高精密环境控制设备是一款自主研发的精密环境控制产品,主要由设备主柜体、控制系统、气流循环系统、洁净过滤器、制冷(热)系统、照明系统、局部气浴等组成,为光刻机、激光干涉仪等精密测量、精密制造设备提供招高精度温湿度、洁净度的工作环境。该设备内部通过风机引导气流以一定的方向循环,控制系统对循环气流的每个环节进行处理,从而使柜内的温湿度达到超高的控制精度。温度稳定性蕞高可达±0.002°C,湿度稳定性蕞高可达±0.3%RH,洁净等级蕞高可实现 ISO class 1级。极测(南京)高精密环境控制设备确保实验结果的准确性和可靠性,满足光刻机、加速器等设备的恒温需求。浙江精密温控供应商
极测(南京)技术有限公司注重设备的稳定性和可靠性。通过严格的质量检测和优化设计,确保设备在长时间运行过程中保持稳定性能,减少故障发生的概率。同时,极测还提供完善的售后服务,及时响应客户的需求,为客户解决设备使用过程中遇到的问题。 作为精密温控设备供应商,极测(南京)始终将守护半导体制造精度作为使命。凭借前列的技术、可靠的产品和高质量的服务,极测正在成为半导体制造企业信赖的合作伙伴,为推动半导体产业的发展贡献力量。宁夏精密温控设计极测(南京)高精密环境控制设备已实现蕞高温控精度±0.002℃,洁净度十级以上。
合理的箱体结构有助于提升精密环控设备温湿度的均匀性和控制效果,例如双层保温结构、优化风道设计等,能增强精密环控设备的保温性能和控制精度。精密环控设备的外壳和内部材质应具备良好的耐磨性,部分还需要优良的保温性能,以延长精密环控设备的使用寿命。极测的精密环控柜采用合理的柜体结构设计,主柜体为内部精密组件提供稳固物理空间,同时采用可拆卸铝合金框架,方便大型设备在不同科研场所进行现场组装,其箱体采用的高质量钣金材质坚固耐用。
这款高精密环控柜是我司单独研发的精密环境控制设备,可达成ISOClass1-6级洁净度,以及±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.002℃等多级温度波动控制精度。依托全场景非标定制能力,能满足用户在温湿度稳定性、洁净度、抗微振、防磁、隔音等多方面的个性化需求。设备具备运行数据实时记录与查询功能,并配备自动安全防护系统,确保长期稳定运行。其构成包括主柜体、控制系统、气流循环系统、洁净过滤器、制冷(热)系统、照明系统及局部气浴等,专为光刻机、激光干涉仪等精密测量与制造设备,提供超高精度的温湿度及洁净度工作环境。该系统采用“外环境保障相对湿度、大环境稳定绝dui含湿量”的逻辑,通过精zhun控温实现仓内湿度达标。为满足严苛要求,采用大风量小温差设计,快速循环过滤空气并带走余热,使关键区域温度波动低至±0.002℃;同时通过多级控温(表冷盘降温+多级电加热升温),将精度从±0.1℃逐步提升至±0.002℃。光学仪器对温湿度、洁净度、抗微振等有严格的要求,主要源于光学仪器的高精密性和对生产环境的敏感性。
半导体制造:光刻工艺的“守护神”在芯片光刻环节,温度波动Jin0.1℃就足以导致光学元件热变形,造成曝光位置漂移。极测精密温控设备提供的±0.002℃恒温环境,使光刻机光学系统保持稳定,直接提升芯片良品率。在蚀刻工艺中,温湿度波动可能引发刻蚀过度或不足。精密温控设备提供的稳定环境保障了刻蚀速率的均匀性,确保芯片电路完整性。航空航天:微米级精度的幕后功臣航空发动机涡轮叶片加工中,0.05℃的温度波动可能导致机床热变形,使叶片加工精度不达标。极测精密温控设备维持的恒温环境,保障了叶片曲面精度和表面质量。在航空航天材料测试环节,设备将湿度波动精确控制在±2%RH内,满足极端严苛的测试要求。光学仪器:纯净与稳定的双重保障在光学镜片研磨中,温度波动会导致研磨盘与镜片材料热膨胀系数差异,影响镜片曲率精度。恒温环境确保研磨精度稳定。同时,洁净环境防止镜片表面污染,避免后续镀膜工序产生缺陷。新能源电池:水分与温度的双重管控在电极涂布工艺中,湿度变化会影响浆料水分含量,导致涂布不均匀。极测精密温控设备提供的±0.5%RH湿度稳定性,确保电极涂布一致性。在电池组装环节,恒温环境避免了不同材料热胀冷缩差异导致的密封不良问题。此外,晶圆在高温环境下可能会因为热膨胀而发生变形,影响成品率。电磁屏蔽精密温控配套
晶圆需要经历一系列高精度的蚀刻、涂层、光刻等工艺,这些工艺都需要在特定的温度范围内进行。浙江精密温控供应商
立式干涉仪作为精密测量的关键设备,基于光的干涉原理工作,通过测量干涉条纹变化精确测定物体长度、角度、表面平整度等参数,精度可达纳米级别。但也正因如此,其对工作环境的微小变化极为敏感。温度波动会致使干涉仪的光学元件、机械结构以及被测物体热胀冷缩,如光学镜片的热变形会改变光线传播路径,进而使干涉条纹位移,在高精度测量中引入不可忽视的误差,严重影响测量准确性与可靠性。极测微环境控制系统运用自主研发的高精密控温技术,控制输出精度达 0.1%,设备内部温度稳定性关键区域可达 +/-2mK(静态),温度水平均匀性小于 16mK/m。这一精度确保了在立式干涉仪运行时,光学元件与机械结构不受温度波动干扰,始终维持在蕞佳工作状态,微环境控制系统为精zhun测量提供稳定基础。 浙江精密温控供应商