不锈钢工业烤箱标准

电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏，解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线，解决液晶的受潮问题，解决线路板受潮问题。

过滤系统：

2.1 EBM 电子式EC 马达控制无尘室**FFU。

2.2 镜面不锈钢结构体。

2.3 特殊导流风道设计，风压平均，可有效提供风量，降低噪音。

2.4 电路板控制模块，提供安 全保护装置，运转异常指示灯及控制干接点输出。

2.5 无段式风量调速器可任意调整风量大小。

2.6 滤网ULPA，0.12μm，99.9995%以上的过滤效果。

2.7 电力规格：单相220V 50Hz 0.95A，输出功率150W。

下面为大家介绍一下真空干燥箱。它是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿，使工作室内形成真空状态，降低水的沸点，加快干燥的速度。

特点：

1、长方体工作室，增加有效容积，微电脑温度控制器，精确控温。

2、双层玻璃视窗观察工作室内物体，一目了然。

3、箱体闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。

4、工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成，确保产品经久耐用。

5、储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行，所以不会氧化。

真空程序分段控制

该型号机型，抽真空过程可提供程序化编程，根据客户要求编辑设定真空值，保压时间值。可实现多段抽真空和保压编程。

操作步骤

1，接通电源

2，产品送入腔体，关门

3，打开电源

4，工作温度设定好，启动加热，设备进入自动恒温状态

5，真空值和时间设定好后，启动真空泵，开始进入自动抽真空阶段

6，到达时间值后，真空泵自动关闭 小型工业烤箱供应厂家工业烤箱的定制价格。

产品名称：洁净烘箱

产品介绍：本产品是参照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造，普遍应用于电子液晶显示，LCD,CMOS,IC，医药实验室等生产及科研部门。

技术指标：

1 无尘等级：Class100：（符合FED-STD 209E标准：0.3um≤300个0.5≤100个）

2温度范围：+60℃~ +250℃（极限温度350℃）

3温度均匀性：±2℃（空箱测试）

4温度精确度：±1℃（空箱测试）

5设备型号规格:

450*450*450450*600*450600*800*600600*700*600;700*900*700;700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;1000*1300*1000;1000*1400*1000;

真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏，解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线，解决液晶的受潮问题，解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜。

洁净节能氮气柜的氮气监控系统：

1.1、2.3” LED 大屏幕数字显示湿度/温度。

1.2 、温湿度显示值0.1％-99.9％RH，温度显示值0.1℃-60.0℃。

1.3 、温湿度收集采准确传感器，长距离传输无误差。

洁净节能氮气柜的湿度控制：

2.4.1利用湿度设定值来控制氮气流入，到达湿度设定值即停止进气，节省氮气耗用。

2.4.2湿度在1％-60％RH 可调整。

合肥真萍科技告诉您工业烤箱的外观设计有哪些要求。

一、本产品广泛应用于航空、航天、电子、通讯等科研及生产单位。确定仪器仪表、电工产品、材料、零部件、设备等在低气压、高温单项或同时作用下的环境适应性与可靠性试验.

二、主要技术指标：

1、工作室温度范围：常温～ +300℃   用户使用温度260℃

2、温度波动度：    ±1.0℃（空载）；

3、温度偏差：     常压温度试验：常温～200℃时±2℃  

200～300℃时±5.0℃

低气压高温综合试验:≤100℃时±2.0℃，

100℃～200℃时±5.0℃

200℃～300℃时±7.0℃

4、 升降温速率：

升温时间：①常压时：90min（常温～ +260℃）

    ②低气压0.0001pa时：180min（常温～ +260℃）

降温时间：3℃～10℃/min（260℃～ 120℃）, 1℃～5℃/min（120℃～ 常温℃）

降温方式：水冷降温

5、试验箱承压方式：采用内承压方式

6、压力范围：     常压～0.0001Pa 合肥真萍科技工业烤箱，****。不锈钢工业烤箱标准

工业烤箱的品牌哪个好？合肥真萍科技告诉您。不锈钢工业烤箱标准

HMDS 预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。

  增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。 不锈钢工业烤箱标准

合肥真萍电子科技有限公司位于安徽省合肥市，创立于2010-04-14。公司自成立以来，以质量为发展，让匠心弥散在每个细节，公司旗下[ "洁净箱", "干燥箱", "高温无氧烤箱", "隧道炉" ]深受客户的喜爱。公司从事仪器仪表多年，有着创新的设计、强大的技术，还有一批**的专业化的队伍，确保为客户提供质量的产品及服务。在社会各界的鼎力支持下，经过公司所有人员的努力，公司自2010-04-14成立以来，年营业额达到500-700万元。