21-羟基二十一烷酸求购

在化妆品的卸妆产品中，21-羟基二十一烷酸可作为卸妆成分的辅助原料，其合成的衍生物具备良好的油脂溶解能力，可快速溶解彩妆、防晒等顽固污渍，提升卸妆产品的清洁效果，实现温和高效卸妆。该产品化学性质温和，与卸妆产品的表面活性剂体系（如卸妆油中的植物油、卸妆水的非离子表面活性剂）兼容性良好，不会对皮肤产生刺激，避免卸妆后出现皮肤紧绷、泛红等问题。产品易溶于油脂和有机溶剂，便于配方的均匀调配。存储时密封置于室温环境，避免与强氧化剂接触即可，能满足护理品生产企业的常规仓储需求。此外，该产品具备一定的保湿效果，可缓解卸妆后皮肤的干燥感，提升产品的使用体验。21-羟基二十一烷酸作为食品添加剂，保障酱料品质稳定。21-羟基二十一烷酸求购

在制药中间体合成领域，21-羟基二十一烷酸可作为关键酰化原料，其羧基功能团可与药物分子中的氨基、羟基发生特异性酰化反应，构建稳定的药物分子结构。该产品纯度高，杂质干扰小，能有效提升药物中间体的合成收率与品质稳定性。产品化学活性温和，反应条件宽松，无需极端温度或压力环境，降低了生产设备的投入成本与操作风险。存储时只需密封置于阴凉干燥处，避免与强氧化剂接触即可保持性能稳定。同时，该产品符合医药原料的质量管控标准，经过严格的安全性检测，为制药企业的中间体生产环节提供稳定可靠的原料保障，助力提升药物生产效率。21-羟基二十一烷酸求购21-羟基二十一烷酸为白色结晶粉末，可用于食品稳定剂研发生产。

作为塑料薄膜的抗静电剂原料，21-羟基二十一烷酸合成的抗静电剂可有效降低塑料薄膜的表面电阻，减少静电积累，避免灰尘吸附，提升薄膜的使用性能与外观洁净度。该产品与塑料薄膜原料的相容性良好，可均匀分散于薄膜基质中，不会影响薄膜的透明度、光泽度与力学性能。产品化学性质稳定，在薄膜加工的高温环境下不易分解，能保证抗静电效果的持久发挥。存储时密封置于干燥环境中，避免产品吸潮，即可保持性能稳定。同时，其制备的抗静电剂符合食品接触材料的安全标准，可用于食品包装用塑料薄膜的生产，保障薄膜的使用安全性。

21-羟基二十一烷酸（CAS号：2363-71-5）是一种长链羟基脂肪酸衍生物，分子式为C21H42O3，分子量330.56，外观呈白色至类白色结晶性粉末。其分子结构的主要特征为碳链末端同时携带有羟基（-OH）与羧基（-COOH）双官能团，赋予产品良好的化学反应活性，成为合成各类功能衍生物的基础原料。该产品溶解性表现为易溶于乙醇、、氯仿等有机溶剂，难溶于水，此特性使其可准确适配多数有机合成反应体系。存储条件温和，密封置于阴凉干燥环境（建议2-8℃冷藏）即可长期保持性能稳定，杂质含量可控，适用于精细化工、医药中间体等对原料纯度有明确要求的生产场景。21-羟基二十一烷酸改善磨砂膏使用肤感，降低肌肤刺激风险。

21-羟基二十一烷酸在护手霜产品中具备优异的保湿和滋润效果，其合成的保湿成分可深入皮肤角质层，补充水分，缓解手部皮肤干燥、粗糙、开裂等问题，尤其适合干燥季节或干燥环境下的手部护理。该产品化学性质温和，与护手霜的油脂、乳化剂、保湿剂等成分兼容性良好，可提升产品的滋润度、吸收性与延展性，让护手霜质地更细腻，吸收更快速。产品外观为白色结晶粉末，易于溶解和乳化，便于生产过程中的配方调配。存储时密封置于室温环境，避免阳光直射即可，能满足护理品生产企业的仓储需求。此外，该产品对皮肤无刺激性，适用于日常护手霜产品，提升产品的使用体验。21-羟基二十一烷酸用于药物制剂加工，辅助提升成分融合度。进口替代21-羟基二十一烷酸提纯

21-羟基二十一烷酸作为制药辅料，满足行业质量规范要求。21-羟基二十一烷酸求购

在有机合成的分离提纯环节，21-羟基二十一烷酸具备明显优势。其熔点稳定，通过结晶法可实现高效的分离提纯，获得高纯度的目标产物。该产品的溶解度随温度变化规律明确，低温下易结晶析出，高温下可完全溶解于有机溶剂，便于通过温度调控实现溶解与结晶过程的切换，提升分离提纯效率。产品化学性质稳定，在分离提纯过程中不易发生化学反应，能保证产物的品质稳定性。存储于2-8℃密封环境中，可保持良好的结晶状态，便于后续的使用与加工。适用于实验室小规模提纯与工业大规模生产中的分离环节，为有机合成企业提升产品纯度提供技术支撑。21-羟基二十一烷酸求购

江苏山鼎化工科技有限公司在同行业领域中，一直处在一个不断锐意进取，不断制造创新的市场高度，多年以来致力于发展富有创新价值理念的产品标准，在江苏省等地区的化工中始终保持良好的商业口碑，成绩让我们喜悦，但不会让我们止步，残酷的市场磨炼了我们坚强不屈的意志，和谐温馨的工作环境，富有营养的公司土壤滋养着我们不断开拓创新，勇于进取的无限潜力，江苏山鼎化工科技供应携手大家一起走向共同辉煌的未来，回首过去，我们不会因为取得了一点点成绩而沾沾自喜，相反的是面对竞争越来越激烈的市场氛围，我们更要明确自己的不足，做好迎接新挑战的准备，要不畏困难，激流勇进，以一个更崭新的精神面貌迎接大家，共同走向辉煌回来！