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下面为大家介绍一下石墨盘**真空烤盘炉的技术指标。 1.使用温度：1450℃；比较高温度：1500℃； 2.绝热材料：石墨纤维毯、石墨纸； 3.加热元件：石墨加热棒； 4.冷却方式：气冷 + 循环风冷降温； 5.控温稳定度：±2℃，具有PID参数自整定功能； 6.炉膛温度均匀度：±5℃（恒温1500℃）； 7.气氛: 可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%； 8.极限真空: 10-3torr级； 9.抽气速率：空载下，30min达到10-2torr 10.升温功率：170kW； 11.升温速率：15℃/min（空载）； 12.降温速率：1450℃至80℃,240分钟 13.腔体尺寸：1000*1000*1000mm（宽*深*高）网带炉生产厂家哪家好？合肥真萍科技告诉您。马鞍山哪里有网带炉专卖

恒温恒湿箱试验箱是航空、汽车、家电、科研等领域必备的检测设备，用于测试电子、电工及其它产品及材料进行高温、低温、交变湿热度或恒定试验的温度环境变化参数及性能。该系列产品适用于航空航天产品、信息电子仪器仪表、材料、电工、电子产品、各种电子元气件在高低温或湿热环境下、检验其各项性能指标。下面为大家介绍一下真萍科技的恒温恒湿试验箱的构造特点。 在箱体构造方面，恒温恒湿箱是采用数控机床加工成型，造型美观大方、新颖，并采用无反作用把手，操作简便。工作室采用进口镜面板不锈钢制作而成，箱体外胆采用A3钢板喷塑。箱体外与内胆之间填充超细保温棉，隔温效果很好，有效的降低试验箱内的温度波动率，再配合抗老化硅橡胶密封条的严实密封，使箱体无雾气泄漏现象产生。由于试验箱内的环境恶劣，为观察清晰试验箱内的情况，合肥真萍在观察窗方面是选用多层钢化玻璃制作，并且在观察窗设置单独的照明灯和雾刷，保持良好的观察视野，随时监控试验情况。当然，为采集试验数据，箱体专门配置了直径50mm的测试孔，可连接记录仪，打印机和电脑烘干网带炉推荐厂家网带炉的厂家哪个好？合肥真萍科技告诉您。

超高真空烘箱广泛应用于航空、航天、电子、通讯等科研及生产单位。确定仪器仪表、电工产品、材料、零部件、设备等在低气压、高温单项或同时作用下的环境适应性与可靠性试验。下面为大家介绍一下超高真空烘箱的主要技术指标。 1.工作室温度范围：常温～ +300℃ 用户使用温度260℃ 2.温度波动度：±1.0℃（空载）； 3.温度偏差：常压温度试验：常温～200℃时±2℃ 200～300℃时±5.0℃ 低气压高温综合试验:≤100℃时±2.0℃， 100℃～200℃时±5.0℃ 200℃～300℃时±7.0℃

下面为大家介绍一下全自动HMDS真空烤箱的整机尺寸、真空腔体尺寸。 1.内胆尺寸：650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm; 2.载物托架：2块 3.室温+10℃-250℃ 控温范围：温度分辨率：0.1℃ 温度波动度：±0.5℃ 4.真空泵：油泵或无油真空泵。真空度：133pa， 5.加热方式：腔体下部及两侧加温。加热器为外置加热板（防止一侧加热使的HMDS液进入箱体内不能完本转成气态） 6.可放2寸晶圆片或4寸晶圆片；6寸晶圆片；8寸晶圆片等。 7.开箱温度可以由user自行设定来降低process时间（正常工艺在50分钟-120分钟（按产品所需而定烘烤时间），为正常工作周期不含降温时间（因降温时间为 常规降温）。合肥真萍科技的优势有哪些呢？听听小编为您介绍。

本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱，首先简单介绍一下HMDS 预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。   增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。合肥真萍科技的网带炉是否耐用？马鞍山哪里有网带炉专卖

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