配置碱性清洗液(如氢氧化钠溶液)并打入膜组件,按照酸性清洗的类似操作流程进行循环清洗 30 - 60 分钟,循环温度控制在 30℃ - 40℃。浸泡 15 - 30 分钟后排放碱性清洗液,排放和收集方式同酸性清洗液处理。再次用清水冲洗膜组件,冲洗时间约 30 - 45 分钟,确保清洗液被彻底冲洗干净...
在电力工业中,超纯水扮演着举足轻重的角色。特别是在蒸汽发电领域,锅炉用水必须是超纯水。水中的杂质,如钙、镁等离子,在高温高压的锅炉环境下会形成水垢,附着在锅炉管道内壁,降低热传递效率,增加能源消耗,甚至可能引发管道堵塞、破裂等严重安全事故。超纯水能够有效避免这些问题,保证锅炉的高效、安全运行。同时,在核电站中,超纯水用于冷却核反应堆芯,其高纯度和稳定的化学性质能够确保在极端辐射和高温条件下,有效地带走热量,维持核反应堆的稳定运行,防止放射性物质泄漏,对保障核电站的安全运行和周围环境的保护起着至关重要的作用。荧光光谱分析要求超纯水具有极低的荧光杂质。半导体超纯水生产企业
紫外线杀菌效果:紫外线杀菌是确保超纯水微生物质量的重要环节。紫外线灯的功率、波长、照射时间和水的流速等因素会影响杀菌效果。如果紫外线灯的功率不足或者水的流速过快,微生物可能无法被充分杀灭,导致超纯水微生物超标。而且,紫外线灯的使用寿命有限,随着使用时间的延长,其杀菌能力会下降,需要定期更换。工艺衔接与控制:超纯水制备过程是一个多步骤的连续过程,各个工艺环节之间的衔接和协同控制非常重要。例如,在反渗透和离子交换之间,如果中间的储存环节控制不当,可能会导致水中滋生微生物或者重新混入杂质。而且,整个制备过程中的自动化控制水平也会影响超纯水质量,精确的流量、压力、温度等参数控制可以保证每个工艺步骤的效果。半导体超纯水生产企业超纯水的生产系统需具备良好的自动化控制能力。

化学需氧量(COD)的检测方法,原理:在强酸性条件下,以重铬酸钾为氧化剂,硫酸银为催化剂,硫酸汞为氯离子掩蔽剂,加热消解水样,使水样中的有机物被氧化,剩余的重铬酸钾以试亚铁灵为指示剂,用硫酸亚铁铵溶液滴定,根据硫酸亚铁铵的消耗量计算出 COD 值。适用范围:适用于污染较严重的水和工业废水,可测定大于 50mg/L 的 COD 值,用 0.025mol/L 浓度的重铬酸钾溶液可测定 5-50mg/L 的 COD 值,但准确度较差。优点:氧化率高,再现性好,准确可靠,是国际社会普遍公认的经典标准方法。缺点:回流装置占空间大,水、电消耗大,试剂用量大,操作不便,难以大批量快速测定。
膜性能测试,清洗完成后,重新启动反渗透系统,在正常运行条件下(进水压力、温度、流量等参数稳定),连续运行 2 - 4 小时,每隔 30 分钟采集一次产水水样,检测产水的电导率、pH 值、总有机碳(TOC)含量等指标,计算脱盐率,与清洗前的膜性能数据进行对比。例如,若清洗前脱盐率为 97%,清洗后脱盐率应恢复至 96% 以上,且产水水质其他指标也应接近或优于清洗前水平。同时观察系统的运行压力,包括进水压力、产水压力和浓水压力,正常情况下,清洗后的运行压力应有所降低,如清洗前进水压力为 1.5MPa,清洗后应降至 1.3MPa 以下,且各段压力差应保持在合理范围内。产水量:清洗前后对比产水量是很直观的方法之一。如果清洗彻底,产水量应恢复到接近或达到膜元件初始性能水平。在相同的操作压力、温度和进水水质条件下,清洗后的产水量与清洗前相比,偏差应在 ±10% 以内。例如,清洗前产水量为每小时 50 立方米,清洗后产水量应在 45 - 55 立方米每小时的范围内。超纯水的分配系统需防止交叉污染与回流现象。

压力差变化:观察反渗透系统中进水压力与浓水压力之间的差值(即压力差)。清洗后,压力差应明显降低。如果压力差在清洗后没有明显变化或者反而升高,可能意味着膜表面的污染物没有被彻底清洗干净,或者膜元件内部存在堵塞情况。正常情况下,清洗后压力差应比清洗前降低 30% - 50%。例如,清洗前压力差为 0.3MPa,清洗后理想状态下应降至 0.15 - 0.21MPa。化学需氧量(COD)和总有机碳(TOC):对于处理含有机物污染的反渗透膜,检测产水中的 COD 和 TOC 含量可以判断清洗效果。清洗彻底时,产水中的 COD 和 TOC 含量应大幅降低。例如,清洗前产水 COD 含量为 5mg/L,清洗后应降低至 1mg/L 以下;TOC 含量清洗前为 3mg/L,清洗后应接近 0mg/L 或降低至极低水平,如 0.5mg/L 以下。直接观察法:在条件允许的情况下,可以拆开反渗透膜元件进行直接观察。如果膜表面的污垢、水垢、生物膜等污染物被彻底清洗干净,膜表面应恢复光洁,颜色均匀,没有明显的污渍、沉积物或变色现象。例如,对于被碳酸钙垢污染的膜,清洗彻底后膜表面的白色结垢应完全消失。超纯水的储存与使用过程需防止静电产生。半导体超纯水生产企业
超滤工艺可有效去除超纯水中大分子有机物与胶体。半导体超纯水生产企业
反渗透技术已经相当成熟,设备运行相对稳定。只要操作条件(如压力、温度、进水水质等)控制在合适的范围内,反渗透系统能够持续、稳定地去除有机污染物。而且,现代的反渗透设备通常配备有自动化的监测和控制系统,可以实时监测设备的运行参数,如膜通量、进水和出水的水质、压力变化等,及时发现并处理问题。例如,当膜通量下降到一定程度时,系统可以自动启动清洗程序,恢复膜的性能。经过反渗透处理后的水,水质得到明显改善,能够满足许多对水质要求较高的应用场景。对于超纯水制备来说,反渗透后的水在有机污染物含量、离子浓度等方面都很明显的降低,为后续的精处理步骤(如离子交换、超滤等)提供了品质很好的进水。例如,在制药行业中,反渗透后的水可以作为制备注射用水的前期处理水,其较低的有机污染物含量有助于保证终药品的质量和安全性。半导体超纯水生产企业
配置碱性清洗液(如氢氧化钠溶液)并打入膜组件,按照酸性清洗的类似操作流程进行循环清洗 30 - 60 分钟,循环温度控制在 30℃ - 40℃。浸泡 15 - 30 分钟后排放碱性清洗液,排放和收集方式同酸性清洗液处理。再次用清水冲洗膜组件,冲洗时间约 30 - 45 分钟,确保清洗液被彻底冲洗干净...
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