特征!导电膜膜厚仪**测试样品
岱美仪器技术服务（上海）有限公司主要经营范围是仪器仪表，拥有一支专业技术团队和良好的市场口碑。岱美中国致力于为客户提供良好的半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪，一切以用户需求为中心，深受广大客户的欢迎。公司秉持诚信为本的经营理念，在仪器仪表深耕多年，以技术为先导，以自主产品为重点，发挥人才优势，打造仪器仪表良好品牌。岱美中国凭借创新的产品、专业的服务、众多的成功案例积累起来的声誉和口碑，让企业发展再上新高。
