上海精密温控棚

在半导体制造领域，每一纳米的变化都可能直接影响芯片的性能与良率。作为高精度检测的关键环节，半导体量测设备（如电子显微镜、膜厚测量仪、OCD量测等）自身对运行环境的要求也极为苛刻。环境的细微波动，都会引入测量误差。 除整体环境外，半导体量测设备通常配备高精度光学成像器件（广义上的“照相机”），其中光源，电子控制单元，运动部件等都有可能产生局部发热源，蕞终影响环境的稳定性，以及晶圆表面温度稳定性。极测（南京）技术有限公司深刻理解这一需求，凭借在微环境控制领域的深厚技术积累，专为高duan半导体量测设备设计精密环控系统，做好设备配套。系统由设备主柜体（设备维护结构模块）、洁净过滤系统、局部气浴、控制系统、气流循环系统、制冷(热)系统等组成。通过整体环境温度的精密调控，以及针对局部发热点进行局部气浴，配套控制洁净度及减振处理等，为半导体检测设备打造精密稳定，恒温洁净的运行环境。静谧运行：应用 EC 风机与高效隔音材料，运行噪音低于 45dB，避免噪音对精密操作产生干扰。上海精密温控棚

打造高“温度精度”，避免热致误差温度是影响测量精度的首要因素。极测精密环控柜采用自主研发的高精度制冷/加热控制系统，能够实现高温度精度和稳定性。蕞高将内部环境温度波动控制在极小的范围内（±2mK），确保每一次测量数据的重复性与可靠性。超净空间，避免微粒污染除了温控精度，洁净度同样至关重要。悬浮微粒一旦沉积在晶圆或设备光学镜头上，将造成缺陷或信号干扰。极测环控柜内部可维持蕞高ISO1级的超高洁净环境，有效隔绝灰尘、颗粒物等污染物，为半导体量测设备提供干净的环境，保护昂贵的光学组件和敏感样品。智能集成，一站式环境配套我们的解决方案集成了精密温控、洁净控制、湿度控制（蕞高±0.3%RH）、及抗微振功能的综合环境配套系统。支持根据您设备的特定型号和工艺要求进行非标定制，匹配不同半导体量测设备的精密需求。设备智能管理系统提供7x24小时实时数据监控与记录，所有环境参数一目了然，数据可追溯，为质量分析和故障排查提供坚实依据。北京精密温控公司光学仪器对温湿度、洁净度、抗微振等有严格的要求，主要源于光学仪器的高精密性和对生产环境的敏感性。

控温精度：提供业界前列的 ±0.002℃高精密温度控制能力，温度水平均匀性严格控制在 <16mK/m 范围内，确保测量过程的稳定性和 0.1% 的控制输出精度。

湿度与洁净协同保障：设备同时实现 ±0.5%@8h 的高湿度稳定性，杜绝因湿度问题导致的零部件腐蚀和镜片结雾风险。洁净度控制可达百级以上，关键工作区蕞高优于 ISO class3 标准，严防尘埃颗粒干扰精密光路。
全方wei环境定制：极测具备强大的全场景非标定制能力，不仅能满足严苛的温湿度稳定性需求，还能根据用户具体场景定制抗微振、防磁、隔音等综合环境参数，为干涉仪量身打造理想的工作空间。

极测（南京）微环境控制系统设备内部湿度稳定性可达 ±0.5%@8h，有效防止因湿度变化引发的光学元件发霉、机械部件生锈等问题，延长立式干涉仪使用寿命。同时，系统可实现百级以上洁净度控制，蕞高优于 ISO class3（设备工作区），避免灰尘等污染物影响光线传播与干涉条纹，为干涉仪营造超净工作空间。 智能功能助力运维极测微环境控制系统具备强大的数据实时记录查询功能。运行中的温度、湿度等关键数据自动生成曲线，便于操作人员直观掌握环境变化。微环境控制系统数据自动保存且可随时导出，运行状态与故障状态同步记录，方便进行数据分析、质量追溯与故障排查。此外，自动安全保护系统可实现故障自动保护，确保设备全天候稳定运行，减少因故障导致的测量中断。极测（南京）致力于为芯片半导体、精密光学、科研研发等领域提供定制化的高精密环境解决方案。

极测（南京）高精密水冷冷冻水机组的 “数字引擎”PT100 温度传感器与PID 控制算法形成基础控温链路，控温精度达 ±0.1℃~±0.01℃；高精密逐级控温专利设计（如分级制冷回路）进一步细化控制层级，部分机型引入自适应模糊控制算法，在激光加工、医疗设备等复杂场景中，将精密水冷冷冻水机组的控温精度提升至±0.001℃（毫 K 级）。
精密水冷冷冻水机组采用板式换热器，其微通道结构与波纹板片设计使传热系数提升 20%~40%，同时具备体积紧凑、易维护等优势；不锈钢 / 铜材质增强耐腐蚀性，适配半导体、医疗等行业对水质与洁净度的高要求；环保冷媒 R410A 的应用，更契合全球绿色制造趋势。
灵活部署：采用可拆卸铝合金框架结构，大型设备现场轻松组装，大幅节省安装成本和时间。吉林光学精密温控

此外，晶圆在高温环境下可能会因为热膨胀而发生变形，影响成品率。上海精密温控棚

极测（南京）关键技术市如何适配半导体严苛需求的？毫 K 级控温的技术密码专li级 PID + 逐级控温：通过 “超高精度工艺冷却水系统及其恒温控制方法” 专li，结合自主研发温度采集模块与多级制冷回路设计，实现对蚀刻机腔体温度的±0.001℃级控制，例如在 EUV 光刻机中，可确保光刻胶曝光时的热形变小于 1 纳米；板式换热器强化传热：微通道结构与不锈钢材质提升换热效率 30% 以上，同时避免铜离子污染（半导体行业忌用材质），满足晶圆制造对水质纯净度的要求。抗干扰与快速响应能力双压缩机冗余设计：在晶圆厂 24 小时连续生产中，单压缩机故障时备用模块可在快速自动切入，避免因停机导致的工艺中断；变频技术动态调温：通过压缩机变频调节制冷量，在芯片测试环节面对多工位负载切换时，温度恢复时间很大缩短。上海精密温控棚